JPH043866B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH043866B2
JPH043866B2 JP1413787A JP1413787A JPH043866B2 JP H043866 B2 JPH043866 B2 JP H043866B2 JP 1413787 A JP1413787 A JP 1413787A JP 1413787 A JP1413787 A JP 1413787A JP H043866 B2 JPH043866 B2 JP H043866B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
image
weight
photosensitive layer
silicone rubber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1413787A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS62294246A (en
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JPS62294246A publication Critical patent/JPS62294246A/en
Publication of JPH043866B2 publication Critical patent/JPH043866B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は水なし平版の製版用処理液に関するも
のであり、特に低温時の塩基処理および現像性に
優れた水なし平版用処理液に関するものである。 [従来技術] 感光層、シリコーンゴム層からなる水なし平版
印刷版としては、種々のものが知られている。中
でも、支持体上にキノンジアジド構造を含む物質
を構成成分とする感光層およびシリコーンゴム層
をこの順に設けてなる画像形成用積層体を塩基処
理することによつて、ネガ、ポジ両性タイプの水
なし平版印刷版を得る方法は、特開昭59−17552
に開示されているように、水なし平版印刷版の画
像再現性、耐溶剤性、現像性などを含めた現像ラ
チチユードを広げ、かつネガ型とポジ型の版が同
一の版材からできること等の優れた特徴を有して
いる。これらの特許に記載されている塩基処理方
法としては、無機塩基または有機塩基を単独ある
いは混合して、気相あるいは液状で用い、液状の
場合には、水または公知の有機溶剤を溶媒として
用いることが提案されている。 これらの従来技術による水なし平版製版用処理
液において、有機溶剤と有機塩基からなる塩基処
理液が好ましく用いられている。しかしながら、
冬期のような低温時には、塩基処理効果が著しく
低下するため、処理時間が長くかかつたり、現像
性が低下するなどの欠点がある。また塩基処理不
足のため、非画像部のシリコーンゴム層に傷が入
つたり、部分的に剥離が起つたりするなどの欠点
もある。 [発明が解決しようとする問題点] 本発明者らは、かかる問題点を改良すべく鋭意
検討した結果、極性溶剤と特定のアミンを主体と
する処理液が好適であることを見出し、本発明に
到達した。 本発明の目的は上記の問題点である低温時にお
ける塩基処理効果を増大させ、処理時間の短縮お
よび非画像部の剥離などを押え、現像性の良好な
水なし平版製版用処理液を提供するものである。 [問題点を解決するための手段] すなわち、本発明は支持体上にキノンジアジド
構造を含む物質を構成成分とする感光層およびシ
リコーンゴム層をこの順に塗設してなる水なし平
版の製版用処理液において、該処理液が極性溶剤
と下記一般式[]で表わされるアミンから主と
してなることを特徴とする水なし平版製版用処理
液に関するものである。 ここでR:炭素数1〜10のアルキル基 n:1〜5の整数 本発明に係る水なし平版製版用処理液は、水な
し平版印刷用原版を露光後、現像に先立つて前処
理する場合に使用されるが、そのまま現像液とし
て用いることもできる。また現像後に処理する場
合にも使用される。 上記一般式[]で表わされる有機アミンは、
極性溶剤と相溶性がよく、かつ、低温時に塩基処
理効果の大きいものである。 本発明において使用可能なアミンとしては、N
−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノー
ルアミン、N−n−ブチルエタノールアミン、3
−ヒドロキシプロピルメチルアミン、4−ヒドロ
キシブチルメチルアミンなどが挙げられる。 本発明の処理液において使用される極性溶剤と
しては、下記のものが単独あるいは混合して用い
られる。 アルコール類(メタノール、エタノール、n−
プロパノール、イソプロパノール、3−メトキシ
ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノー
ル、2−メチルペンタノール−1、ジアセトンア
ルコール、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、プロピレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、トリプロピレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、
オクチレングリコールなど)。 エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエー
テル、エチレングリコールジエチルエーテル、エ
チレングリコールジ−n−ブチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレン
グリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリ
コールジメチルエーテル、トリエチレングリコー
ルジエチルエーテル、トリエチレングリコールジ
−n−ブチルエーテル、テトラエチレングリコー
ルジメチルエーテル、テトラエチレングリコール
ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル、フロピレングリコールモノエチル
エーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、ポリプロピレングリコールモノメチルエ
ーテルなど)。 ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセ
トニルアセトンなど)。 上記した極性溶剤の中では、下記一般式[] RO―(CH2CH2O―)oR [] ここでR:炭素数1〜10のアルキル基 n:1〜6の整数 で表わされる極性溶剤、例えば エチレングリコールジメチルエーテル、エチレ
ングリコールジエチルエーテル、エチレングリコ
ールジ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールジ−n−
ブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエ
ーテル、トリエチレングリコールジ−n−ブチル
エーテル、テトラエチレングリコールジメチルエ
ーテル、テトラエチレングリコールジエチルエー
テルが好ましく用いられる。 処理液中に配合されるアミンの量は、極性溶剤
に対して0.1〜50重量%添加するのが塩基処理効
果の発現性と画像再現性の点で効果的であり、特
に0.5〜35重量%が最も好ましい。 処理液として用いる場合、処理液中に、ぬれ性
向上およびアミン成分の溶解性向上のため界面活
性剤を添加することもできる。また処理液でその
まま現像する場合は、検版性向上のため、例えば
ネプチユンブルーベース627(BASF社製)、アイ
ゼンビクトリアブルーBH、アイゼンマリーン
RNX(保土谷化学(株)製)等の染料等を処理液中に
加えることもできる。 また処理液中には極性溶剤に対して40重量%以
下の脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、ガ
ソリン、灯油、“アイソパー”Hなど)または水
を添加してもよい。 本発明で用いられる支持体は特に限定されない
が、通常の水なし平版印刷版で用いられるもの、
あるいは提案されているものならば、いずれでも
よい。 例えば、アルミ、鉄、亜鉛のような金属板およ
びポリエステル、ポリオレフイン、ポリスチレン
のような透明または不透明なプラスチツクフイル
ム、あるいは両者の複合体などが挙げられる。こ
れらのシート上にハレーシヨン防止その他の目的
でさらに樹脂層などをコーテイングして支持体と
することも可能である。 本発明にいう感光層とは、公知のキノンジアジ
ド構造を含む物質から構成されているものであ
り、キノンジアジド構造を含む物質とは、通常ポ
ジ型PS版、ワイポン版、フオトレジストなどに
用いられているキノンジアジド類である。 かかるキノンジアジド類としては、例えばベン
ゾキノン−1,2−ジアジド−4−または−5−
スルホン酸とポリヒドロキシフエニルとのエステ
ル、ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−また
は−5−スルホン酸とピロガロールアセトン樹脂
とのエステル、ナフトキノン−1,2−ジアジド
−4−または−5−スルホン酸とフエノールホル
ムアルデヒドノボラツク樹脂またはカシユ変性ノ
ボラツク樹脂とのエステルが挙げられる。また低
分子量のキノンジアジド化合物(例えば、ナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸と、
フエノール、クレゾール、キシレノール、カテコ
ール、ピロガロールおよびビスフエノールAなど
とのエステル化物など)または上記のキノンジア
ジド基を含む樹脂に感光性基を含まないノボラツ
ク樹脂(例えば、フエノール、クレゾール、キシ
レノール、カテコールおよびピロガロールなどの
フエノール類とホルムアルデヒド類とを酸性触媒
存在下に縮合させて得られる可溶可融性樹脂な
ど)を単に混合してもよい。さらに特開昭56−
80046号公報で提案されているようなキノンジア
ジド類を多官能化合物で架橋せしめた光剥離性感
光層が挙げられる。 架橋剤としては、多官能性イソシアナート類、
例えば、パラフエニレンジイソシアナート、2,
4−または2,6−トリレンジイソシアナート、
4,4′−ジフエニルメタンジイソシアナート、ヘ
キサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイ
ソシアナートもしくはこれらのアダクト体など、
あるいは多官能エポキシ化合物、例えば、ポリエ
チレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、
ビスフエノールAジグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパントリグリシジルエーテルなどが
ある。これらの熱硬化は感光性物質の感光性を失
わせない範囲、通常130℃以下で行なうことが好
ましく、このため通常触媒等が併用される。 またキノンジアジド類に単官能化合物を反応さ
せて変性し、現像液に難溶もしくは不溶にする方
法としては、同様に該キノンジアジド類の活性な
基を例えばエステル化、アミド化、ウレタン化す
ることなどが挙げられる。キノンジアジド類の活
性な基と反応させる化合物としては、低分子であ
つても比較的高分子であつてもよいし、キノンジ
アジド類にモノマをグラフト重合させてもよい。 本発明で用いられる感光層として特に好ましい
ものは、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラ
ツク樹脂の部分エステル化物を多官能もしくは単
官能イソシアネートで架橋もしくは変性して得ら
れたものである。 感光層の厚さは約0.1〜100μ、好ましくは約0.5
〜10μが適当である。薄すぎると塗工時にピンホ
ール等の欠陥が生じ易くなり、一方厚すぎると経
済的見地から不利である。 また感光層中には本発明の効果を損わない範囲
で塗膜形成性の向上や支持体との接着性向上など
の目的で他の成分を加えたりすることは可能であ
る。 本発明に用いられるシリコーンゴム層は、次の
ような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万
の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものが
好ましく使用される。 ここでnは2以上の整数、R,R′は炭素数1
〜10のアルキル基、アルケニル基あるいはフエニ
ル基であり、R,R′の60%以上がメチル基であ
るものが好ましい。 この線状有機ポリシロキサンは通常架橋剤が添
加される。架橋剤としては、いわゆる室温(低
温)硬化型のシリコーンゴムに使われるものとし
て、アセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランな
どがあり、通常線状有機ポリシロキサンとして末
端が水酸基であるものと組合せて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これら
のシリコーンゴムには、更に触媒として少量の有
機スズ化合物等を添加してもよい。 シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好
ましくは約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合
は耐刷力の点で問題を生じることがあり、一方厚
すぎる場合は経済的に不利であるばかりでなく現
像時シリコーンゴム層を除去するのが困難とな
り、画像再現性の低下をもたらす。 本発明に用いられる印刷版において、支持体と
感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、
画像再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとり
非常に重要であるので、必要に応じて各層間に接
着剤層を設けたり、各層に接着改良性成分を添加
したりすることが可能である。特に感光層とシリ
コーンゴム層間の接着力のために、層間に公知の
シリコーンプライマやシランカツプリング剤層を
設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層にシ
リコーンプライマやシランカツプリング剤を添加
すると効果的である。 以上説明したようにして構成された水なし平版
印刷原版の表面に薄い保護フイルムをラミネート
することもできる。 本発明で用いられる水なし平版印刷版原版は、
例えば次のようにして製造される。まず支持体上
に、リバースロールコータ、エアナイフコータ、
メーヤバーコータなどの通常のコータ、あるいは
ホエラのような回転塗布装置を用い、感光層を構
成すべき組成物溶液を塗布、乾燥および必要に応
じて熱キユア後、必要ならば該感光層の上に同様
な方法で接着層を塗布、乾燥してからシリコーン
ガム溶液を感光層または接着層上に同様の方法で
塗布し、通常50〜130℃の温度で数分間熱処理し
て、十分に硬化せしめてシリコーンゴム層を形成
する。必要ならば、保護フイルムを該シリコーン
ゴム層上にラミネーター等を用いカバーする。 このようにして得られた水なし平版印刷原版に
ポジフイルムまたはポジ原画、あるいはネガフイ
ルムまたはネガ原画を用いて画像露光を与えて現
像を行うと水なし平版印刷版が得られる。 かかる水なし平版印刷原版の製版方法としては
次のようなものが挙げられる。例えば、ポジ型の
水なし平版印刷原版として用いる場合、真空密着
されたポジフイルムまたはポジ原画を通して、活
性光線で感光層中のキノンジアジド構造を含む物
質のキノンジアジド単位の5〜60モル%が光分解
するように画像露光を与えて、塩基処理と現像を
行なうと、水なし平版印刷版が得られる。 一方、ネガ型の水なし平版印刷原版として用い
る場合、真空密着されたネガフイルムまたはネガ
原画を通して、活性光線で通常の画像露光(感光
層中のキノンジアジド構造を含む物質のキノンジ
アジド単位の60モル%を越える量が光分解する露
光量)を与えてから、塩基処理後に現像、塩基処
理と同時に現像、または現像後に塩基処理を行な
うと水なし平版印刷版が得られる。より好ましく
は、通常の画像露光の前か後、または現像後に非
画線部の感光層中のキノンジアジド構造を含む物
質のキノンジアジト単位の5〜60モル%が光分解
するように画像部を含めて全面露光を与えてか
ら、塩基処理後に現像、塩基処理と同時に現像、
または現像後に塩基処理を行なうとよい。 この露光工程で用いられる光源は、紫外線を豊
富に発生するものであり、水銀灯、カーボンアー
ク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、
螢光灯などを使うことができる。さらに紫外線以
外にもレーザー光等が用いられる。 本発明の処理液による塩基処理方法としては、
次のような方法が挙げられる。 A ネガ型 (1) 全面露光→画像露光→塩基処理→現像 (2) 画像露光→全面露光→塩基処理→現像 (3) 全面露光→画像露光→現像と同時に塩基処
理 (4) 画像露光→全面露光→現像と同時に塩基処
理 (5) 全面露光→画像露光→現像→塩基処理 (6) 画像露光→全面露光→現像→塩基処理 (7) 画像露光→現像→全面露光→塩基処理 (8) 画像露光→現像→塩基処理 (9) 画像露光→塩基処理→現像 (10) 画像露光→現像と同時塩基処理 B ポジ型 (1) 画像露光→塩基処理→現像 処理方法としては、本発明の処理液に浸漬する
か、あるいはハケやパツドを用いて処理液で均一
に版面をぬらすか、また自動現像機のようにシヤ
ワー方法で版面をぬらせばよい。 処理時間は特に限定されず、アミン化合物の強
さと濃度によつて適宜選択できるが、通常処理液
にふれると即時に効果があらわれ、かつ長時間接
触させても何ら効果に変化はない。通常約10秒〜
5分程度でよい。 本発明の処理液において用いられる現像液とて
は、水なし平版印刷版において通常提案されてい
るものが使用できる。例えば、水、水に下記の極
性溶剤を添加したもの、脂肪族炭化水素類(ヘキ
サン、ヘプタンあるいはガソリン、灯油など)に
下記の極性溶剤を添加したものが好適である。 アルコール(メタノール、エタノールなど) エーテル類(エチルセロソルブ、エチルカルビ
トール、ブチルカルビトールなど) エステル類(セロソルブアセテート、カルビト
ールアセテートなど) また本発明の処理液でそのまま現像することも
可能である。 塩基処理した版の表面を上記の現像液を用い
て、現像用パツドあるいはブラシなどでこする
と、ネガ型水なし平版印刷原版として利用する場
合、露光部のシリコーンゴム層が除去され、イン
キ受容部となる感光層が露出する。一方、ポジ型
水なし平版印刷原版として利用する場合、未露光
部のシリコーンゴム層が除去され、インキ受容部
となる感光層が露出する。 以下に実施例によつて本発明をさらに詳しく説
明する。 [実施例] 実施例1〜2、比較例1〜2 厚さ0.3mmのアルミ板(住友軽金属(株)製)に下
記のプライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱
処理して5μのプライマ層を設けた。 ポリウレタン樹脂(サンプレンLQ−T1331、
三洋化成工業(株)製) 100重量部 ブロツクイソシアネート(タケネートB830、
武田薬品(株)製) 20重量部 エポキシ・フエノール・尿素樹脂(SJ9372、
関西ペイント(株)製) 8重量部 ジメチルホルムアミド 725重量部 続いてこの上に下記の感光層組成物をバーコー
タを用いて塗布し、110℃の熱風中で1分間乾燥
して厚さ2μの感光層を設けた。 ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スル
ホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラツ
ク樹脂(住友デユレズ製:スミライトレジン
PR50622)の部分エステル(元素分析法による
エステル化度25%) 100重量部 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアネート
40重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 4,4′−ジエチルアミノベンゾフエノン
5重量部 P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 ついでこの感光層の上に次の組成を有するシリ
コーンゴム組成物を回転塗布後、115℃、露点30
℃、3.5分間湿熱硬化させて2.3μのシリコーンゴ
ム層を設けた。 ポリジメチルシロキサン(分子量約25000、
末端OH基) 100重量部 ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シ
ラン 8重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.5重量部 “アイソパー”E(エクソン化学(株)製)
1400重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μ
のポリプロピレンフイルム“トレフアン”(東レ
(株)製)をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、水なし平版印刷原版を得た。 かかる印刷原版にメタルハライドランプ(岩崎
電気(株)製アイドルフイン2000)を用い、UVメー
ター(オーク製作所製、ライトメジヤータイプ
UV−402A)で11mw/cm2の照度で6秒間全面露
光を施した。 上記のようにして得られた印刷原版に150線/
インチの網点画像を持つネガフイルムを真空密着
し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの
距離から60秒間画像露光した。 次いで上記の露光済版の“トレフアン”を剥離
して、表1に挙げた各種組成の処理液を満たした
平型バツトに、14℃の液温条件で、表1に示した
時間浸漬する。浸漬後ゴムスキージで版面および
裏面に付着した処理液を除去し、次いで版面と現
像パツドに現像液(水/ブチルカルビトール/2
−エチル酪酸/クリスタルバイオレツト=70/
30/2/0.2重量比)を注ぎ、現像パツドで版面
を軽くこすると、画像露光された部分のシリコー
ンゴム層が除去され、感光層表面が露出した。一
方、全面露光のみがなされた部分はシリコーンゴ
ム層が強固に残存しており、ネガフイルムを忠実
に再現した画像が得られた。この印刷版をオフセ
ツト印刷機に取り付け、東洋インキ(株)製“東洋キ
ングウルトラTKUアクワレスGアイPL”を用い
て印刷を行ない、網点再現性を評価した。網点再
現性を表1に示す。 表1から明らかなごとく、本発明に基づく実施
例1〜2の場合、低温条件にもかかわらず、網点
再現性が良好である上、版面の損傷による微小欠
点も全く認められなかつた。 一方、比較例1で用いた極性溶剤とアミンを組
合せた処理液では、網点再現性が著しく悪く、塩
基処理不足のために印刷物の非画像部(白ベた
部)に点状およびスリ傷状の欠点が発生した。ま
た比較例2のように処理時間を長くすると、網点
再現性が良好であり、版面の損傷による欠点も認
められないものとなつたが、本発明の処理液を使
用した場合に比べて3.5倍〜7倍もの長い処理時
間を必要とし、作業性が極めて悪いものであつ
た。 実施例 3 実施例1で得られた平版印刷原版に、メタルハ
ライドランプを用いて、11mw/cm2の照度で全面
露光を6秒間施した。 上記の全面露光して得られた水なし平版印刷原
版に、150線/インチ、1%から99%の網点を有
するグラデーシヨンネガフイルムを真空密着し、
メタルハライドランプを用い、1mの距離から60
秒間画像露光した。 次いで、カバーフイルムを剥離し、室温13℃の
条件でジエチレングリコールジメチルエーテル/
N−メチルエタノールアミン=92/8(重量比)
からなる処理液に1分間浸漬した。浸漬後、現像
パツドに上記の処理液を含ませて版面をこすると
画像露光された部分のシリコーンゴム層が除去さ
れ、感光層が露出した。 一方、全面露光のみされた部分にシリコーンゴ
ム層が強固に残存している。この印刷版をオフセ
ツト印刷機に取り付け、大阪インキ(株)製“WLP
プロセスU紅”を用いて印刷をしたところ、低温
の処理条件にもかかわらず、2〜98%の網点を再
現しており、かつ版面の損傷による微小欠点は全
く認められなかつた。 実施例 4 実施例1と同様の方法で作製した全面露光を施
していない水なし平版印刷原版に150線/インチ
の2%から98%の網点を有するグラデーシヨンポ
ジフイルムを常法に従つて真空密着し、実施例1
で用いたメタルハライドランプを用いて、1mの
距離で実施例1で用いたUVメーターで11mw/
cm2の照度で9秒間露光した。 次いで、カバーフイルムを剥離し、室温13℃の
条件でジエチレングリコールジメチルエーテル/
N−メチルエタノールアミン=92/8(重量比)
からなる処理液に満たした平型パツドに1分間浸
漬する。浸漬後、ゴムスキージで版面および裏面
に付着した処理液を除去し、次いで現像パツドに
現像液(水/ブチルカルビトール=40/60重量
比)を含ませて版面をこすると、未露光部のシリ
コーンゴム層が除去されて感光層表面が露出し、
画像部を形成した。一方、露光部のシリコーンゴ
ム層は現像液に浸されずに残り、非画像部を形成
した。 この印刷版を用いて、実施例1と同様の条件で
印刷したところ、網点再現性は5%〜96%で、微
小欠点や現像パツドによるスリ傷状の欠点のない
印刷物が得られた。 実施例 5 化成処理アルミ板(住友軽金属(株)製)にエステ
ル化度44%のフエノールホルムアルデヒドノボラ
ツク樹脂(住友デユレズ(株):スミライトレジン
PR50235)のナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸エステル(エタノール可溶性成分
9.7重量%、エステル化度はIRスペクトルから定
量)の3重量%ジオキサン溶液をホエラーで回転
塗布後、60℃で3分間乾燥させて厚さ1.2μの感光
層を得た。この感光層の上に次の組成を有するシ
リコーンガム組成物の7%アイソパーE溶液に、
シリコーン組成物に対し4重量%のγ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン(UCC製:A1100)を
添加し、均一に撹拌後ホエラーで塗布した。乾燥
後120℃、露点25℃、4分間加熱硬化させて厚さ
2,2μのシリコーンゴム層を得た。 ポリジメチルシロキサン(分子量約80000、
両末端OH基) 100重量部 エチルトリアセトキシシラン 5重量部 ブチル錫ジアセテート 0.2重量部 上記のようにして得られた水なし平版印刷原版
に150線/インチの網点画像を持つネガフイルム
を真空密着し、実施例1で用いたメタルハライド
ランプで、1mの距離から60秒間画像露光した。
露光された版の版面をエタノール/“アイソパー
E”=80/20(重量比)からなる現像液で軽くこす
ると、画像露光した部分はシリコーンゴム層と感
光層の両方が容易に除去されて化成処理アルミ表
面が露出し、ネガフイルムを忠実に再現した画像
が得られた。 上記の製版された版をメタルハライドランプを
用い、1mの距離で実施例1のUVメーターで11
mw/cm2の照度下、10秒間全面露光(感光層中の
キノンジアジドの25モル%が光分解してカルボン
酸成分を生成する光量)した後、エタノール/
“アイソパー”E/N−メチルエタノールアミン
=63/30/7(重量比)からなる処理液で1分間
浸漬処理し、水洗乾燥した。得られた版が塩基処
理によつて十分定着されているかどうかを確認す
るために、さらに上記のメタルハライドランプで
1mの距離から60秒間全面露光した後、エタノー
ル/“アイソパーE”=80/20(重量比)からなる
現像液を含ませた現像パツドで擦つても、非画像
部のシリコーンゴム層は全く損傷を受けず、塩基
処理による定着効果は十分であつた。 実施例 6 実施例5の感光液を次の組成に置き換える以外
は全く同様な方法で、水なし平版印刷原版を作製
した。即ちフエノールホルムアルデヒドノボラツ
ク樹脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸エステル8重量部とフエノールノボラ
ツク樹脂2重量部を200重量部のジオキサンに溶
解し、感光液を調整した。感光層の厚みは1.7
g/m2であつた。 次に実施例5と同様な方法で未定着の印刷版を
製版した。この版を実施例1記載のメタルハライ
ドランプを用いて10秒間全面露光した。次いでエ
タノール/“アイソパー”E/N−メチルエタノ
ールアミン=63/30/7(重量比)からなる処理
液で1分間浸漬処理し、水洗乾燥した。 実施例5と同様な方法で定着が行われたか否か
確認したところ、非画像部のシリコーンゴム層は
全く損傷を受けていないことがわかつた。すなわ
ち、非画像部は完全に定着されていた。 [発明の効果] 本発明による水なし平版製版用処理液により、
次のような効果が達成される。 (1) 冬期のような低温時にも塩基処理効果が強
く、非画像部シリコーンゴム層を損傷すること
なく、シヤープな画像を再現できる。 (2) 処理時間が短縮でき、作業性が向上する。 【表】
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a processing solution for waterless lithography, and particularly to a processing solution for waterless lithography that has excellent base processing and developability at low temperatures. It is. [Prior Art] Various types of waterless lithographic printing plates comprising a photosensitive layer and a silicone rubber layer are known. In particular, by base-treating an image-forming laminate consisting of a support and a photosensitive layer containing a substance containing a quinonediazide structure and a silicone rubber layer provided in this order, water-free negative and positive amphoteric types can be obtained. The method for obtaining a lithographic printing plate is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-17552.
As disclosed in , the development latitude of waterless lithographic printing plates including image reproducibility, solvent resistance, developability, etc. has been expanded, and negative and positive plates can be made from the same plate material. It has excellent characteristics. The base treatment methods described in these patents include using an inorganic base or an organic base alone or in a mixture in a gas phase or liquid state, and in the case of a liquid state, using water or a known organic solvent as a solvent. is proposed. Among the processing liquids for waterless lithography according to these prior art techniques, a basic processing liquid consisting of an organic solvent and an organic base is preferably used. however,
At low temperatures such as in winter, the effect of base treatment is significantly reduced, resulting in drawbacks such as longer processing times and lower developability. Furthermore, due to insufficient base treatment, there are also drawbacks such as scratches in the silicone rubber layer in non-image areas and partial peeling. [Problems to be Solved by the Invention] As a result of intensive studies aimed at improving these problems, the present inventors found that a treatment liquid mainly containing a polar solvent and a specific amine is suitable. reached. The purpose of the present invention is to provide a processing solution for waterless lithographic plate making that increases the effect of base treatment at low temperatures, shortens processing time, suppresses peeling of non-image areas, and has good developability. It is something. [Means for Solving the Problems] That is, the present invention provides a plate-making process for a waterless lithographic plate in which a photosensitive layer containing a substance containing a quinonediazide structure and a silicone rubber layer are coated on a support in this order. The present invention relates to a waterless lithographic processing solution, characterized in that the processing solution mainly consists of a polar solvent and an amine represented by the following general formula []. where R: an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms n: an integer of 1 to 5 The waterless lithographic platemaking processing liquid according to the present invention is used when a waterless lithographic printing original plate is pretreated after exposure and prior to development. It is used as a developer, but it can also be used as it is as a developer. It is also used for processing after development. The organic amine represented by the above general formula [] is
It has good compatibility with polar solvents and has a large base treatment effect at low temperatures. Amines that can be used in the present invention include N
-Methylethanolamine, N-ethylethanolamine, N-n-butylethanolamine, 3
-hydroxypropylmethylamine, 4-hydroxybutylmethylamine, and the like. As the polar solvent used in the treatment liquid of the present invention, the following can be used alone or in combination. Alcohols (methanol, ethanol, n-
Propanol, isopropanol, 3-methoxybutanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, 2-methylpentanol-1, diacetone alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, hexylene glycol,
octylene glycol, etc.). Ethers (dioxane, tetrahydrofuran, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol di-n-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol di-n-butyl ether, triethylene glycol dimethyl ether) , triethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol di-n-butyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether , polypropylene glycol monomethyl ether, etc.). Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, acetonylacetone, etc.). Among the above-mentioned polar solvents, the following general formula [] RO-(CH 2 CH 2 O-) o R [] where R: alkyl group having 1 to 10 carbon atoms n: polarity represented by an integer from 1 to 6 Solvents, such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol di-n-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol di-n-
Butyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol di-n-butyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, and tetraethylene glycol diethyl ether are preferably used. Regarding the amount of amine added to the processing solution, it is effective to add 0.1 to 50% by weight based on the polar solvent in terms of the expression of the base treatment effect and image reproducibility, especially 0.5 to 35% by weight. is most preferred. When used as a treatment liquid, a surfactant may be added to the treatment liquid to improve wettability and solubility of the amine component. In addition, when developing as is with a processing solution, in order to improve the plate inspection properties, for example, Neptiyun Blue Base 627 (manufactured by BASF), Eisen Victoria Blue BH, Eisen Marine, etc.
A dye such as RNX (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) can also be added to the treatment solution. In addition, an aliphatic hydrocarbon (hexane, heptane, gasoline, kerosene, "Isopar" H, etc.) or water may be added to the treatment liquid in an amount of 40% by weight or less based on the polar solvent. The supports used in the present invention are not particularly limited, but include those used in ordinary waterless lithographic printing plates,
Alternatively, any of the proposed methods may be used. Examples include metal plates such as aluminum, iron, and zinc; transparent or opaque plastic films such as polyester, polyolefin, and polystyrene; and composites of both. It is also possible to further coat these sheets with a resin layer or the like for prevention of halation or other purposes to form a support. The photosensitive layer referred to in the present invention is composed of a substance containing a known quinonediazide structure, and the substance containing a quinonediazide structure is one commonly used in positive PS plates, Wipon plates, photoresists, etc. They are quinonediazides. Such quinonediazides include, for example, benzoquinone-1,2-diazide-4- or -5-
Esters of sulfonic acid and polyhydroxyphenyl, esters of naphthoquinone-1,2-diazide-4- or -5-sulfonic acid and pyrogallolacetone resin, naphthoquinone-1,2-diazide-4- or -5-sulfone Esters of acids and phenol formaldehyde novolac resins or oak-modified novolac resins may be mentioned. Also, low molecular weight quinonediazide compounds (for example, naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid,
esters with phenol, cresol, xylenol, catechol, pyrogallol, bisphenol A, etc.) or novolak resins that do not contain photosensitive groups in the resins containing the above quinonediazide groups (e.g., phenol, cresol, xylenol, catechol, pyrogallol, etc.) (such as a soluble resin obtained by condensing phenols and formaldehyde in the presence of an acidic catalyst) may be simply mixed. Furthermore, JP-A-56-
Examples include a photoreleasable photosensitive layer in which quinone diazides are crosslinked with a polyfunctional compound, as proposed in Japanese Patent No. 80046. As a crosslinking agent, polyfunctional isocyanates,
For example, paraphenylene diisocyanate, 2,
4- or 2,6-tolylene diisocyanate,
4,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate or adducts thereof, etc.
Or polyfunctional epoxy compounds, such as polyethylene glycol diglycidyl ethers, polypropylene glycol diglycidyl ethers,
Examples include bisphenol A diglycidyl ether and trimethylolpropane triglycidyl ether. It is preferable that these thermal curing be carried out at a temperature of 130° C. or less, which is such that the photosensitivity of the photosensitive material is not lost, and for this reason, a catalyst or the like is usually used in combination. In addition, methods for modifying quinonediazides by reacting them with monofunctional compounds to make them poorly soluble or insoluble in developing solutions include esterifying, amidating, or urethanizing the active groups of the quinonediazides. Can be mentioned. The compound to be reacted with the active group of the quinonediazide may be a low-molecular compound or a relatively high-molecular compound, or a monomer may be graft-polymerized to the quinonediazide. A particularly preferred photosensitive layer for use in the present invention is naphthoquinone-1,2-diazide-5-
It is obtained by crosslinking or modifying a partially esterified product of sulfonic acid and phenol formaldehyde novolak resin with a polyfunctional or monofunctional isocyanate. The thickness of the photosensitive layer is about 0.1-100μ, preferably about 0.5
~10μ is appropriate. If it is too thin, defects such as pinholes are likely to occur during coating, while if it is too thick, it is disadvantageous from an economic standpoint. Further, it is possible to add other components to the photosensitive layer for the purpose of improving coating film forming properties and adhesion to the support within a range that does not impair the effects of the present invention. The silicone rubber layer used in the present invention is preferably one whose main component is a linear organic polysiloxane having the following repeating units and having a molecular weight of several thousand to several hundred thousand. Here, n is an integer of 2 or more, and R and R' have 1 carbon number.
-10 alkyl groups, alkenyl groups or phenyl groups, and those in which 60% or more of R and R' are methyl groups are preferred. A crosslinking agent is usually added to this linear organic polysiloxane. Crosslinking agents used in so-called room temperature (low temperature) curing silicone rubber include acetoxysilane, ketoxime silane, alkoxysilane, aminosilane, amidosilane, etc., and are usually linear organic polysiloxanes with hydroxyl groups at the ends. In combination with these, silicone rubbers of the deacetate type, oxime type, alcohol deal type, deamine type, and deamid type are obtained, respectively. A small amount of an organic tin compound or the like may be added as a catalyst to these silicone rubbers. The appropriate thickness of the silicone rubber layer is approximately 0.5 to 100μ, preferably approximately 0.5 to 10μ; if it is too thin, it may cause problems in terms of printing durability, while if it is too thick, it is economically disadvantageous. Not only this, but also it becomes difficult to remove the silicone rubber layer during development, resulting in a decrease in image reproducibility. In the printing plate used in the present invention, the adhesion between the support and the photosensitive layer, and between the photosensitive layer and the silicone rubber layer is as follows:
Since it is very important for basic plate performance such as image reproducibility and printing durability, it is possible to provide an adhesive layer between each layer or add adhesion-improving ingredients to each layer as necessary. It is. In particular, it is effective to provide a known silicone primer or silane coupling agent layer between the layers, or to add a silicone primer or silane coupling agent to the silicone rubber layer or photosensitive layer, in order to increase the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone rubber layer. be. A thin protective film can also be laminated on the surface of the waterless lithographic printing original plate constructed as described above. The waterless lithographic printing plate precursor used in the present invention is
For example, it is manufactured as follows. First, coat the support with a reverse roll coater, an air knife coater,
Using an ordinary coater such as a Meyer bar coater or a spin coating device such as a Whaler, the composition solution to form the photosensitive layer is applied, dried, and if necessary heat cured, and then coated on the photosensitive layer if necessary. After drying, apply a silicone gum solution on the photosensitive layer or adhesive layer in the same manner as above, and heat-treat it for several minutes at a temperature of usually 50 to 130°C to fully cure it. to form a silicone rubber layer. If necessary, cover the silicone rubber layer with a protective film using a laminator or the like. When the waterless lithographic printing original plate thus obtained is subjected to image exposure using a positive film, a positive original image, or a negative film or a negative original image, and then developed, a waterless lithographic printing plate is obtained. Examples of the plate-making method for such a waterless lithographic printing original plate include the following. For example, when used as a positive waterless lithographic printing original plate, 5 to 60 mol% of the quinonediazide units of the substance containing the quinonediazide structure in the photosensitive layer are photodecomposed by actinic light through a vacuum-adhered positive film or positive original. By applying imagewise exposure as described above and performing base treatment and development, a waterless lithographic printing plate is obtained. On the other hand, when used as a negative-working waterless lithographic printing original plate, it is subjected to normal image exposure with actinic rays through a vacuum-adhesive negative film or negative original (60 mol% of the quinonediazide units of the substance containing the quinonediazide structure in the photosensitive layer). A waterless lithographic printing plate can be obtained by applying an amount of light that exceeds the amount of light that causes photolysis, and then developing after base treatment, developing simultaneously with base treatment, or performing base treatment after development. More preferably, 5 to 60 mol% of the quinonediazide units of the substance containing the quinonediazide structure in the photosensitive layer in the non-image area is photodecomposed before or after normal image exposure or after development, including the image area. Full-surface exposure, development after base treatment, development at the same time as base treatment,
Alternatively, a base treatment may be performed after development. The light sources used in this exposure process are those that generate abundant ultraviolet light, and include mercury lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps,
You can use fluorescent lights, etc. Furthermore, in addition to ultraviolet rays, laser light and the like can also be used. The base treatment method using the treatment liquid of the present invention includes:
The following methods may be mentioned. A Negative type (1) Full surface exposure → Image exposure → Base treatment → Development (2) Image exposure → Full surface exposure → Base treatment → Development (3) Full surface exposure → Image exposure → Base treatment at the same time as development (4) Image exposure → Full surface Exposure → Development and base treatment at the same time (5) Full surface exposure → Image exposure → Development → Base treatment (6) Image exposure → Full surface exposure → Development → Base treatment (7) Image exposure → Development → Full face exposure → Base treatment (8) Image Exposure → development → base treatment (9) Image exposure → base treatment → development (10) Image exposure → development and simultaneous base treatment B Positive type (1) Image exposure → base treatment → development The processing method is as follows: Alternatively, the plate surface can be uniformly wetted with the processing liquid using a brush or pad, or the plate surface can be wetted using a shower method such as in an automatic developing machine. The treatment time is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the strength and concentration of the amine compound, but usually the effect appears immediately upon contact with the treatment solution, and there is no change in the effect even if the treatment solution is contacted for a long time. Usually about 10 seconds~
It only takes about 5 minutes. As the developer used in the processing solution of the present invention, those commonly proposed for waterless lithographic printing plates can be used. For example, water, water to which the following polar solvents are added, and aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, gasoline, kerosene, etc.) to which the following polar solvents are added are suitable. Alcohol (methanol, ethanol, etc.) Ethers (ethyl cellosolve, ethyl carbitol, butyl carbitol, etc.) Esters (cellosolve acetate, carbitol acetate, etc.) It is also possible to directly develop with the processing solution of the present invention. When the surface of the base-treated plate is rubbed with a developer pad or a brush using the developer described above, the silicone rubber layer in the exposed area is removed and the ink receiving area is removed when used as a negative waterless lithographic printing original plate. The photosensitive layer becomes exposed. On the other hand, when using it as a positive waterless lithographic printing original plate, the silicone rubber layer in the unexposed area is removed and the photosensitive layer that will become the ink receiving area is exposed. The present invention will be explained in more detail below with reference to Examples. [Examples] Examples 1 and 2, Comparative Examples 1 and 2 The following primer composition was applied to an aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.) with a thickness of 0.3 mm, and heat treated at 200°C for 2 minutes to form a 5μ thick aluminum plate. A primer layer was provided. Polyurethane resin (Sample LQ-T1331,
Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 100 parts by weight Blocked isocyanate (Takenate B830,
Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) 20 parts by weight Epoxy/phenol/urea resin (SJ9372,
(Manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.) 8 parts by weight Dimethylformamide 725 parts by weight Next, the following photosensitive layer composition was coated on this using a bar coater, dried for 1 minute in hot air at 110°C, and a photosensitive layer with a thickness of 2 μm was formed. Layers were set up. Naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolak resin (manufactured by Sumitomo Durez: Sumilight Resin)
PR50622) partial ester (degree of esterification 25% by elemental analysis) 100 parts by weight 4,4'-diphenylmethane diisocyanate
40 parts by weight Dibutyltin diacetate 0.2 parts by weight 4,4'-diethylaminobenzophenone
5 parts by weight P-toluenesulfonic acid 0.8 parts by weight Tetrahydrofuran 800 parts by weight Next, a silicone rubber composition having the following composition was spin-coated on the photosensitive layer, and then heated at 115°C and a dew point of 30.
C. for 3.5 minutes to form a 2.3μ silicone rubber layer. Polydimethylsiloxane (molecular weight approximately 25,000,
(terminal OH group) 100 parts by weight Vinyltri(methylethylketoxime)silane 8 parts by weight Dibutyltin diacetate 0.1 part by weight γ-Aminopropyltrimethoxysilane
0.5 parts by weight “Isopar” E (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.)
1400 parts by weight Add a layer of 10μ thick to the laminate obtained as above.
polypropylene film “Torefane” (Toray Industries, Ltd.)
Co., Ltd.) was laminated using a calendar roller to obtain a waterless lithographic printing original plate. A metal halide lamp (Idol Fin 2000, manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) was used on the original printing plate, and a UV meter (manufactured by Oak Seisakusho, light measure type) was used.
The entire surface was exposed to UV-402A) at an illuminance of 11 mw/cm 2 for 6 seconds. 150 lines /
A negative film having an inch halftone dot image was vacuum-adhered, and the image was exposed for 60 seconds from a distance of 1 m using the metal halide lamp mentioned above. Next, the "Trephan" of the exposed plate was peeled off and immersed in a flat vat filled with processing solutions having various compositions listed in Table 1 at a solution temperature of 14° C. for the time shown in Table 1. After immersion, use a rubber squeegee to remove the processing solution adhering to the plate surface and back surface, and then apply developer solution (water/butyl carbitol/2
-Ethylbutyric acid/crystal violet=70/
30/2/0.2 weight ratio) and lightly rubbed the plate surface with a developing pad, the silicone rubber layer in the image-exposed area was removed and the surface of the photosensitive layer was exposed. On the other hand, in the area where only the entire surface was exposed, the silicone rubber layer remained firmly, and an image faithfully reproducing the negative film was obtained. This printing plate was attached to an offset printing machine, and printing was performed using "Toyo King Ultra TKU Aquares G Eye PL" manufactured by Toyo Ink Co., Ltd. to evaluate halftone dot reproducibility. Table 1 shows the halftone reproducibility. As is clear from Table 1, in the case of Examples 1 and 2 based on the present invention, the halftone dot reproducibility was good despite the low temperature conditions, and no minute defects due to damage to the printing plate were observed. On the other hand, with the processing solution using a combination of polar solvent and amine used in Comparative Example 1, the halftone reproducibility was extremely poor, and due to insufficient base treatment, there were dots and scratches on the non-image areas (solid white areas) of the printed matter. Some defects occurred. Furthermore, when the processing time was increased as in Comparative Example 2, the halftone dot reproducibility was good and no defects due to damage to the printing plate were observed, but compared to when the processing liquid of the present invention was used, the halftone dot reproducibility was 3.5% higher than when the processing liquid of the present invention was used. It required a processing time that was twice to seven times longer, and the workability was extremely poor. Example 3 The entire surface of the lithographic printing original plate obtained in Example 1 was exposed to light for 6 seconds at an illuminance of 11 mw/cm 2 using a metal halide lamp. A gradation negative film having 150 lines/inch and halftone dots from 1% to 99% is vacuum-adhered to the waterless lithographic printing original plate obtained by the above-mentioned entire surface exposure,
60 from a distance of 1m using a metal halide lamp
The image was exposed for seconds. Next, the cover film was peeled off, and diethylene glycol dimethyl ether/diethylene glycol dimethyl ether/
N-methylethanolamine = 92/8 (weight ratio)
It was immersed for 1 minute in a treatment solution consisting of: After immersion, the developing pad was impregnated with the above-mentioned processing solution and the plate surface was rubbed to remove the image-exposed silicone rubber layer and expose the photosensitive layer. On the other hand, the silicone rubber layer remains firmly in the area where only the entire surface was exposed. This printing plate was attached to an offset printing machine, and "WLP" manufactured by Osaka Ink Co., Ltd.
When printed using "Process U Beni", halftone dots of 2 to 98% were reproduced despite the low-temperature processing conditions, and no minute defects due to damage to the printing plate were observed.Example 4 A gradation positive film having halftone dots of 2% to 98% of 150 lines/inch was vacuum-adhered to a waterless lithographic printing original plate which had not been fully exposed to light in the same manner as in Example 1 according to a conventional method. Example 1
Using the metal halide lamp used in Example 1, the UV meter used in Example 1 at a distance of 1 m measured 11 mW/
Exposure was performed for 9 seconds at an illumination intensity of cm 2 . Next, the cover film was peeled off, and diethylene glycol dimethyl ether/diethylene glycol dimethyl ether/
N-methylethanolamine = 92/8 (weight ratio)
Immerse for 1 minute in a flat pad filled with a treatment solution consisting of: After immersion, use a rubber squeegee to remove the processing solution adhering to the plate surface and back surface, and then rub the plate surface with a developer pad soaked with developer solution (water/butyl carbitol = 40/60 weight ratio) to remove the silicone in the unexposed areas. The rubber layer is removed and the surface of the photosensitive layer is exposed.
An image portion was formed. On the other hand, the silicone rubber layer in the exposed area remained without being immersed in the developer, forming a non-image area. When this printing plate was used for printing under the same conditions as in Example 1, the halftone reproducibility was 5% to 96%, and printed matter was obtained without minute defects or defects such as scratches caused by the developer pad. Example 5 Phenol formaldehyde novolac resin (Sumitomo Durez Co., Ltd.: Sumilite Resin) with a degree of esterification of 44% was applied to a chemically treated aluminum plate (Sumitomo Light Metal Co., Ltd.).
PR50235) naphthoquinone-1,2-diazide
5-sulfonic acid ester (ethanol soluble component)
A 3% by weight dioxane solution of 9.7% by weight (degree of esterification determined from IR spectrum) was spin-coated using a Whaler and dried at 60°C for 3 minutes to obtain a photosensitive layer with a thickness of 1.2μ. On this photosensitive layer was added a 7% Isopar E solution of a silicone gum composition having the following composition:
4% by weight of γ-aminopropyltriethoxysilane (manufactured by UCC: A1100) was added to the silicone composition, stirred uniformly, and then coated with a Whaler. After drying, the mixture was cured by heating at 120° C., dew point 25° C., for 4 minutes to obtain a silicone rubber layer with a thickness of 2.2 μm. Polydimethylsiloxane (molecular weight approximately 80,000,
(OH groups at both ends) 100 parts by weight Ethyltriacetoxysilane 5 parts by weight Butyltin diacetate 0.2 parts by weight A negative film having a halftone dot image of 150 lines/inch was applied to the waterless lithographic printing original plate obtained as above under vacuum. The film was brought into close contact with the film, and image exposure was performed for 60 seconds from a distance of 1 m using the metal halide lamp used in Example 1.
When the surface of the exposed plate is lightly rubbed with a developer consisting of ethanol/Isopar E = 80/20 (weight ratio), both the silicone rubber layer and the photosensitive layer are easily removed from the image-exposed area, resulting in chemical conversion. The treated aluminum surface was exposed, resulting in an image that faithfully reproduced the negative film. Using a metal halide lamp, the above-mentioned plate was measured using the UV meter of Example 1 at a distance of 1 m.
After exposing the entire surface to light for 10 seconds under an illuminance of mw/cm 2 (the amount of light at which 25 mol% of quinone diazide in the photosensitive layer photodecomposes and generates a carboxylic acid component), ethanol/
It was immersed for 1 minute in a treatment solution consisting of "ISOPAR" E/N-methylethanolamine = 63/30/7 (weight ratio), washed with water and dried. In order to confirm whether the obtained plate was sufficiently fixed by the base treatment, the entire surface was exposed to light for 60 seconds from a distance of 1 m using the metal halide lamp mentioned above, and then ethanol/"Isopar E" = 80/20 ( The silicone rubber layer in the non-image area was not damaged at all even when it was rubbed with a developing pad impregnated with a developer consisting of (weight ratio), and the fixing effect of the base treatment was sufficient. Example 6 A waterless lithographic printing original plate was prepared in exactly the same manner as in Example 5 except that the photosensitive liquid was replaced with the following composition. Namely, naphthoquinone-1,2-diazide-5- of phenol formaldehyde novolak resin.
A photosensitive solution was prepared by dissolving 8 parts by weight of sulfonic acid ester and 2 parts by weight of phenol novolak resin in 200 parts by weight of dioxane. The thickness of the photosensitive layer is 1.7
g/ m2 . Next, an unfixed printing plate was made in the same manner as in Example 5. This plate was entirely exposed for 10 seconds using the metal halide lamp described in Example 1. Next, it was immersed for 1 minute in a treatment solution consisting of ethanol/"Isopar" E/N-methylethanolamine = 63/30/7 (weight ratio), washed with water, and dried. When it was confirmed whether fixing was performed in the same manner as in Example 5, it was found that the silicone rubber layer in the non-image area was not damaged at all. That is, the non-image area was completely fixed. [Effect of the invention] The processing liquid for waterless lithography according to the present invention provides
The following effects are achieved. (1) The base treatment effect is strong even at low temperatures such as winter, and sharp images can be reproduced without damaging the silicone rubber layer in non-image areas. (2) Processing time can be shortened and work efficiency can be improved. 【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 支持体上にキノンジアジド構造を含む物質を
構成成分とする感光層およびシリコーンゴム層を
この順に塗設してなる水なし平版の製版用処理液
において、該処理液が極性溶剤と下記一般式
[]で表わされるアミンから主としてなること
を特徴とする水なし平版製版用処理液。 ここでR:炭素数1〜10のアルキル基 n:1〜5の整数。 2 極性溶媒が、下記一般式[]で表わされる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の水
なし平版製版用処理液。 RO―(CH2CH2O―)oR [] ここでR:炭素数1〜10のアルキル基 n:1〜6の整数。
[Scope of Claims] 1. A processing liquid for plate making of a waterless lithographic plate in which a photosensitive layer containing a substance containing a quinonediazide structure and a silicone rubber layer are coated on a support in this order, wherein the processing liquid has a polarity. A processing liquid for waterless lithographic platemaking, characterized in that it mainly consists of a solvent and an amine represented by the following general formula []. Here, R: an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; n: an integer of 1 to 5; 2. The waterless lithographic processing liquid according to claim 1, wherein the polar solvent is represented by the following general formula []. RO—(CH 2 CH 2 O—) o R [] where R: alkyl group having 1 to 10 carbon atoms n: an integer of 1 to 6.
JP1413787A 1986-02-12 1987-01-26 Processing liquid for waterless lithographic engraving Granted JPS62294246A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2673386 1986-02-12
JP61-26733 1986-02-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62294246A JPS62294246A (en) 1987-12-21
JPH043866B2 true JPH043866B2 (en) 1992-01-24

Family

ID=12201506

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1413787A Granted JPS62294246A (en) 1986-02-12 1987-01-26 Processing liquid for waterless lithographic engraving

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62294246A (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH035756A (en) * 1989-06-01 1991-01-11 Fuji Photo Film Co Ltd Developer for waterless ps plate
JPH03125151A (en) * 1989-10-11 1991-05-28 Konica Corp Developing solution for damping-waterless photosensitive planographic printing plant
JPH03148666A (en) * 1989-11-04 1991-06-25 Konica Corp Developing solution for damping-waterless photosensitive planographic printing plate
JPH03167554A (en) * 1989-11-27 1991-07-19 Toray Ind Inc Developer for waterless planographic printing plate
DE69627983T2 (en) * 1995-11-10 2004-05-13 Toray Industries, Inc. USE OF A LIQUID FOR PRODUCING A DRY FLAT PRINT PLATE

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62294246A (en) 1987-12-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5917552A (en) Method for processing image forming laminate
JPS6154222B2 (en)
JP3716429B2 (en) "Processing solution for waterless lithographic plate making"
JPH043866B2 (en)
JPH043865B2 (en)
JPS63317379A (en) Process liquid for making waterless plate
JP2507390B2 (en) Waterless planographic processing solution
JP2507376B2 (en) Waterless planographic processing solution
JP2921092B2 (en) Waterless lithographic plate processing solution
JPH0213295B2 (en)
JPS63163857A (en) Waterless lithographic printing plate
JP2530693B2 (en) Plate making method of waterless lithographic printing plate
JPS6154223B2 (en)
JP2507470B2 (en) Waterless lithographic printing plate
JPS6323546B2 (en)
JPS6322304B2 (en)
JP2507428B2 (en) Waterless planographic printing plate making method
JPH0429053B2 (en)
JPH0782233B2 (en) Plate-making method of image forming laminate
JP2507342B2 (en) Waterless planographic printing plate
JPS63217353A (en) Processing solution for processing waterless planographic plate
JPH01158451A (en) Production of waterless planographic printing plate
JPH07253661A (en) Waterless planographic printing plate
JPH07104598B2 (en) Waterless planographic printing plate
JPH043864B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees