JP2006290781A - Good solubility iridium complex - Google Patents
Good solubility iridium complex Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006290781A JP2006290781A JP2005112256A JP2005112256A JP2006290781A JP 2006290781 A JP2006290781 A JP 2006290781A JP 2005112256 A JP2005112256 A JP 2005112256A JP 2005112256 A JP2005112256 A JP 2005112256A JP 2006290781 A JP2006290781 A JP 2006290781A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- alkyl group
- organic
- iridium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 26
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 25
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 39
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 16
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 12
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000004986 diarylamino group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 32
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 89
- 239000000463 material Substances 0.000 description 82
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 74
- 238000000034 method Methods 0.000 description 63
- -1 2-ethylhexyl group Chemical group 0.000 description 45
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 42
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- FQJQNLKWTRGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-(4-tert-butylphenyl)-5-[3-[5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazol-2-yl]phenyl]-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=C(C=CC=2)C=2OC(=NN=2)C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)O1 FQJQNLKWTRGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 16
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 16
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 14
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 14
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 10
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 8
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 7
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 7
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 6
- VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpyridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- TVRHDFJMHSSQCP-UHFFFAOYSA-M [Ir]Cl.C1CC=CCCC=C1 Chemical class [Ir]Cl.C1CC=CCCC=C1 TVRHDFJMHSSQCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 6
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 6
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 6
- 229960003975 potassium Drugs 0.000 description 6
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 5
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 5
- MILUBEOXRNEUHS-UHFFFAOYSA-N iridium(3+) Chemical compound [Ir+3] MILUBEOXRNEUHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 5
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 5
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 5
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 4
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloroethane Chemical compound ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CZKMPDNXOGQMFW-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)germane Chemical compound CC[Ge](Cl)(CC)CC CZKMPDNXOGQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002504 iridium compounds Chemical class 0.000 description 4
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 229960004063 propylene glycol Drugs 0.000 description 4
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C=12C=CC3=C(C=4C=CC=CC=4)C=C(C)N=C3C2=NC(C)=CC=1C1=CC=CC=C1 STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 3
- 150000007978 oxazole derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical class C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 2
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SULWTXOWAFVWOY-PHEQNACWSA-N 2,3-bis[(E)-2-phenylethenyl]pyrazine Chemical class C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=NC=CN=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 SULWTXOWAFVWOY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 2
- MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical class O=C1C=CC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZFHXIBNMPIGOD-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxypent-3-en-2-one iridium Chemical compound [Ir].CC(O)=CC(C)=O.CC(O)=CC(C)=O.CC(O)=CC(C)=O AZFHXIBNMPIGOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFUDMQLBKNMONU-UHFFFAOYSA-N 9-[4-(4-carbazol-9-ylphenyl)phenyl]carbazole Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2N1C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=C1 VFUDMQLBKNMONU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 9-methylidenefluorene Chemical class C1=CC=C2C(=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 0 Cc(cc1)cc(C=C[C@@]2C=C(C)C=CC2c2*(CN)cccc2)c1-c1cccc*1C Chemical compound Cc(cc1)cc(C=C[C@@]2C=C(C)C=CC2c2*(CN)cccc2)c1-c1cccc*1C 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N acetylacetonate Chemical compound CC(=O)[CH-]C(C)=O CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- HAQFCILFQVZOJC-UHFFFAOYSA-N anthracene-9,10-dione;methane Chemical class C.C.C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 HAQFCILFQVZOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008425 anthrones Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 2
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229940093476 ethylene glycol Drugs 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 2
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- MZYHMUONCNKCHE-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C21 MZYHMUONCNKCHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 2
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid Chemical compound C=12C3=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C=CC=1C1=CC=C(C(O)=O)C2=C1C3=CC=C2C(=O)O FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- 125000004585 polycyclic heterocycle group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 2
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZJPVUDYAMEDRM-UHFFFAOYSA-M silver;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [Ag+].[O-]C(=O)C(F)(F)F KZJPVUDYAMEDRM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N thiopyran Chemical compound S1C=CC=C=C1 IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N (e)-2-phenylethenamine Chemical class N\C=C\C1=CC=CC=C1 UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- IWZZBBJTIUYDPZ-DVACKJPTSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;iridium;2-phenylpyridine Chemical compound [Ir].C\C(O)=C\C(C)=O.[C-]1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1.[C-]1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 IWZZBBJTIUYDPZ-DVACKJPTSA-N 0.000 description 1
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical compound C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 1-[(e)-2-phenylethenyl]anthracene Chemical class C=1C=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C2C=1\C=C\C1=CC=CC=C1 VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- 125000004343 1-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGGHQFIJZTFHP-UHFFFAOYSA-N 2-(3-hexylphenyl)pyridine Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC(C=2N=CC=CC=2)=C1 WHGGHQFIJZTFHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HRPQJSDPHDMIQN-UHFFFAOYSA-N 3,5-ditert-butyl-n,n-bis(3-pyridin-2-ylphenyl)aniline Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N(C=2C=C(C=CC=2)C=2N=CC=CC=2)C=2C=C(C=CC=2)C=2N=CC=CC=2)=C1 HRPQJSDPHDMIQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYKLZUPYJFFNRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypiperidin-2-one Chemical compound OC1CCCNC1=O RYKLZUPYJFFNRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGFYKJFXJSKGDD-UHFFFAOYSA-N 4-pentyl-2-phenylpyridine Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C1=NC=CC(=C1)CCCCC MGFYKJFXJSKGDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLEQCVWKOICOCU-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCCC)C1=CC=C(C=C1)C1=NC=CC=C1 Chemical compound C(CCCCCCCCC)C1=CC=C(C=C1)C1=NC=CC=C1 QLEQCVWKOICOCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZDVRBGIHIDPFR-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCCCCC)OC(CC(C)=O)=O.[Ir+3] Chemical compound C(CCCCCCCCCCC)OC(CC(C)=O)=O.[Ir+3] NZDVRBGIHIDPFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910000799 K alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- AHNSTIUMACVREU-UHFFFAOYSA-H [K].Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl Chemical compound [K].Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl AHNSTIUMACVREU-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005427 anthranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- QDGONURINHVBEW-UHFFFAOYSA-N dichlorodifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(Cl)Cl QDGONURINHVBEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- KCHWKBCUPLJWJA-UHFFFAOYSA-N dodecyl 3-oxobutanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CC(C)=O KCHWKBCUPLJWJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005150 glycerol Drugs 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- MQJILNQGWWHNQQ-UHFFFAOYSA-N henicosane-10,12-dione Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)CC(=O)CCCCCCCCC MQJILNQGWWHNQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940083761 high-ceiling diuretics pyrazolone derivative Drugs 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- HLYTZTFNIRBLNA-LNTINUHCSA-K iridium(3+);(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Ir+3].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O HLYTZTFNIRBLNA-LNTINUHCSA-K 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001182 laser chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N lithium methoxide Chemical compound [Li+].[O-]C JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N methoxycyclopentane Chemical compound COC1CCCC1 SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- PVCZHMVNQFGYRW-UHFFFAOYSA-N n-(4-octylphenyl)-3-pyridin-2-yl-n-(3-pyridin-2-ylphenyl)aniline Chemical compound C1=CC(CCCCCCCC)=CC=C1N(C=1C=C(C=CC=1)C=1N=CC=CC=1)C1=CC=CC(C=2N=CC=CC=2)=C1 PVCZHMVNQFGYRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006610 n-decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000006609 n-nonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006608 n-octyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical class C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- UZLYXNNZYFBAQO-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);ytterbium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Yb+3].[Yb+3] UZLYXNNZYFBAQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Chemical class 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical class O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M silver acetate Chemical compound [Ag+].CC([O-])=O CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940071536 silver acetate Drugs 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAXKYAIESKANJL-UHFFFAOYSA-N tridecane-2,4-dione Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)CC(C)=O QAXKYAIESKANJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003454 ytterbium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075624 ytterbium oxide Drugs 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
【課題】 塗布法によるコーティングが容易で、高い発光効率及び低電圧化を実現可能なイリジウム錯体を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表されるイリジウム錯体。
【化1】
(式中、R1〜R8は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基を示しており、それぞれの置換基が他の置換基と結合しても良い。R9及びR10は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はハロゲン化アルキル基を表し、R11は水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン化アルキル基を表す。また、R9、R10及びR11は重合性基又は該重合性基が重合した基を示してもよい。ただし、R1〜R11の中の少なくとも一つは、炭素数5以上のアルキル基又はアルコキシ基を表す。nは1又は2の整数を示し、n1は1又は2の整数を示すが、nとn1の和は3である。)
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an iridium complex which can be easily coated by a coating method and can realize high luminous efficiency and low voltage.
An iridium complex represented by the following general formula (1):
[Chemical 1]
(Wherein R 1 to R 8 represent a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom, an alkoxy group, a halogenated alkyl group, a dialkylamino group or a diarylamino group, and each substituent is bonded to another substituent. R 9 and R 10 each represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or a halogenated alkyl group, and R 11 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a halogenated alkyl group. 9 , R 10 and R 11 may represent a polymerizable group or a group obtained by polymerizing the polymerizable group, provided that at least one of R 1 to R 11 is an alkyl group or alkoxy having 5 or more carbon atoms. And n represents an integer of 1 or 2, n1 represents an integer of 1 or 2, and the sum of n and n1 is 3.)
Description
本発明は、溶剤への溶解性が良好なイリジウム錯体に関するものである。 The present invention relates to an iridium complex having good solubility in a solvent.
今日、種々の表示素子に関する研究開発が活発であり、中でも有機電界発光素子(以下、「有機EL素子」と略す。)は、低電圧で高輝度の発光を得ることが出来る為、有望な次世代の表示素子として注目を集めている。 Today, research and development on various display elements is active. Among them, organic electroluminescent elements (hereinafter abbreviated as “organic EL elements”) can obtain high-luminance light emission at a low voltage. It is attracting attention as a display element for the next generation.
有機EL素子は、印加電圧が低く消費電力が小さく、小型化が可能であり、面発光であり、三原色発光もできることから、このような有機EL素子をマルチカラーディスプレイへ適用する動きが盛んに検討されている。しかし、高機能なマルチカラーディスプレイを開発する為には、光の三原色である赤色、緑色及び青色のそれぞれ各色の発光素子特性及びその効率を向上させる必要があり、また照明器具とするためにも発光効率の改善が求められている。 Organic EL elements have low applied voltage, low power consumption, can be miniaturized, are surface emitting, and can also emit three primary colors, so there is a lot of research into applying such organic EL elements to multicolor displays. Has been. However, in order to develop a highly functional multi-color display, it is necessary to improve the light emitting element characteristics and efficiency of each of the three primary colors of red, green, and blue. There is a need for improved luminous efficiency.
有機EL素子の発光素子特性向上の手段として、有機EL素子の発光層に燐光発光材料を利用することが提案されている。電子と正孔の再結合による電流励起においては、スピン統計則により、三重項の固有状態の3個と一重項の固有状態の1個の合計4個の固有状態が再結合により等確率で起こるために、一重項励起子と三重項励起子が1:3の確率で起こる。このように、電流励起による有機EL素子において、燐光性発光材料が特に注目されている理由は、原理的に高発光効率が期待できるからである。これまでの有機EL素子は、一重項励起子から基底状態に遷移する際の蛍光を発光として取り出していたが、原理的にその発光収率は生成された励起子数に対して、25%でありこれが原理的上限であった。しかし、三重項から発生する励起子からの燐光を用いれば、原理的に少なくとも3倍の収率が期待され、さらに、エネルギー的に高い一重項からの三重項への項間交差による転移を考え合わせれば、原理的には4倍の100%の発光収率が期待できる。
このような燐光発光材料として、次式で示されるビス(2−フェニルピリジナト−N,C2’)イリジウムアセチルアセトナート(Ir(ppy)2(acac))や、次式で示されるトリス(2−フェニルピリジナト−N,C2’)(Ir(ppy)3)イリジウムをはじめとしたオルソメタル化イリジウム錯体が広く知られている。
As a means for improving the light emitting device characteristics of the organic EL device, it has been proposed to use a phosphorescent material for the light emitting layer of the organic EL device. In current excitation by recombination of electrons and holes, a total of four eigenstates of three triplet eigenstates and one singlet eigenstate occur with equal probability by recombination according to the spin statistics law. Therefore, singlet excitons and triplet excitons occur with a probability of 1: 3. Thus, in the organic EL element by current excitation, the reason why phosphorescent light-emitting materials are particularly attracting attention is that high luminous efficiency can be expected in principle. Until now, organic EL devices have taken out fluorescence when transitioning from a singlet exciton to a ground state as luminescence, but in principle, the luminescence yield is 25% of the number of excitons generated. This was the theoretical upper limit. However, if phosphorescence from excitons generated from triplets is used, a yield of at least three times is expected in principle, and transition due to intersystem crossing from singlet to triplet with high energy is considered. In combination, a 100% light emission yield of 4 times can be expected in principle.
Examples of such phosphorescent materials include bis (2-phenylpyridinato-N, C 2 ′ ) iridium acetylacetonate (Ir (ppy) 2 (acac)) represented by the following formula, and tris represented by the following formula: Ortho-metalated iridium complexes including (2-phenylpyridinato-N, C 2 ′ ) (Ir (ppy) 3 ) iridium are widely known.
燐光性発光材料(燐光ドーパント)の発光はホスト材料に依存するが、そのホスト材料に必要とされる基本性能としては、正孔輸送性および電子輸送性を有すること、ホスト材料の三重項状態のエネルギーレベルが燐光ドーパントの三重項エネルギーよりも大きいことなどが挙げられ、一般には低分子材料であるCBP(4,4'−ビス(カルバゾール−9−イル)ビフェニル)が好適に用いられている。
このような低分子材料を用いた燐光素子は、層構成の最適化を容易に行うことができるため、高効率化や長寿命化が期待できるが、一方で経時的に有機層の結晶化や凝集が起こり素子が劣化して、素子寿命に多大な影響を与えるといった問題がある。さらに、蒸着プロセスにより素子を作製しなければならず、大掛かりな蒸着装置が必要でコストが高いという問題があり、さらに、基材の大面積化が困難という問題がある。真空蒸着法に比べてコストが安価で、大面積ディスプレイの製造が可能な方法としては、溶媒を用いて基材に塗布する塗布法がある。しかしながら、従来の低分子材料を溶剤に溶解又は分散させて塗工液を調製しようとしても溶解性、分散性が悪いため、均一で安定な塗工液が得られず、製膜できても膜安定性が悪いため、従来の低分子材料を塗布法により利用することは困難であった。
The light emission of the phosphorescent light-emitting material (phosphorescent dopant) depends on the host material. The basic performance required for the host material is that it has a hole transport property and an electron transport property, and the triplet state of the host material. The energy level is higher than the triplet energy of the phosphorescent dopant, and in general, CBP (4,4′-bis (carbazol-9-yl) biphenyl), which is a low molecular material, is preferably used.
Phosphorescent devices using such low-molecular materials can easily optimize the layer structure, and thus can be expected to increase efficiency and prolong the lifetime. There is a problem that agglomeration occurs and the device deteriorates, which greatly affects the device life. Furthermore, there is a problem that an element must be manufactured by a vapor deposition process, a large vapor deposition apparatus is required and the cost is high, and further, it is difficult to increase the area of the base material. As a method that can be manufactured at a low cost and can produce a large area display as compared with a vacuum deposition method, there is a coating method in which a substrate is used for coating with a solvent. However, even if an attempt is made to prepare a coating solution by dissolving or dispersing a conventional low molecular weight material in a solvent, the solubility and dispersibility are poor, so a uniform and stable coating solution cannot be obtained, and even if film formation is possible Due to the poor stability, it has been difficult to use conventional low molecular weight materials by a coating method.
しかし、有機EL素子を証明装置や大面積ディスプレイとして応用してゆくためには、安定した層を容易に形成することができる塗布法による製造方法の開発が求められており、近年塗布法により成膜可能な燐光性発光材料が開発されている。このための方法としては、例えば、PVCz(ポリビニルカルバゾール)などの高分子ホストとIr(ppy)3(トリス(2−フェニルピリジネート−N,C2')イリジウム(III)錯体)などの低分子燐光ゲストとの混合溶液を塗布する方法(特許文献1)、ホスト分子とゲスト分子のモノマーを共重合させて、全体を高分子化した高分子の溶液を塗布する方法(非特許文献1、2)、高分子材料としてデンドリマーを使用して、共役系デンドリマーの中心に低分子燐光ゲストを配し、低分子ホストとの混合溶液を塗布する方法(非特許文献3を)等が報告されている。また、酸素や水に対する安定性を高めた有機EL素子についても報告されている(例えば、特許文献2を参照)。 However, in order to apply an organic EL element as a verification device or a large area display, development of a manufacturing method by a coating method capable of easily forming a stable layer is required. Filmable phosphorescent luminescent materials have been developed. As a method for this, for example, a polymer host such as PVCz (polyvinylcarbazole) and Ir (ppy) 3 (tris (2-phenylpyridinate-N, C 2 ′ ) iridium (III) complex) or the like can be used. A method of applying a mixed solution with a molecular phosphorescent guest (Patent Document 1), a method of applying a polymer solution obtained by copolymerizing a monomer of a host molecule and a guest molecule and polymerizing the whole (Non-Patent Document 1, 2) A method of using a dendrimer as a polymer material, arranging a low-molecular phosphorescent guest at the center of a conjugated dendrimer, and applying a mixed solution with a low-molecular host (Non-patent Document 3) has been reported. Yes. In addition, an organic EL element having improved stability against oxygen and water has also been reported (see, for example, Patent Document 2).
しかしながら、これらの従来法では、溶液をスピン塗布して容易に成膜することができたとしても、得られた発光層の発光特性や素子寿命などは必ずしも十分ではなく、発光特性や素子の寿命がより改善された材料の開発が望まれている。 However, in these conventional methods, even if a solution can be easily formed by spin coating, the light emitting characteristics and device lifetime of the obtained light emitting layer are not always sufficient, and the light emission properties and device lifetime are not sufficient. However, there is a demand for the development of materials with improved quality.
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、塗布法によるコーティングが容易で、高い発光効率を実現可能な有機化合物、並びに当該有機化合物を用いた高い発光効率を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and is an organic compound that can be easily coated by a coating method and can realize high luminous efficiency, and organic electroluminescence having high luminous efficiency using the organic compound. It is to provide an element.
本発明者らは、塗布法によるコーティングが容易であり、高い発光効率を有する有機EL素子の研究を行っている過程で、一般式(1)で表されるイリジウム錯体が優れた溶媒溶解性や溶媒分散性を有することを見出し、本発明を完成させた。
従来、燐光発光材料であるイリジウム錯体は、イリジウム錯体分子同士が近接する凝集状態では、それぞれの分子の三重項状態同士でエネルギー交換を起こすため、リン光発光が消失する。この為、リン光発光化合物であるイリジウム錯体を凝集させることは適していなかった。しかし、下記一般式(1)で示されるイリジウム化合物をホスト材料に使用することによって、溶媒溶解性が改善されるだけでなく、高効率及び低電圧駆動が可能であることがわかった。
In the process of studying an organic EL device that is easy to coat by a coating method and has high luminous efficiency, the present inventors have found that the iridium complex represented by the general formula (1) has excellent solvent solubility and It discovered that it had solvent dispersibility, and completed this invention.
Conventionally, an iridium complex, which is a phosphorescent material, loses phosphorescence in an aggregated state where iridium complex molecules are close to each other because energy exchange occurs between triplet states of the respective molecules. For this reason, it is not suitable to aggregate the iridium complex which is a phosphorescent compound. However, it has been found that by using an iridium compound represented by the following general formula (1) as a host material, not only the solvent solubility is improved, but also high efficiency and low voltage driving are possible.
本発明に係るイリジウム錯体は良好な溶媒溶解性又は溶媒分散性を有し、溶媒中に均一に溶解又は分散し易い状態となっている。そのため、本発明のイリジウム錯体化合物を含む塗液を用いて被塗布材上に塗布することにより、化合物は塗膜中に凝集することなく均一に分散することが可能となるので、被塗布材上の各部において均一な発光特性をもたらすことができる。さらに、より高い発光効率を達成できるだけでなく、従来に比べて低電圧化駆動を可能とする。 The iridium complex according to the present invention has good solvent solubility or solvent dispersibility, and is easily dissolved or dispersed in the solvent. Therefore, by applying the coating liquid containing the iridium complex compound of the present invention on the coating material, the compound can be uniformly dispersed without aggregating in the coating film. Uniform light emission characteristics can be provided in each part of the above. Further, not only higher luminous efficiency can be achieved, but also driving at a lower voltage is possible than in the prior art.
すなわち、本発明は、下記一般式(1)で表されるイリジウム錯体に関するものである。 That is, the present invention relates to an iridium complex represented by the following general formula (1).
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基を示しており、それぞれの置換基が他の置換基と結合しても良い。R9及びR10はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はハロゲン化アルキル基を表し、R11は水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン化アルキル基を表す。また、R9、R10及びR11は重合性基又は該重合性基が重合した基を示してもよい。ただし、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11の中の少なくとも一つは、炭素数5以上のアルキル基、アラルキル基又はアルコキシ基を表す。nは1又は2の整数を示し、n1は1又は2の整数を示すが、nとn1の和は3である。) (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom, an alkoxy group, a halogenated alkyl group, A dialkylamino group and a diarylamino group, each of which may be bonded to another substituent R 9 and R 10 are each independently an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or a halogenated group; Represents an alkyl group, R 11 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a halogenated alkyl group, and R 9 , R 10 and R 11 represent a polymerizable group or a group obtained by polymerizing the polymerizable group. Provided that at least one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 has 5 or more carbon atoms. Alkyl group, aralkyl group The .n representing the alkoxy group is an integer of 1 or 2, n1 is an integer of 1 or 2, the sum of n and n1 is 3.)
本発明に係るイリジウム錯体(以下、本発明の錯体とする)は、溶媒溶解性に優れるため、該化合物を含む塗料を用いて成膜することが可能であり、有機発光素子、特に燐光有機発光素子をコーティング成膜によって作製することが可能である。 Since the iridium complex according to the present invention (hereinafter referred to as the complex of the present invention) has excellent solvent solubility, it can be formed into a film using a paint containing the compound, and is an organic light-emitting device, particularly phosphorescent organic light-emitting device. It is possible to produce the device by coating film formation.
また本発明の錯体は塗膜中に凝集することなく均一に分散するので、有機EL素子に用いられた場合に被塗布材上の各部において均一な発光特性をもたらし、その結果、注入された電荷に基づく発光が面内で均一に生じることとなり、発光効率が向上する。
本発明の錯体は、これまでの塗布型発光・燐光材料に比べて効率が高く、かつ発光材料自身の凝集を抑制できるため、低電圧駆動も可能である。また、本発明の有機化合物は熱的安定性が高く、寿命向上に有利である。
Further, since the complex of the present invention is uniformly dispersed without aggregating in the coating film, when used in an organic EL device, it provides uniform light emission characteristics in each part on the coated material, and as a result, injected charges are injected. The light emission based on is uniformly generated in the plane, and the light emission efficiency is improved.
The complex of the present invention has higher efficiency than conventional coating type light emitting / phosphorescent materials and can suppress aggregation of the light emitting material itself, so that it can be driven at a low voltage. In addition, the organic compound of the present invention has high thermal stability and is advantageous in improving the life.
従って本発明の錯体は、これまでの塗布型発光・燐光材料が抱える種々の問題を解決し、高効率的発光により長寿命な有機EL素子の実現を可能にする。
本発明に係る有機EL素子は、上記効果を有する本発明の錯体を含有する層が設けられているため、従来に比べて塗布により容易に該材料の分散性が高い層が得られ、更に高い発光効率を得ることができ、長寿命素子の実現が可能である。
Therefore, the complex of the present invention solves various problems of the conventional coating type light emitting / phosphorescent materials and enables realization of a long-life organic EL device by high efficiency light emission.
Since the organic EL device according to the present invention is provided with a layer containing the complex of the present invention having the above-described effects, a layer having a high dispersibility of the material can be easily obtained by coating as compared with the prior art, and further higher. Luminous efficiency can be obtained and a long-life element can be realized.
以下、本発明のイリジウム錯体について詳しく説明する。
本発明に係るイリジウム錯体は、下記一般式(1)で表される化合物である。
Hereinafter, the iridium complex of the present invention will be described in detail.
The iridium complex according to the present invention is a compound represented by the following general formula (1).
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基を示しており、それぞれのR基が他のR基と結合しても良い。R9及びR10はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はハロゲン化アルキル基を表し、R11は水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン化アルキル基を表す。また、R9、R10及びR11は重合性基又は該重合性基が重合した基を示してもよい。ただし、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11の中の少なくとも一つは、炭素数5以上のアルキル基、アラルキル基又はアルコキシ基を表す。nは1又は2の整数を示し、n1は1又は2の整数を示すが、nとn1の和は3である。) (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom, an alkoxy group, a halogenated alkyl group, A dialkylamino group and a diarylamino group, each R group may be bonded to another R group, and R 9 and R 10 are each independently an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or a halogenated group. Represents an alkyl group, R 11 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a halogenated alkyl group, and R 9 , R 10 and R 11 represent a polymerizable group or a group obtained by polymerizing the polymerizable group. Provided that at least one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 has 5 or more carbon atoms. Alkyl, aralkyl or alkyl .n representing the alkoxy group represents an integer of 1 or 2, n1 is an integer of 1 or 2, the sum of n and n1 is 3.)
以下に一般式(1)において、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11で示される基の説明をする。
アルキル基としては、例えば、炭素数1〜30、好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜10の直鎖状、又は分枝状鎖状のアルキル基や、炭素数3〜30、好ましくは炭素数3〜20、より好ましくは炭素数3〜10の単環式、多環式、又は架橋式のシクロアルキル基が挙げられ、具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、2−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられるが、フッ素原子が好ましい。
Hereinafter, in the general formula (1), the groups represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 will be described.
Examples of the alkyl group include a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and 3 to 30 carbon atoms. A monocyclic, polycyclic, or bridged cycloalkyl group, preferably having 3 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 10 carbon atoms. Specific examples include, for example, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, 2-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, 2-ethylhexyl group, n-heptyl group, n-octyl group N-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, Such as Kurohekishiru group, and the like.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.
アルコキシ基としては、前記したようなアルキル基に酸素原子が結合した基が挙げられ、具体例としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基などが挙げられる。 Examples of the alkoxy group include a group in which an oxygen atom is bonded to the alkyl group as described above, and specific examples include, for example, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a tert group. -Butoxy group, n-hexyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, n-undecyloxy group, n-dodecyloxy group And cyclohexyloxy group.
ハロゲン化アルキル基としては、前記したアルキル基の1個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子によりハロゲン置換された基が挙げられ、具体的には、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等のパーフルオロアルキル基等が挙げられる。 Examples of the halogenated alkyl group include groups in which one or more hydrogen atoms of the alkyl group described above are halogen-substituted by a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom. Specifically, for example, a trifluoromethyl group, And perfluoroalkyl groups such as a pentafluoroethyl group.
ジアルキルアミノ基としては、アミノ基の2個の水素原子が、それぞれ独立して前記したようなアルキル基で置換されたものが挙げられ、具体例としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ(n−プロピル)アミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ(n−ブチル)アミノ基、ジ(n−ヘキシル)アミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基などが挙げられる。 Examples of the dialkylamino group include those in which two hydrogen atoms of the amino group are each independently substituted with an alkyl group as described above. Specific examples include, for example, a dimethylamino group, a diethylamino group, a dialkyl group, and the like. Examples include (n-propyl) amino group, diisopropylamino group, di (n-butyl) amino group, di (n-hexyl) amino group, dicyclohexylamino group and the like.
アリール基としては、炭素数6〜30、好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜12の単環式、多環式、又は縮合環式アリール基が挙げられ、具体例としては、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられる。これらのアリール基は、前記したアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子などの置換基を有していてもよい。 Examples of the aryl group include monocyclic, polycyclic, or condensed cyclic aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, preferably 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples thereof include a phenyl group, a tolyl group, a naphthyl group, and an anthranyl group. These aryl groups may have a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, a halogenated alkyl group, or a halogen atom.
ジアリールアミノ基としては、アミノ基の2個の水素原子が、それぞれ独立して前記したアリール基で置換されたものが挙げられ、具体例としては、例えば、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、フェニルナフチルアミノ基などが挙げられる。 Examples of the diarylamino group include those in which two hydrogen atoms of the amino group are each independently substituted with the above-mentioned aryl group. Specific examples include, for example, a diphenylamino group, a ditolylamino group, a phenylnaphthylamino group. Groups and the like.
アラルキル基としては、前記アルキル基の少なくとも1個の水素原子が前記アリール基で置換された基が挙げられ、具体的にはベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、1−フェニルプロピル基、3−ナフチルプロピル基等が挙げられる。 Examples of the aralkyl group include a group in which at least one hydrogen atom of the alkyl group is substituted with the aryl group, and specifically includes a benzyl group, a 1-phenylethyl group, a 2-phenylethyl group, a 1-phenylpropoxy group. Group, 3-naphthylpropyl group and the like.
また、R1とR2、R2とR3、R3とR4、R5とR6、R6とR7及びR7とR8のそれぞれ隣接する基、又はR4とR5のように相互にオルト位に位置する基は、それぞれ一緒になって隣接する炭素原子と共に環を形成する場合には、形成する環は飽和又は不飽和の単環でも多環でもよく、5員環又は6員環が好ましい。また、同様にR9とR11又はR10とR11がそれぞれ一緒になって隣接する炭素原子と共に環を形成する場合には、形成される環は飽和又は不飽和の単環でも多環でもよく、5員環又は6員環が好ましい。このようにして形成される好ましい環としては、ベンゼン環、ナフタレン環等の炭素環式芳香環、ピリジン環、ピラジン環等の芳香族複素環等が挙げられる。 Further, R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 , R 6 and R 7 and R 7 and R 8 are adjacent to each other, or R 4 and R 5 When the groups positioned in the ortho positions to each other form a ring together with adjacent carbon atoms, the formed ring may be a saturated or unsaturated monocyclic or polycyclic ring, and may be a 5-membered ring. Or a 6-membered ring is preferable. Similarly, when R 9 and R 11 or R 10 and R 11 together form a ring with adjacent carbon atoms, the ring formed may be a saturated or unsaturated monocyclic or polycyclic ring. Well, a 5-membered ring or a 6-membered ring is preferable. Preferable rings thus formed include carbocyclic aromatic rings such as benzene ring and naphthalene ring, aromatic heterocyclic rings such as pyridine ring and pyrazine ring, and the like.
以下、本発明の溶解性の高いイリジウム金属錯体の具体的な構造式を以下に示す。但し、代表例を例示しただけで、本発明はこれらに限定されるものではない。化合物中、Phはフェニル基を、Cyはシクロヘキシル基を表す。
Hereinafter, specific structural formulas of the highly soluble iridium metal complex of the present invention are shown below. However, the present invention is not limited to merely representative examples. In the compounds, Ph represents a phenyl group, and Cy represents a cyclohexyl group.
これらの本発明のイリジウム錯体は、それ自体で有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)材料として使用することができる。また、好ましくは、これらの本発明のイリジウム錯体は、有機EL素子用のホスト材料として使用することができる。 These iridium complexes of the present invention can be used as materials for organic electroluminescence elements (organic EL elements) by themselves. Preferably, these iridium complexes of the present invention can be used as a host material for an organic EL device.
次に本発明のイリジウム錯体の製造方法について詳細に説明する。本発明の前記一般式(1)で表される化合物は、種々の手法で合成することができ、例えばInorg.Chem.1991年,30号,1685頁.,同1988,27号,3464頁.,同1994年,33号,545頁., Inorg.Chem.Acta 1991年,181号,245頁., J.Organomet.Chem. 1987年,335号,293頁., J.Am.Chem.Soc.1985年,107号,1431頁等、公知の手法で合成することができる。すなわち、種々の配位子またはその遊離体とイリジウム化合物とを、溶媒(例えば、ハロゲン系溶媒、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、水などが挙げられる)の存在下又は溶媒非存在下、塩基の存在下(無機、有機の種々の塩基、例えば、ナトリウムメトキサイド、t−ブトキシカリウム、トリエチルアミン、炭酸カリウムなどが挙げられる)又は塩基非存在下、室温以下又は加熱して(通常の加熱以外にもマイクロウェーブで加熱する手法も有効である)、合成することができる。 Next, the manufacturing method of the iridium complex of this invention is demonstrated in detail. The compound represented by the general formula (1) of the present invention can be synthesized by various methods, for example, Inorg. Chem. 1991, 30, 1685, 1988, 27, 3464. 1994, 33, 545, Inorg. Chem. Acta 1991, 181, 245, J. Organomet. Chem. 1987, 335, 293, J. Am. Chem. Soc. 1985, 107, page 1431 and the like can be synthesized by a known method. That is, various ligands or their free forms and an iridium compound are reacted with a base in the presence of a solvent (for example, a halogen solvent, an alcohol solvent, an ether solvent, water, etc.) or in the absence of a solvent. In the presence (including various inorganic and organic bases such as sodium methoxide, t-butoxypotassium, triethylamine, potassium carbonate, etc.) or in the absence of a base or below room temperature or heated (in addition to normal heating) A technique of heating with a microwave is also effective) and can be synthesized.
出発原料としてのイリジウム化合物としては、例えば、(1,5−シクロオクタジエン)イリジウム(I)クロライド ダイマー、イリジウムクロライド(III)水和物、6ハロゲン化イリジウム(III)化合物、例えば、カリウムヘキサクロロイリデート(III)、6ハロゲン化イリジウム(IV)化合物、例えばカリウムヘキサクロロイリデート(IV)及びその類縁体を用いることができる。 Examples of the iridium compound as the starting material include (1,5-cyclooctadiene) iridium (I) chloride dimer, iridium chloride (III) hydrate, hexahalogenated iridium (III) compound such as potassium hexachloroiridium. Date (III), iridium (IV) halide compounds such as potassium hexachloroiridate (IV) and analogs thereof can be used.
化学量論量の配位子と上記イリジウム化合物から三価六配位オルソメタル化イリジウム複核錯体の合成を行い、次いで塩基の存在下、又は非存在下に配位子を反応させて一般式(1)の化合物を合成する。必要であれば、トリフルオロメタンスルホン酸銀等を用いても良い。 A trivalent hexacoordinate orthometalated iridium binuclear complex was synthesized from a stoichiometric amount of the ligand and the above iridium compound, and then the ligand was reacted in the presence or absence of a base. The compound of 1) is synthesized. If necessary, silver trifluoromethanesulfonate may be used.
溶媒としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、アセトニトリル等のニトリル類、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、o−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール、2−プロパノール、n−ブタノール、tert−ブタノール、2−エトキシエタノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−プロパンジオール、グリセリン等の多価アルコール類、水等が挙げられる。これら溶媒は、夫々単独で用いても2種以上適宜組み合わせて用いても良い。これら溶媒は、メタノール、エタノール、2−プロパノール、n−ブタノール、tert−ブタノール、2−エトキシエタノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−プロパンジオール、グリセリン等の多価アルコール類及び水を単独で或いは2種以上を併用することが好ましい。 Examples of the solvent include amides such as N, N-dimethylformamide, formamide, N, N-dimethylacetamide, nitriles such as acetonitrile, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, o-dichlorobenzene. Halogenated hydrocarbons such as, pentane, hexane, heptane, octane, decane and other aliphatic hydrocarbons, benzene, toluene, xylene and other aromatic hydrocarbons, diethyl ether, diisopropyl ether, tert-butyl methyl ether, Ethers such as 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, 2-propanol, n-butanol, tert-butanol, - alcohols such as ethoxyethanol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-propane diol, polyhydric alcohols such as glycerin, water and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. These solvents include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, n-butanol, tert-butanol, 2-ethoxyethanol, polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-propanediol, glycerin, and the like. It is preferable to use water alone or in combination of two or more.
使用する溶媒の量としては、反応が十分に進行できる量であれば特に制限はないが、好ましくはイリジウム出発原料に対して通常1〜200倍量、好ましくは約5〜50倍量程度がよい。 The amount of the solvent to be used is not particularly limited as long as the reaction can proceed sufficiently, but it is preferably about 1 to 200 times, preferably about 5 to 50 times the amount of the iridium starting material. .
この反応は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス等が挙げられる。また、上記製造方法は、超音波発生装置を併用して行うことができる。 This reaction is preferably performed in an inert gas atmosphere. Examples of the inert gas include nitrogen gas and argon gas. Moreover, the said manufacturing method can be performed using an ultrasonic generator together.
反応温度は、通常25℃〜300℃、好ましくは60℃〜200℃、より好ましくは80℃〜150℃の範囲から適宜選択される。
反応時間は、通常10分〜72時間、好ましくは30分〜48時間、より好ましくは1時間〜6時間の範囲から適宜選択される。
The reaction temperature is usually appropriately selected from the range of 25 ° C to 300 ° C, preferably 60 ° C to 200 ° C, more preferably 80 ° C to 150 ° C.
The reaction time is appropriately selected from the range of usually 10 minutes to 72 hours, preferably 30 minutes to 48 hours, more preferably 1 hour to 6 hours.
この製造方法は、塩基の存在下で行うことが好ましい。塩基としては、無機塩基、有機塩基等が挙げられる。無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられる。有機塩基としては、カリウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、リチウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピペリジン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、トリ−n−ブチルアミン、N−メチルモルホリン等の有機アミン類、水素化ナトリウム等の金属水素化物類等が挙げられる。 This production method is preferably carried out in the presence of a base. Examples of the base include inorganic bases and organic bases. Examples of the inorganic base include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate and the like. Examples of the organic base include alkali metal alkoxides such as potassium methoxide, sodium methoxide, lithium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide, triethylamine, diisopropylethylamine, N, N-dimethylaniline, piperidine, pyridine, 4 -Dimethylaminopyridine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, tri-n-butylamine, N-methyl Examples thereof include organic amines such as morpholine and metal hydrides such as sodium hydride.
塩基の使用量は、一般式(1)で表される化合物に対して通常0.5〜10当量、好ましくは0.8〜2当量、より好ましくは1〜1.2当量の範囲から適宜選択される。
また、銀塩を添加して反応を行っても良い。銀塩としては、例えば、硝酸銀、酢酸銀、トリフルオロ酢酸銀、メタンスルホン酸銀、トリフルオロメタンスルホン酸銀等が挙げられ、中でもトリフルオロ酢酸銀及びトリフルオロメタンスルホン酸銀が好ましい。銀塩の使用量は、一般式(1)で表される化合物に対して通常1〜20当量、好ましくは1.5〜10当量、より好ましくは2〜3当量の範囲から適宜選択される。
The amount of the base used is appropriately selected from the range of usually 0.5 to 10 equivalents, preferably 0.8 to 2 equivalents, more preferably 1 to 1.2 equivalents, relative to the compound represented by the general formula (1). Is done.
Moreover, you may react by adding silver salt. Examples of the silver salt include silver nitrate, silver acetate, silver trifluoroacetate, silver methanesulfonate, silver trifluoromethanesulfonate, and the like, among which silver trifluoroacetate and silver trifluoromethanesulfonate are preferable. The usage-amount of silver salt is normally selected suitably from the range of 1-20 equivalent with respect to the compound represented by General formula (1), Preferably it is 1.5-10 equivalent, More preferably, it is 2-3 equivalent.
本反応は、必要に応じて後処理、単離及び精製を行い多段階で反応を行なうこともでき、または、一切の後処理を行うことなくワンポットで反応を行なうことも可能である。後処理の方法としては、例えば反応物の抽出、沈殿物の濾過、溶媒の添加による晶析、溶媒の留去などが挙げられ、これらを単独もしくは併用して行うことができる。精製の方法としては、例えばカラムクロマトグラフィー、再結晶、昇華などが挙げられ、これらを単独あるいは併用して行うことができる。 This reaction can be performed in multiple stages by post-treatment, isolation and purification as necessary, or can be carried out in one pot without any post-treatment. Examples of the post-treatment method include extraction of reactants, filtration of precipitates, crystallization by addition of a solvent, and evaporation of the solvent, and these can be performed alone or in combination. Examples of the purification method include column chromatography, recrystallization, sublimation and the like, and these can be performed alone or in combination.
本発明の良溶解性イリジウム錯体としては、各溶剤におけるヒルデブランド(Hildebrand)の溶解度パラメータ(δ=(E/V)1/2 (式中、Eはモル凝集エネルギーを表し、Vは分子の容積を表す。))を基準として、溶解度パラメータδの値が、6〜11、好ましくは7〜10の範囲にある溶剤に0.1重量%以上溶解するものが好ましい。具体的な溶剤としては、ペンタン、ヘキサン、オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、エチルエーテル、プロピルエーテル、メチルtert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等のケトン類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、酢酸エチル等のエステル類などが挙げられる。 The well-soluble iridium complex of the present invention includes a Hildebrand solubility parameter (δ = (E / V) 1/2 in each solvent, where E represents the molar cohesive energy, and V represents the volume of the molecule. The solubility parameter δ is preferably 0.1% by weight or more in a solvent having a solubility parameter δ in the range of 6 to 11, preferably 7 to 10. Specific solvents include aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, octane, cyclopentane and cyclohexane, ethers such as ethyl ether, propyl ether, methyl tert-butyl ether, cyclopentyl methyl ether and tetrahydrofuran, benzene, toluene and xylene. , Aromatic hydrocarbons such as mesitylene, ethylbenzene, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, acetophenone, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, dichloroethane, esters such as ethyl acetate, etc. Is mentioned.
発光素子の有機層(有機化合物層)の製膜方法は、特に限定されないが、スパッタリング、分子積層法、コーティング法、インクジェット法などの方法が好ましい。更に好ましくは、構成材料等の有機溶剤溶液を調整し、スプレイコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングなどのコーティング法、グラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の印刷法、またはインクジェット法等によって印刷またはコーティングを行い、乾燥して製膜する。乾燥方法に特に制限はない。また、各種材料の粘度を調整するため、高分子材料を含有させても良い。このとき混合する高分子材料は、素子の性能を落とさないように、電荷又は正孔輸送層を有するものが好ましい。例えば、溶剤に可溶としたポリフェニレン、ポリフルオレン、ポリチオフェン、ポリフェニレンビニレン、ポリビニルカルバゾール、ポリピロール、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリオキサジアゾール等が挙げられる。特に溶剤に可溶としたポリパラフェニレン、ポリビニルカルバゾールが好ましい。また、電子輸送を補助する材料を加えることも好ましい態様の一つである。このような電子輸送を補助する材料としての具体例としては、例えば、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、多環系化合物、バソクプロイン等のヘテロ多環系化合物、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、アントラキノンジメタン誘導体、アントロン誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンテトラカルボン酸又はペリレンテトラカルボン酸等の芳香環テトラカルボン酸の酸無水物、フタロシアニン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体、イリジウム錯体等が挙げられる。 The method for forming the organic layer (organic compound layer) of the light-emitting element is not particularly limited, but methods such as sputtering, molecular lamination, coating, and inkjet are preferable. More preferably, an organic solvent solution such as a constituent material is prepared, and printing or coating is performed by a coating method such as spray coating, spin coating or dip coating, a printing method such as gravure printing, flexographic printing or screen printing, or an ink jet method. And dry to form a film. There is no particular limitation on the drying method. Moreover, in order to adjust the viscosity of various materials, a polymer material may be included. The polymer material mixed at this time preferably has a charge or hole transport layer so as not to deteriorate the performance of the device. Examples thereof include polyphenylene, polyfluorene, polythiophene, polyphenylene vinylene, polyvinyl carbazole, polypyrrole, polyacetylene, polyaniline, polyoxadiazole and the like that are soluble in a solvent. Particularly preferred are polyparaphenylene and polyvinylcarbazole which are soluble in a solvent. It is also a preferred embodiment to add a material that assists electron transport. Specific examples of such materials that assist electron transport include, for example, triazole derivatives, oxazole derivatives, polycyclic compounds, heteropolycyclic compounds such as bathocuproine, oxadiazole derivatives, fluorenone derivatives, diphenylquinone derivatives, Thiopyran dioxide derivatives, anthraquinone dimethane derivatives, anthrone derivatives, carbodiimide derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, distyrylpyrazine derivatives, acid anhydrides of aromatic ring tetracarboxylic acids such as naphthalenetetracarboxylic acid or perylenetetracarboxylic acid, phthalocyanines Derivatives, metal complexes of 8-quinolinol derivatives, metal phthalocyanines, various metal complexes represented by metal complexes having benzoxazole or benzothiazole as a ligand, organosilane derivatives, iridium complexes, etc. And the like.
本発明のイリジウム錯体を発光層のホスト材料として用いた場合の発光層におけるホスト材料とゲスト材料の混合比は、発光層中のゲスト材料の濃度が少なくとも0.5%以上となるようにする。具体的には、0.5:99.5〜99.5:0.5の範囲が好ましい。発光層の膜厚は特に限定はないが、乾燥後1nm〜1μmとした場合に、高い発光効率が得られ、10nm〜500nmとなるように作製することが好ましい。 When the iridium complex of the present invention is used as the host material of the light emitting layer, the mixing ratio of the host material and the guest material in the light emitting layer is such that the concentration of the guest material in the light emitting layer is at least 0.5% or more. Specifically, the range of 0.5: 99.5 to 99.5: 0.5 is preferable. The thickness of the light-emitting layer is not particularly limited, but it is preferable that the light-emitting layer be formed so as to have a high light emission efficiency and be 10 nm to 500 nm when dried to 1 nm to 1 μm.
前記有機溶剤としては、材料を溶解することが出来ればいずれの有機溶剤でも使用できる。例えばシクロヘキサノン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、ジクロロメタン、1,1,2−トリクロロエタン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、テトラリン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ブチルカルビトール、N−メチルピロリドン、酢酸、メタノール、エタノール、フェノール、ブタノール、水等をあげることが出来る。溶剤の揮発速度が速いと溶液の粘度上昇が起こることや、使用する印刷版に材料が固着しやすくなることから、25℃における蒸気圧が16〜350Pa(0.12〜2.5mmHg)程度の範囲内であって、沸点が常圧で100〜300℃の範囲内であることが好ましい。このような溶剤の例として、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、テトラリン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ブチルカルビトール、N−メチルピロリドン、酢酸、フェノール、ブタノール、水等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で使用しても混合で使用しても差し支えない。 As the organic solvent, any organic solvent can be used as long as the material can be dissolved. For example, cyclohexanone, toluene, xylene, tetrahydrofuran, chloroform, dichloromethane, 1,1,2-trichloroethane, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, tetralin, 1,1,2,2-tetrachloroethane, butyl carbitol, N-methylpyrrolidone, Examples include acetic acid, methanol, ethanol, phenol, butanol, water, and the like. When the volatilization rate of the solvent is high, the viscosity of the solution is increased and the material is easily fixed to the printing plate to be used. Therefore, the vapor pressure at 25 ° C. is about 16 to 350 Pa (0.12 to 2.5 mmHg). It is preferable that the boiling point is within the range of 100 to 300 ° C. at normal pressure. Examples of such solvents are toluene, xylene, cyclohexanone, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, tetralin, 1,1,2-trichloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, butyl carbitol, N-methylpyrrolidone. , Acetic acid, phenol, butanol, water and the like. These solvents may be used alone or in combination.
ゲスト及びホスト化合物の溶液の濃度は、印刷法やコーティング方法により異なるが、0.1質量%〜15質量%の範囲であることが好ましい。ゲスト及びホスト化合物の濃度が0.1質量%未満であると、印刷又はコーティングした乾燥後の膜厚が薄くなり過ぎる為有機EL素子のショートを引き起こす恐れがある。一方、ゲスト及びホスト化合物の濃度が15質量%を越えると、印刷又はコーティングした乾燥後の膜厚が厚くなり、発光させる為の必要な電圧が高くなる、或いは発光輝度が低くなることになる。得られる有機EL素子の性能から、材料の溶液中での濃度は0.5質量%〜10質量%の範囲にあることが特に好ましい。材料の溶液中での濃度がこの範囲内であれば乾燥後の発光層の膜厚を1nm〜1μmとなるように制御しやすい。 The concentration of the guest and host compound solution varies depending on the printing method and the coating method, but is preferably in the range of 0.1% by mass to 15% by mass. If the concentration of the guest and host compound is less than 0.1% by mass, the film thickness after drying after printing or coating may become too thin, which may cause a short circuit of the organic EL device. On the other hand, if the concentration of the guest and host compounds exceeds 15% by mass, the printed or coated film thickness after drying increases, and the voltage required for light emission increases or the light emission luminance decreases. From the performance of the obtained organic EL device, the concentration of the material in the solution is particularly preferably in the range of 0.5% by mass to 10% by mass. If the concentration of the material in the solution is within this range, the thickness of the light emitting layer after drying can be easily controlled to be 1 nm to 1 μm.
前記発光層上に電子輸送層等の異なる層を設ける場合、湿式製膜法又は真空蒸着法によって前記発光層上に設ける。好ましくはインクジェット法、印刷法やコーティング法などの湿式製膜法が好ましい。湿式製膜法により材料を溶剤に溶解又は分散させて得た溶液を、公知のコーティング法、インクジェット法、印刷法等によって塗布後乾燥させる。乾燥方法に特に制限はない。このとき使用する溶剤は、発光層が溶解することのないような溶剤が好ましい。このとき溶剤中の化合物濃度が0.1〜10質量%となるように調整すると、乾燥後の電子輸送層の膜厚を1nm〜200nmとなるように制御しやすい。 When providing different layers, such as an electron carrying layer, on the said light emitting layer, it provides on the said light emitting layer by the wet film forming method or the vacuum evaporation method. A wet film forming method such as an ink jet method, a printing method or a coating method is preferable. A solution obtained by dissolving or dispersing a material in a solvent by a wet film forming method is applied and dried by a known coating method, ink jet method, printing method or the like. There is no particular limitation on the drying method. The solvent used at this time is preferably a solvent that does not dissolve the light emitting layer. At this time, when the compound concentration in the solvent is adjusted to be 0.1 to 10% by mass, the thickness of the electron transport layer after drying is easily controlled to be 1 nm to 200 nm.
発光素子は陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した素子であり、発光層の他、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層などを有しても良く、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えた物であっても良い。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることが出来る。 A light emitting element is an element in which a plurality of organic compound thin films including a light emitting layer or a light emitting layer are formed between a pair of electrodes of an anode and a cathode. In addition to a light emitting layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, An electron transport layer, a protective layer, and the like may be provided, and each of these layers may have a different function. Various materials can be used for forming each layer.
陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が4eV以上の材料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ(以下、ITOとする)等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、およびこれらとITOとの積層物などが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性などの点からITOが好ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常10nm〜5μmの範囲が好ましく、より好ましくは50nm〜1μmであり、さらに好ましくは100nm〜500nmである。 The anode supplies holes to a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and the like, and a metal, an alloy, a metal oxide, an electrically conductive compound, or a mixture thereof can be used. Is a material having a work function of 4 eV or more. Specific examples include conductive metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO), metals such as gold, silver, chromium, and nickel, and conductivity with these metals. Examples include mixtures or laminates with metal oxides, inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide, organic conductive materials such as polyaniline, polythiophene, and polypyrrole, and laminates of these with ITO. In particular, ITO is preferable in terms of productivity, high conductivity, transparency, and the like. The thickness of the anode can be appropriately selected depending on the material, but is usually preferably in the range of 10 nm to 5 μm, more preferably 50 nm to 1 μm, and further preferably 100 nm to 500 nm.
陽極は通常、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、透明樹脂基板などの上に層形成したものが用いられる。ガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。基板の厚みは、機械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、ガラスを用いる場合には、通常0.2mm以上、好ましくは0.7mm以上のものを用いる。陽極の作製には材料によって種々の方法が用いられるが、たとえばITOの場合、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法(ゾル−ゲル法など)、ITO分散物の塗布などの方法で膜形成される。陽極は洗浄その他の処理により、素子の駆動電圧を下げ、発光効率を高めることも可能である。例えばITOの場合、UV−オゾン処理、プラズマ処理などが効果的である。 As the anode, a layer formed on a soda-lime glass, non-alkali glass, a transparent resin substrate or the like is usually used. When glass is used, it is preferable to use non-alkali glass as the material in order to reduce ions eluted from the glass. Moreover, when using soda-lime glass, it is preferable to use what gave barrier coatings, such as a silica. The thickness of the substrate is not particularly limited as long as it is sufficient to maintain the mechanical strength, but when glass is used, a thickness of 0.2 mm or more, preferably 0.7 mm or more is usually used. Various methods are used for producing the anode depending on the material. For example, in the case of ITO, an electron beam method, a sputtering method, a resistance heating vapor deposition method, a chemical reaction method (sol-gel method, etc.), an ITO dispersion coating, etc. A film is formed by the method. The anode can be subjected to cleaning and other treatments to lower the drive voltage of the element and increase the light emission efficiency. For example, in the case of ITO, UV-ozone treatment, plasma treatment, etc. are effective.
陰極は電子注入層、電子輸送層、発光層などに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。陰極の材料としては金属、合金、金属ハロゲン化物、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物を用いる事ができ、具体例としてはリチウム、ナトリウム、カリウムといったアルカリ金属およびその弗化物、マグネシウム、カルシウムといったアルカリ土類金属及びその弗化物、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属等が挙げられ、好ましくは仕事関数が4eV以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属等である。 The cathode supplies electrons to the electron injection layer, the electron transport layer, the light emitting layer, etc., and the adhesion, ionization potential, stability, etc., between the negative electrode and the adjacent layer such as the electron injection layer, electron transport layer, light emitting layer, etc. Selected in consideration of As the material of the cathode, metals, alloys, metal halides, metal oxides, electrically conductive compounds, or mixtures thereof can be used. Specific examples include alkali metals such as lithium, sodium and potassium and fluorides thereof, magnesium. Alkaline earth metals such as calcium and fluorides thereof, gold, silver, lead, aluminum, sodium-potassium alloys or mixed metals thereof, magnesium-silver alloys or mixed metals thereof, rare earth metals such as indium and ytterbium, etc. Preferably, the material has a work function of 4 eV or less, more preferably aluminum, a lithium-aluminum alloy or a mixed metal thereof, a magnesium-silver alloy or a mixed metal thereof.
陰極は、上記化合物及び混合物を含む積層構造を取ることも出来る。陰極の膜厚は材料により適時選択可能であるが、通常10nm〜5μmの範囲が好ましく、より好ましくは50nm〜1μmであり、さらに好ましくは100nm〜1μmである。陰極の作製には電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法等の方法が用いられ、金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時に蒸着することも出来る。さらに、複数の金属を同時に蒸着して合金で極を形成することも可能であり、またあらかじめ調整した合金を蒸着させても良い。陰極及び陽極のシート抵抗は低い方が好ましい。
発光層は通常1nm〜5μmの範囲が好ましく、より好ましくは5nm〜1μmであり、さらに好ましくは10nm〜500nmである。発光層の作製方法は、特に限定されるものではないが、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、分子積層法、コーティング法(スピンコート法、キャスト法、ディップコート法等)、インクジェット法、LB法等の方法が用いられ、好ましくは抵抗加熱蒸着、コーティング法である。
The cathode can also have a laminated structure containing the above compound and mixture. The thickness of the cathode can be appropriately selected depending on the material, but is usually preferably in the range of 10 nm to 5 μm, more preferably 50 nm to 1 μm, and further preferably 100 nm to 1 μm. For production of the cathode, methods such as an electron beam method, a sputtering method, a resistance heating vapor deposition method, and a coating method are used, and a metal can be vapor-deposited alone or two or more components can be vapor-deposited simultaneously. Furthermore, it is possible to form a pole with an alloy by simultaneously depositing a plurality of metals, or an alloy prepared in advance may be deposited. The sheet resistance of the cathode and the anode is preferably low.
The light emitting layer usually preferably has a range of 1 nm to 5 μm, more preferably 5 nm to 1 μm, and still more preferably 10 nm to 500 nm. The method for producing the light emitting layer is not particularly limited, but an electron beam method, a sputtering method, a resistance heating vapor deposition method, a molecular lamination method, a coating method (spin coating method, casting method, dip coating method, etc.), an ink jet method. , LB method or the like is used, preferably resistance heating vapor deposition or coating method.
正孔注入層、正孔輸送層の材料は、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれかを有しているものであれば良い。具体例としては、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ(N−ビニルカルバゾール) 誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、有機シラン誘導体、イリジウム錯体等が挙げられる。正孔注入層、正孔輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常1nm〜5μmの範囲が好ましく、より好ましくは5nm〜1μmであり、さらに好ましくは10nm〜500nmである。正孔注入層、正孔輸送層は上述した材料の一種または二種以上から成る単層構造であっても良いし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であっても良い。正孔注入層、正孔輸送層の作製方法は、真空蒸着法やLB法、前記の正孔注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法(スピンコート法、キャスト法、ディップコート法等)、インクジェット法等の方法が用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することが出来、樹脂成分としては例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ABS樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂などが挙げられる。 The material of the hole injection layer and the hole transport layer has any one of the function of injecting holes from the anode, the function of transporting holes, and the function of blocking electrons injected from the cathode. It ’s fine. Specific examples include carbazole derivatives, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, oxazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, styrylanthracene derivatives, Fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine compounds, aromatic dimethylidin compounds, porphyrin compounds, polysilane compounds, poly (N-vinylcarbazole) derivatives, aniline derivatives Examples thereof include polymers, thiophene oligomers, conductive polymer oligomers such as polythiophene, organosilane derivatives, iridium complexes, and the like. The thicknesses of the hole injection layer and the hole transport layer are not particularly limited, but are usually preferably in the range of 1 nm to 5 μm, more preferably 5 nm to 1 μm, and still more preferably 10 nm to 500 nm. The hole injection layer and the hole transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above-described materials, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions. The hole injection layer and the hole transport layer can be prepared by a vacuum deposition method, an LB method, a method in which the above hole injection / transport agent is dissolved or dispersed in a solvent (a spin coating method, a casting method, a dip coating method). Etc.), a method such as an inkjet method is used. In the case of the coating method, it can be dissolved or dispersed together with the resin component. Examples of the resin component include polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, polymethyl methacrylate, polybutyl methacrylate, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polybutadiene, and poly (N -Vinyl carbazole), hydrocarbon resin, ketone resin, phenoxy resin, polyamide, ethyl cellulose, vinyl acetate, ABS resin, alkyd resin, epoxy resin, silicon resin, and the like.
電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれかを有しているものであれば良い。陽極から注入された正孔を障壁する機能を有する正孔ブロッキング層のイオン化ポテンシャルは、発光層のイオン化ポテンシャルよりも大きいものを選択する。 The material of the electron injection layer and the electron transport layer may be any material having any one of the function of injecting electrons from the cathode, the function of transporting electrons, and the function of blocking holes injected from the anode. The ionization potential of the hole blocking layer having a function of blocking holes injected from the anode is selected to be larger than the ionization potential of the light emitting layer.
具体例としては、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、多環系化合物、バソクプロイン等のヘテロ多環系化合物、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、アントラキノンジメタン誘導体、アントロン誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンテトラカルボン酸又はペリレンテトラカルボン酸等の芳香環テトラカルボン酸の酸無水物、フタロシアニン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体、イリジウム錯体等が挙げられる。電子注入層、電子輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常1nm〜5μmの範囲が好ましく、より好ましくは5nm〜1μmであり、さらに好ましくは10nm〜500nmである。電子注入層、電子輸送層は上述した材料の一種または二種以上から成る単層構造であっても良いし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であっても良い。電子注入層、電子輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やLB法、前記の正孔注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法(スピンコート法、キャスト法、ディップコート法等)、インクジェット法等の方法が用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することが出来、樹脂成分としては正孔注入層及び正孔輸送層の場合に例示したものが適用できる。 Specific examples include triazole derivatives, oxazole derivatives, polycyclic compounds, heteropolycyclic compounds such as bathocuproine, oxadiazole derivatives, fluorenone derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, anthraquinone dimethane derivatives, anthrone derivatives. Carbodiimide derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, distyrylpyrazine derivatives, acid anhydrides of aromatic ring tetracarboxylic acids such as naphthalenetetracarboxylic acid or perylenetetracarboxylic acid, phthalocyanine derivatives, metal complexes of 8-quinolinol derivatives and metal phthalocyanines, Examples include various metal complexes represented by metal complexes having benzoxazole or benzothiazole as a ligand, organic silane derivatives, iridium complexes, and the like. Although the film thickness of an electron injection layer and an electron carrying layer is not specifically limited, Usually, the range of 1 nm-5 micrometers is preferable, More preferably, it is 5 nm-1 micrometer, More preferably, it is 10 nm-500 nm. The electron injection layer and the electron transport layer may have a single-layer structure made of one or more of the materials described above, or may have a multilayer structure made up of a plurality of layers having the same composition or different compositions. As a method for forming the electron injection layer and the electron transport layer, a vacuum deposition method, an LB method, a method in which the hole injection / transport agent is dissolved or dispersed in a solvent (a spin coating method, a casting method, a dip coating method, etc.) ), An ink jet method or the like is used. In the case of the coating method, it can be dissolved or dispersed together with the resin component. As the resin component, those exemplified in the case of the hole injection layer and the hole transport layer can be applied.
保護層の材料としては水分や酸素等の素子劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能を有しているものであれば良い。具体例としては、インジウム、錫、鉛、金、銀、銅、アルミニウム、チタン、ニッケル等の金属、酸化マグネシウム、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ゲルマニウム、酸化ニッケル、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化鉄、酸化イッテルビウム、酸化チタンなどの金属酸化物、弗化マグネシウム、弗化リチウム、弗化アルミニウム、弗化カルシウムの金属弗化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも一種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率1%以上の吸水性物質、吸水率0.1%以下の防湿性物質等が挙げられる。保護層の形成方法についても特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、MBE(分子線エピタキシ)法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法(高周波励起イオンプレーティング法)、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、ガスソースCVD法、コーティング法を適用できる。 As a material for the protective layer, any material may be used as long as it has a function of suppressing the entry of elements that promote element deterioration such as moisture and oxygen into the element. Specific examples include metals such as indium, tin, lead, gold, silver, copper, aluminum, titanium, nickel, magnesium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, germanium oxide, nickel oxide, calcium oxide, barium oxide, iron oxide, Metal oxides such as ytterbium oxide, titanium oxide, magnesium fluoride, lithium fluoride, aluminum fluoride, calcium fluoride metal fluoride, polyethylene, polypropylene, polymethyl methacrylate, polyimide, polyurea, polytetrafluoroethylene, polychloro Copolymers obtained by copolymerizing trifluoroethylene, polydichlorodifluoroethylene, copolymers of chlorotrifluoroethylene and dichlorodifluoroethylene, and monomer mixtures containing tetrafluoroethylene and at least one comonomer. Coalesced, copolymerization main chain fluorine-containing copolymer having a cyclic structure, 1% by weight of the water absorbing material water absorption, water absorption of 0.1% or less of the moisture-proof material, and the like. There is no particular limitation on the method for forming the protective layer. For example, vacuum deposition, sputtering, reactive sputtering, MBE (molecular beam epitaxy), cluster ion beam, ion plating, plasma polymerization (high frequency excitation ions) Plating method), plasma CVD method, laser CVD method, thermal CVD method, gas source CVD method, coating method can be applied.
このようにして得られた高効率な発光素子は、省エネルギーや高輝度が必要な製品に応用が可能である。応用例としては表示装置・照明装置やプリンターの光源、液晶表示装置のバックライトなどが考えられる。表示装置としては、省エネルギーや高視認性・軽量なフラットパネルディスプレイが可能となる。また、プリンターの光源としては、現在広く用いられているレーザビームプリンタのレーザー光源部を、前記のようにして得られた発光素子に置き換えることができる。独立にアドレスできる素子をアレイ上に配置し、感光ドラムに所望の露光を行うことで、画像形成する。このような素子を用いることで、装置体積を大幅に減少することができる。ディスプレイへの応用では、単純マトリックス方式及びアクティブマトリクス方式であるTFT駆動回路を用いて駆動する方式が考えられる。上記ITO電極の上に多層あるいは単層の有機EL層/陰極層を順次積層し有機EL表示パネルを得ることができる。 The high-efficiency light-emitting element obtained in this way can be applied to products that require energy saving and high luminance. Application examples include light sources for display devices / illuminators and printers, backlights for liquid crystal display devices, and the like. As a display device, energy-saving, high visibility and lightweight flat panel display can be realized. Further, as the light source of the printer, the laser light source part of the laser beam printer that is currently widely used can be replaced with the light emitting element obtained as described above. Elements that can be independently addressed are arranged on the array, and an image is formed by performing desired exposure on the photosensitive drum. By using such an element, the volume of the apparatus can be greatly reduced. In application to a display, a driving method using a TFT driving circuit which is a simple matrix method or an active matrix method can be considered. A multilayer or single-layer organic EL layer / cathode layer is sequentially laminated on the ITO electrode to obtain an organic EL display panel.
以下に実施例等を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and the like, but the present invention is not limited to these.
(実施例1)
化合物(1−1)(ビス(2−フェニルピリジナト−N,C2')イリジウム(III)2,4−トリデカンジオナート)の製造、
化合物(1−1)を次式に示す反応式にしたがって製造した。
Example 1
Production of compound (1-1) (bis (2-phenylpyridinato-N, C 2 ′ ) iridium (III) 2,4-tridecanedionate),
Compound (1-1) was produced according to the reaction formula shown below.
窒素雰囲気下、還流管を取り付けたシュレンクフラスコに(1,5−シクロオクタジエン)イリジウム(I)クロライド ダイマー(5.0g、7.44mmol、1当量)を入れ、この中に2−エトキシエタノール(50mL)、2−フェニルピリジン(4.852g、3.13mmol、4.2当量)を順次加え、135℃にて3時間攪拌した。得られた黄色の懸濁液を室温にまで冷却し、中間体のビス(2−フェニルピリジナト−N,C2')イリジウム(III)クロライド ダイマーを懸濁液として得た。この懸濁液に、2,4−トリデカンジオン(4.76g、22.3mmol、3.0当量)及び炭酸ナトリウム(2.37g、22.3mmol、3.0当量)を順次加え、135℃でさらに2時間攪拌し山吹色の懸濁液を得た。反応液から溶媒を減圧留去して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ジクロロメタン)にて精製した。カラムの分画を濃縮した後、ヘキサン/ジクロロメタンから再結晶を行い、標題の化合物(1−1)を山吹色の粉末として4.77g得た。収率89.9%。さらに減圧下、昇華精製を行った。
1H NMR(500MHz, CD2Cl2):δ 0.89(t, J=7.2Hz, 3H), 0.91-1.38(m,14H), 1.97(t, J=7.4Hz, 2H), 5.19(s, 1H)
MS(C35H39N2O2Ir:M.W.712.26): 実測値:712.0, 501.1
Under a nitrogen atmosphere, a (1,5-cyclooctadiene) iridium (I) chloride dimer (5.0 g, 7.44 mmol, 1 equivalent) was placed in a Schlenk flask equipped with a reflux tube, and 2-ethoxyethanol ( 50 mL) and 2-phenylpyridine (4.852 g, 3.13 mmol, 4.2 equivalents) were sequentially added and stirred at 135 ° C. for 3 hours. The resulting yellow suspension was cooled to room temperature, yielding the intermediate bis (2-phenylpyridinato-N, C 2 ′ ) iridium (III) chloride dimer as a suspension. To this suspension, 2,4-tridecanedione (4.76 g, 22.3 mmol, 3.0 eq) and sodium carbonate (2.37 g, 22.3 mmol, 3.0 eq) were added sequentially, and 135 ° C. The mixture was further stirred for 2 hours to obtain a bright yellow suspension. The solvent was distilled off from the reaction solution under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: dichloromethane). The column fraction was concentrated and recrystallized from hexane / dichloromethane to obtain 4.77 g of the title compound (1-1) as a bright yellow powder. Yield 89.9%. Further, sublimation purification was performed under reduced pressure.
1 H NMR (500 MHz, CD 2 Cl 2 ): δ 0.89 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 0.91-1.38 (m, 14H), 1.97 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 5.19 (s, 1H)
MS (C 35 H 39 N 2 O 2 Ir: MW712.26): Found: 712.0, 501.1
(実施例2)
化合物(1−2)(ビス(2−フェニルピリジナト−N,C2')イリジウム(III)10,12−ヘンイコサンジオナート)の製造、
化合物(1−2)を次に示す反応式にしたがって製造した。
(Example 2)
Production of compound (1-2) (bis (2-phenylpyridinato-N, C 2 ′ ) iridium (III) 10,12-henicosandionate),
Compound (1-2) was produced according to the reaction formula shown below.
窒素雰囲気下、還流管を取り付けたシュレンクフラスコに実施例1と同様にして得られたビス(2−フェニルピリジナト−N,C2')イリジウム(III)クロライド ダイマー(1.5g、1.4mmol、1当量)を取り、この中に1−ブタノール(30mL)及び10,12−ヘンイコサンジオン(1.2g、3.68mmol、1.3当量)を順次加えた。さらにナトリウムターシャリーブトキシド(0.37g、3.12mmol、1.1当量)を徐々に加え、135℃にて3時間攪拌した。得られた黄色の懸濁液を室温にまで冷却し、ろ過し、ろ過物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:トルエン)にて精製した。カラムの分画を濃縮した後、ヘプタンから再結晶を行い、標題の化合物(1−2)を山吹色の粉末として0.743g(0.90mmol)得た。収率32.0%。
1H NMR(500MHz,,CD2Cl2):δ0.88(t, J=7.3Hz, 6H), 0.95-1.35(m, 28H), 1.99(td, 4H), 5.18(s, 1H), 6.32(d, J=7.6Hz,2H), 6.68(dd, J=7.6, 7.7Hz, 2H), 6.81(dd, J=7.6, 7.7Hz, 2H), 7.08(dd, J=5.8, 8.1Hz, 2H), 7.55(d, J=7.7Hz, 2H), 7.70(dd, J=5.8, 8.1Hz, 2H), 7.83(d, J=8.1Hz, 2H), 8.49(d, J=5.8Hz, 2H)
MS(C43H55N2O2Ir:M.W.824.22): 実測値:824.3, 501.2
A bis (2-phenylpyridinato-N, C 2 ′ ) iridium (III) chloride dimer (1.5 g, 1. g) obtained in the same manner as in Example 1 in a Schlenk flask equipped with a reflux tube under a nitrogen atmosphere. 4 mmol, 1 equivalent) was taken, and 1-butanol (30 mL) and 10,12-henicosandione (1.2 g, 3.68 mmol, 1.3 equivalent) were sequentially added thereto. Further, sodium tertiary butoxide (0.37 g, 3.12 mmol, 1.1 equivalents) was gradually added, and the mixture was stirred at 135 ° C. for 3 hours. The resulting yellow suspension was cooled to room temperature, filtered, and the filtrate was purified by silica gel column chromatography (eluent: toluene). The column fraction was concentrated and recrystallized from heptane to obtain 0.743 g (0.90 mmol) of the title compound (1-2) as a bright yellow powder. Yield 32.0%.
1 H NMR (500 MHz, CD 2 Cl 2 ): δ0.88 (t, J = 7.3Hz, 6H), 0.95-1.35 (m, 28H), 1.99 (td, 4H), 5.18 (s, 1H), 6.32 (d, J = 7.6Hz, 2H), 6.68 (dd, J = 7.6, 7.7Hz, 2H), 6.81 (dd, J = 7.6, 7.7Hz, 2H), 7.08 (dd, J = 5.8, 8.1Hz , 2H), 7.55 (d, J = 7.7Hz, 2H), 7.70 (dd, J = 5.8, 8.1Hz, 2H), 7.83 (d, J = 8.1Hz, 2H), 8.49 (d, J = 5.8Hz , 2H)
MS (C 43 H 55 N 2 O 2 Ir: MW824.22): Actual value: 824.3, 501.2
(実施例3)
化合物(1−3)(ビス(2−フェニルピリジナト−N,C2')イリジウム(III)3−ドデシル−2.4−ペンタンジオナート)の製造、
化合物(1−3)を次に示す反応式に従って製造した。
(Example 3)
Production of compound (1-3) (bis (2-phenylpyridinato-N, C 2 ′ ) iridium (III) 3-dodecyl-2.4-pentanedionate),
Compound (1-3) was produced according to the following reaction formula.
窒素雰囲気下、還流管を取り付けたシュレンクフラスコに(1,5−シクロオクタジエン)イリジウム(I)クロライド ダイマー(2.0g、2.98mmol、1当量)を入れ、この中に2−エトキシエタノール(30mL)、2−フェニルピリジン(1.85g、11.9mmol、2当量)を順次加え、135℃にて3時間攪拌した。得られた黄色の懸濁液を室温にまで冷却した後、3−ドデシル−2.4−ペンタジオン(2.04g、7.74mmol、1.3当量)を加え、さらにナトリウムターシャリーブトキシド(0.601g、6.25mmol、1.05当量)を徐々に加えた後、室温にて10時間攪拌した。得られた黄色の懸濁液を室温にまで冷却後、ろ過し、ろ過物をトルエンに溶解して、トルエン溶液を水洗した。さらに飽和食塩水で2回洗浄した後、溶媒を留去した。得られた粗生成物は、塩化メチレン/ヘプタンで再結晶を行い、化合物(1−3)を山吹色の粉末として3.23g(5.26mmol)得た。収率88.3%。
1H NMR(500MHz, CD2Cl2):δ 0.88(t, J=7.1Hz, 3H), 1.20-1.31(m, 20H), 1.57(d, J=7.0Hz, 2H), 2.01(s, 3H), 2.33(s, 3H), 6.08(d, J=7.8Hz, 2H), 6.63(dd, J=7.5Hz, 7.8Hz, 2H), 6.78(dd, J=7.5Hz, 7.8Hz, 2H), 7.27(dd, J=8.0Hz, 5.5Hz, 2H), 7.51(d, J=7.8Hz, 2H), 7.80(dd, J=8.0Hz, 5.5Hz, 2H), 7.87(d, J=8.0Hz, 2H), 8.87(d, J=5.5Hz, 2H)
MS(C39H47N2O2Ir:M.W.768.32); 実測値:768.2, 501.2
Under a nitrogen atmosphere, a (1,5-cyclooctadiene) iridium (I) chloride dimer (2.0 g, 2.98 mmol, 1 equivalent) was placed in a Schlenk flask equipped with a reflux tube, and 2-ethoxyethanol ( 30 mL) and 2-phenylpyridine (1.85 g, 11.9 mmol, 2 equivalents) were sequentially added, and the mixture was stirred at 135 ° C. for 3 hours. After cooling the resulting yellow suspension to room temperature, 3-dodecyl-2.4-pentadione (2.04 g, 7.74 mmol, 1.3 eq) was added, followed by sodium tertiary butoxide (0.601 g). , 6.25 mmol, 1.05 eq.) Was gradually added, followed by stirring at room temperature for 10 hours. The resulting yellow suspension was cooled to room temperature and then filtered, the filtrate was dissolved in toluene, and the toluene solution was washed with water. Further, after washing twice with a saturated saline solution, the solvent was distilled off. The obtained crude product was recrystallized from methylene chloride / heptane to obtain 3.23 g (5.26 mmol) of compound (1-3) as a bright yellow powder. Yield 88.3%.
1 H NMR (500 MHz, CD 2 Cl 2 ): δ 0.88 (t, J = 7.1Hz, 3H), 1.20-1.31 (m, 20H), 1.57 (d, J = 7.0Hz, 2H), 2.01 (s, 3H), 2.33 (s, 3H), 6.08 (d, J = 7.8Hz, 2H), 6.63 (dd, J = 7.5Hz, 7.8Hz, 2H), 6.78 (dd, J = 7.5Hz, 7.8Hz, 2H ), 7.27 (dd, J = 8.0Hz, 5.5Hz, 2H), 7.51 (d, J = 7.8Hz, 2H), 7.80 (dd, J = 8.0Hz, 5.5Hz, 2H), 7.87 (d, J = 8.0Hz, 2H), 8.87 (d, J = 5.5Hz, 2H)
MS (C 39 H 47 N 2 O 2 Ir: MW768.32); Found: 768.2, 501.2
(実施例4)
化合物(1−4)(ビス(2−フェニルピリジナト−N,C2')イリジウム(III)ドデシル−3−オキソブタノエート)の製造、
化合物(1−4)を次に示す反応式に従って製造した。
Example 4
Preparation of compound (1-4) (bis (2-phenylpyridinato-N, C 2 ′ ) iridium (III) dodecyl-3-oxobutanoate)
Compound (1-4) was produced according to the following reaction formula.
窒素雰囲気下、還流管を取り付けたシュレンクフラスコにビス(2−フェニルピリジナト−N,C2')イリジウム(III)クロライド ダイマー(1.83g、1.71mmol、1当量)を入れ、この中にアセトン100mLを加えた。さらにトリフルオロメタンスルホン酸銀(1.756g、6.83mmol、2当量)を添加して、還流下にて3時間攪拌した。室温まで冷却した後、析出した塩化銀をろ過した。得られたろ液を還流管を取り付けたシュレンクフラスコに窒素下で加えて、さらにドデシル−3−オキソブタノエート(2.3409g、8.72mmol、2.55当量)及びトリエチルアミン1.5mLを添加して、還流下にて5時間攪拌後、室温まで冷却した。反応溶液をろ過した後、ろ液を減圧留去した。得られた粗生成物を塩化メチレンに溶解した後、セライトろ過を行い、ろ液を溶媒留去した後、ヘプタン再結晶を3回繰り返して、化合物(1−4)を山吹色の粉末として0.602g(0.784mmol)得た。収率22.9%。
1H NMR(500MHz, CD2Cl2):δ 0.89(t, J=7.1Hz, 3H), 1.01-1.36(m, 16H), 3.08(s, 3H), 3.76(m, 2H), 4.69(s, 1H), 6.23(d, J=7.6Hz, 1H), 6.27(d, J=7.6Hz, 1H), 6.67(m, 2H), 6.79(m, 2H), 7.13(m, 2H), 7.52(d, J=7.8Hz, 2H), 7.54(d, J=7.54, 2H), 7.72(dd, 2H), 7.82(d, J=8.0Hz, 1H), 7.82(d, J=8.0Hz, 1H), 8.54(d, J=7.7Hz, 1H), 8.62(d, J=7.7Hz, 1H)
MS(C38H45N2O2Ir:M.W.770.30): 実測値:770.0, 501.1, 154.0
Under a nitrogen atmosphere, bis (2-phenylpyridinato-N, C 2 ′ ) iridium (III) chloride dimer (1.83 g, 1.71 mmol, 1 equivalent) was placed in a Schlenk flask equipped with a reflux tube. 100 ml of acetone was added to the solution. Further, silver trifluoromethanesulfonate (1.756 g, 6.83 mmol, 2 equivalents) was added and stirred under reflux for 3 hours. After cooling to room temperature, the precipitated silver chloride was filtered. The obtained filtrate was added to a Schlenk flask equipped with a reflux tube under nitrogen, and dodecyl-3-oxobutanoate (2.3409 g, 8.72 mmol, 2.55 eq) and 1.5 mL of triethylamine were further added. The mixture was stirred for 5 hours under reflux and then cooled to room temperature. After the reaction solution was filtered, the filtrate was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was dissolved in methylene chloride, filtered through Celite, the solvent was distilled off from the filtrate, and heptane recrystallization was repeated three times to obtain the compound (1-4) as a bright yellow powder. Obtained 602 g (0.784 mmol). Yield 22.9%.
1 H NMR (500 MHz, CD 2 Cl 2 ): δ 0.89 (t, J = 7.1 Hz, 3H), 1.01-1.36 (m, 16H), 3.08 (s, 3H), 3.76 (m, 2H), 4.69 ( s, 1H), 6.23 (d, J = 7.6Hz, 1H), 6.27 (d, J = 7.6Hz, 1H), 6.67 (m, 2H), 6.79 (m, 2H), 7.13 (m, 2H), 7.52 (d, J = 7.8Hz, 2H), 7.54 (d, J = 7.54, 2H), 7.72 (dd, 2H), 7.82 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.82 (d, J = 8.0Hz , 1H), 8.54 (d, J = 7.7Hz, 1H), 8.62 (d, J = 7.7Hz, 1H)
MS (C 38 H 45 N 2 O 2 Ir: MW770.30): Actual value: 770.0, 501.1, 154.0
(実施例5)
化合物(1−5)(ビス(2−(4−デシルフェニル)ピリジナト−N,C2')イリジウム(III)アセチルアセトナート)の製造、
化合物(1−5)を次に示す反応式に従って製造した。
(Example 5)
Preparation of compound (1-5) (bis (2- (4-decylphenyl) pyridinato-N, C 2 ′ ) iridium (III) acetylacetonate),
Compound (1-5) was produced according to the reaction formula shown below.
窒素雰囲気下、還流管を取り付けたシュレンクフラスコに(1,5−シクロオクタジエン)イリジウム(I)クロライド ダイマー(0.5g、0.744mmol、1当量)を入れ、この中に2−エトキシエタノール(30mL)、2−(4−デシルフェニル)ピリジン(0.88g、純度90%、5.10mmol、3.4当量)を順次加え、135℃にて4時間攪拌した。得られた黄色の懸濁液を室温まで冷却した後、カリウムアセチルアセトナート水和物(0.29g、純度97%、1.91mmol、2.6当量)を加え、還流下にてさらに2時間攪拌し山吹色の懸濁液を得た。反応液から溶媒を減圧留去して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ジクロロメタン)にて精製した。カラムの分画を濃縮した後、ヘプタン/ジクロロメタンから再結晶を行い、標題の化合物(1−5)を山吹色の粉末として0.5154g(0.585mmol)得た。収率39.3%。
1H NMR(500MHz, CD2Cl2): δ0.883(t, J=7.1Hz, 6H), 1.04-1.42(m, 32H), 1.77(s, 6H), 2.27(d, J=7.7Hz, 4H), 5.19(s, 1H), 6.02(s, 2H), 6.61(d, J=7.9Hz, 2H), 7.08(dd, J=5.7, 8.0Hz, 2H), 7.43(d, J=8.0Hz, 2H), 7.68(dd, J=5.7, 8.0Hz, 2H), 7.79(d, J=8.0Hz, 2H), 8.48(d, J=5.7Hz, 2H)
MS(C47H63N2O2Ir:M.W.880.45): 実測値:880.2, 781.3
Under a nitrogen atmosphere, a (1,5-cyclooctadiene) iridium (I) chloride dimer (0.5 g, 0.744 mmol, 1 equivalent) was placed in a Schlenk flask equipped with a reflux tube, and 2-ethoxyethanol ( 30 mL) and 2- (4-decylphenyl) pyridine (0.88 g, purity 90%, 5.10 mmol, 3.4 equivalents) were sequentially added, and the mixture was stirred at 135 ° C. for 4 hours. After cooling the obtained yellow suspension to room temperature, potassium acetylacetonate hydrate (0.29 g, purity 97%, 1.91 mmol, 2.6 equivalents) was added, and the mixture was further refluxed for 2 hours. Stirring to obtain a bright yellow suspension. The solvent was distilled off from the reaction solution under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: dichloromethane). The column fraction was concentrated and recrystallized from heptane / dichloromethane to obtain 0.5154 g (0.585 mmol) of the title compound (1-5) as a bright yellow powder. Yield 39.3%.
1 H NMR (500 MHz, CD 2 Cl 2 ): δ0.883 (t, J = 7.1Hz, 6H), 1.04-1.42 (m, 32H), 1.77 (s, 6H), 2.27 (d, J = 7.7Hz , 4H), 5.19 (s, 1H), 6.02 (s, 2H), 6.61 (d, J = 7.9Hz, 2H), 7.08 (dd, J = 5.7, 8.0Hz, 2H), 7.43 (d, J = 8.0Hz, 2H), 7.68 (dd, J = 5.7, 8.0Hz, 2H), 7.79 (d, J = 8.0Hz, 2H), 8.48 (d, J = 5.7Hz, 2H)
MS (C 47 H 63 N 2 O 2 Ir: MW880.45): Found: 880.2, 781.3
(実施例6)
化合物(1−6)(ビス(2−(3−ヘキシルフェニル)ピリジナト−N,C2')イリジウム(III)アセチルアセトナート)の製造
化合物(1−6)を次に示す反応式に従って製造した。
(Example 6)
Preparation of Compound (1-6) (Bis (2- (3-hexylphenyl) pyridinato-N, C 2 ′ ) iridium (III) acetylacetonate) Compound (1-6) was prepared according to the following reaction formula .
窒素雰囲気下、還流管を取り付けたシュレンクフラスコに(1,5−シクロオクタジエン)イリジウム(I)クロライド ダイマー(1.0g、1.44mmol、1当量)を入れ、この中に2−エトキシエタノール(60mL)、2−(3−ヘキシルフェニル)ピリジン(1.425g、5.95mmol、2当量)を順次加え、135℃にて4時間攪拌した。得られた黄色の懸濁液を室温まで冷却した後、カリウムアセチルアセトナート水和物(0.57g、純度97%、3.76mmol、1.3当量)を加え、還流下にてさらに2時間攪拌し山吹色の懸濁液を得た。反応液から溶媒を減圧留去して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ジクロロメタン)にて精製した。カラムの分画を濃縮した後、ヘプタン/ジクロロメタンから再結晶を行い、標題の化合物(1−6)を山吹色の粉末として0.8898g(1.16mmol)得た。収率38.9%。
1H NMR(500MHz, CD2Cl2): δ 0.86(t, J=7.1Hz, 6H), 1.21-1.32(m, 12H), 1.51-1.58(m, 4H), 2.43(t, J=7.7Hz, 4H), 5.19(s, 1H), 6.16(d, J=7.8Hz, 2H), 6.54(d, J=7.8Hz, 2H), 7.09(dd, J=8.1Hz, 6.3Hz, 2H), 7.35(s, 1H), 7.69(dd, J=8.1Hz, 6.3Hz, 2H), 7.83(d, J=8.1Hz, 2H), 8.59(d, J=6.3Hz, 2H)
MS(C39H47N2O2Ir:768.32): 実測値:768.0, 669.1
Under a nitrogen atmosphere, a (1,5-cyclooctadiene) iridium (I) chloride dimer (1.0 g, 1.44 mmol, 1 equivalent) was placed in a Schlenk flask equipped with a reflux tube, and 2-ethoxyethanol ( 60 mL) and 2- (3-hexylphenyl) pyridine (1.425 g, 5.95 mmol, 2 equivalents) were sequentially added, and the mixture was stirred at 135 ° C. for 4 hours. After cooling the obtained yellow suspension to room temperature, potassium acetylacetonate hydrate (0.57 g, purity 97%, 3.76 mmol, 1.3 eq) was added, and the mixture was further refluxed for 2 hours. Stirring to obtain a bright yellow suspension. The solvent was distilled off from the reaction solution under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: dichloromethane). The column fraction was concentrated and recrystallized from heptane / dichloromethane to obtain 0.8898 g (1.16 mmol) of the title compound (1-6) as a bright yellow powder. Yield 38.9%.
1 H NMR (500 MHz, CD 2 Cl 2 ): δ 0.86 (t, J = 7.1Hz, 6H), 1.21-1.32 (m, 12H), 1.51-1.58 (m, 4H), 2.43 (t, J = 7.7 Hz, 4H), 5.19 (s, 1H), 6.16 (d, J = 7.8Hz, 2H), 6.54 (d, J = 7.8Hz, 2H), 7.09 (dd, J = 8.1Hz, 6.3Hz, 2H) , 7.35 (s, 1H), 7.69 (dd, J = 8.1Hz, 6.3Hz, 2H), 7.83 (d, J = 8.1Hz, 2H), 8.59 (d, J = 6.3Hz, 2H)
MS (C 39 H 47 N 2 O 2 Ir: 768.32): Actual measurement: 768.0, 669.1
(実施例7)
化合物(1−7)(ビス(2−フェニル(4−ペンチル−ピリジナト)−N,C2')イリジウム(III)2,4−ペンタジオナート)の製造、
化合物(1−7)を次に示す反応式に従って製造した。
(Example 7)
Preparation of compound (1-7) (bis (2-phenyl (4-pentyl-pyridinato) -N, C 2 ′ ) iridium (III) 2,4-pentadionate)
Compound (1-7) was produced according to the reaction formula shown below.
窒素雰囲気下、還流管を取り付けたシュレンクフラスコに(1,5−シクロオクタジエン)イリジウム(I)クロライド ダイマー(0.2g、0.298mmol、1当量)を入れ、この中に2−エトキシエタノール(25mL)、2−フェニル−4−ペンチルピリジン(0.352g、1.07mmol、3.6当量)を順次加え、135℃にて4時間攪拌した。得られた黄色の懸濁液を室温まで冷却した後、カリウムアセチルアセトナート水和物(0.152g、純度97%、1.07mmol、3.4当量)を加え、還流下にてさらに2時間攪拌し山吹色の懸濁液を得た。反応液から溶媒を減圧留去して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:トルエン/酢酸エチル)にて精製した。カラムの分画を濃縮した後、トルエン/ヘプタンから再結晶を行い、標題の化合物(1−7)を山吹色の粉末として0.216g(0.29mmol)得た。収率49.1%。
1H NMR(500MHz, CD2Cl2):δ 0.95(t, J=7.1Hz, 6H), 1.42(m, 8H), 1.77(m, 4H), 1.78(s, 6H), 2.80(t, J=7.9Hz, 4H), 5.19(s, 1H), 6.25(d, J=7.6Hz, 2H), 6.66(dd, J=7.6Hz, 7.8Hz, 2H), 6.78(dd, J=7.6Hz, 7.8Hz, 2H), 6.97(d, J=5.9Hz, 2H), 7.52(d, J=7.8Hz, 2H), 7.64(s, 2H), 8.36(d, J=5.9Hz, 2H)
MS(C37H48N2O2Ir:740.04): 実測値:741.4, 692.3, 673.4, 641.4
Under a nitrogen atmosphere, a (1,5-cyclooctadiene) iridium (I) chloride dimer (0.2 g, 0.298 mmol, 1 equivalent) was placed in a Schlenk flask equipped with a reflux tube, and 2-ethoxyethanol ( 25 mL) and 2-phenyl-4-pentylpyridine (0.352 g, 1.07 mmol, 3.6 equivalents) were sequentially added, and the mixture was stirred at 135 ° C. for 4 hours. After cooling the obtained yellow suspension to room temperature, potassium acetylacetonate hydrate (0.152 g, purity 97%, 1.07 mmol, 3.4 equivalents) was added, and the mixture was further refluxed for 2 hours. Stirring to obtain a bright yellow suspension. The solvent was distilled off from the reaction solution under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: toluene / ethyl acetate). The column fraction was concentrated and recrystallized from toluene / heptane to obtain 0.216 g (0.29 mmol) of the title compound (1-7) as a bright yellow powder. Yield 49.1%.
1 H NMR (500 MHz, CD 2 Cl 2 ): δ 0.95 (t, J = 7.1 Hz, 6H), 1.42 (m, 8H), 1.77 (m, 4H), 1.78 (s, 6H), 2.80 (t, J = 7.9Hz, 4H), 5.19 (s, 1H), 6.25 (d, J = 7.6Hz, 2H), 6.66 (dd, J = 7.6Hz, 7.8Hz, 2H), 6.78 (dd, J = 7.6Hz , 7.8Hz, 2H), 6.97 (d, J = 5.9Hz, 2H), 7.52 (d, J = 7.8Hz, 2H), 7.64 (s, 2H), 8.36 (d, J = 5.9Hz, 2H)
MS (C 37 H 48 N 2 O 2 Ir: 740.04): Found: 741.4, 692.3, 673.4, 641.4
(合成例1)
化合物(2−1)の合成
(Synthesis Example 1)
Synthesis of compound (2-1)
アルゴン雰囲気下、N,N−ビス[3−(2−ピリジル)フェニル]−3,5−ジ(t−ブチル)アニリン(248mg)及びテトラクロロ白金酸カリウム(II)(306mg)を混合し、酢酸を加えて140℃にて3日間撹拌した。加水後、塩化メチレンで抽出を行い、溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、化合物(2−1)を赤色結晶として得た(124mg)。 Under an argon atmosphere, N, N-bis [3- (2-pyridyl) phenyl] -3,5-di (t-butyl) aniline (248 mg) and potassium tetrachloroplatinate (II) (306 mg) were mixed, Acetic acid was added and stirred at 140 ° C. for 3 days. After the addition of water, extraction with methylene chloride was performed, the solvent was distilled off, and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain compound (2-1) as red crystals (124 mg).
(合成例2)
化合物(2−2)の合成
(Synthesis Example 2)
Synthesis of compound (2-2)
ベンゾニトリル中に塩化白金(II)(212mg)及びN,N−ビス[3−(2−ピリジル)フェニル]−4−n−オクチルアニリン(409mg)を加え、還流下で5時間撹拌を行った。放冷後、ベンゾニトリルを留去し、加水後、塩化メチレンで抽出した。抽出液を濃縮して塩化メチレンを留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物(2−2)を赤色結晶として得た(328mg)。 Platinum (II) chloride (212 mg) and N, N-bis [3- (2-pyridyl) phenyl] -4-n-octylaniline (409 mg) were added to benzonitrile, and the mixture was stirred under reflux for 5 hours. . After allowing to cool, benzonitrile was distilled off, followed by addition of water and extraction with methylene chloride. The extract was concentrated to remove methylene chloride, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography to obtain compound (2-2) as red crystals (328 mg).
(素子例1)
図1の素子構造1の構造を有する有機EL素子を以下のように形成した。ITOの透明電極が形成されたガラス基板を洗浄し,PEDT:PSSをスピンコート法により35nmで製膜した。なお、PEDTはポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を示し、PSSはポリスルホスチレンを示す(以下、同じ)。さらに,その上に,発光層として実施例1で製造した化合物(1−1)をホスト材料として、合成例1で製造した化合物(2−1)をゲスト材料として、さらに、次式
(Element Example 1)
An organic EL element having the structure of the element structure 1 of FIG. 1 was formed as follows. The glass substrate on which the ITO transparent electrode was formed was washed, and PEDT: PSS was deposited at 35 nm by spin coating. PEDT represents poly (3,4-ethylenedioxythiophene), and PSS represents polysulfostyrene (hereinafter the same). Furthermore, as a light emitting layer, the compound (1-1) produced in Example 1 as a host material, the compound (2-1) produced in Synthesis Example 1 as a guest material, and the following formula
で示される化合物OXD−7を電子輸送材料として、1,2−ジクロロエタンに溶解したもの(ホスト:OXD−7:ゲスト=47:47:6(=質量比))を作製し、スピンコートにより80nmで塗布した。その上に背面電極としてBaを30nm,ついでAlを100nm蒸着した。この素子に電流を流したところ,6.8Vで赤色に発光した。測定されたこの素子の特性を表1に示した。 A compound dissolved in 1,2-dichloroethane (host: OXD-7: guest = 47: 47: 6 (= mass ratio)) was prepared as an electron transporting material using the compound OXD-7 represented by formula It was applied with. On top of this, 30 nm of Ba and then 100 nm of Al were deposited as a back electrode. When current was passed through the device, it emitted red light at 6.8V. The measured characteristics of the device are shown in Table 1.
(素子例2)
図1の素子構造3の構造を有する有機EL素子を以下のように形成した。ITOの透明電極が形成されたガラス基板を洗浄し,PEDT:PSSをスピンコート法により35nmで製膜した。さらに,その上に,発光層として,実施例1で製造した化合物(1−1)をホスト材料として、及び合成例1で製造した化合物(2−1)をゲスト材料として、1,2−ジクロロエタンに溶解したもの(ホスト:ゲスト=94:6(=質量比))を作製し、スピンコートにより80nmで塗布した。次にホールブロッキング層としてバトクプロイン(BCP:2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン)を蒸着により100nm蒸着した。次に、電子輸送層としてアルミ・オキシン錯体(Alq)を蒸着により200nmで製膜する。その上に背面電極としてLiFを0.5nm,ついでAlを100nmで蒸着した。この素子に電流を流したところ,5.3Vで赤色に発光した。測定されたこの素子の特性を表1に示した。
(Element Example 2)
An organic EL element having the structure of the
(素子例3)
図1の素子構造3の構造を有する有機EL素子を以下のように形成した。ITOの透明電極が形成されたガラス基板を洗浄し,PEDT:PSSをスピンコート法により35nmで製膜した。さらに,その上に,発光層としては,実施例1で製造した化合物(1−1)をホスト材料として、OXD−7を電子輸送材料として、さらに合成例2で製造した化合物(2−1)をゲスト材料として、1,2−ジクロロエタンに溶解したもの(ホスト:OXD−7:ゲスト=47:47:6(=質量比))を作製し、スピンコートにより80nmで塗布した。次にホールブロッキング層としてBCPを蒸着により100nmで蒸着した。次に,電子輸送層としてアルミ・オキシン錯体(Alq)蒸着により200nmで製膜する。その上に背面電極としてLiFを0.5nm,ついでAlを100nmで蒸着した。この素子に電流を流したところ,4.3Vで赤色に発光した。測定されたこの素子の特性を表1に示した。
(Element Example 3)
An organic EL element having the structure of the
(素子例4)
図1の素子構造3の構造を有する有機EL素子を以下のように形成した。ITOの透明電極が形成されたガラス基板を洗浄し,PEDT:PSSをスピンコート法により35nmで製膜した。さらに,その上に,発光層としては,実施例1で製造した化合物(1−1)をホスト材料として、OXD−7を電子輸送材料として、さらに合成例2で製造した化合物(2−2)をゲスト材料として、THFに溶解したもの(ホスト:OXD−7:ゲスト=47:47:6:重量比)を作製し、スピンコートにより80nmで塗布した。次にホールブロッキング層としてBCPを蒸着により100nm蒸着した。次に、電子輸送層としてアルミ・オキシン錯体(Alq)蒸着により200nmで製膜する。その上に背面電極としてLiFを0.5nm,ついでAlを100nmで蒸着した。この素子に電流を流したところ,5.4Vで赤色に発光した。測定された素子の特性を表1に示した。
(Element Example 4)
An organic EL element having the structure of the
(素子例5)
図1の素子構造2の構造を有する有機EL素子を以下のように形成した。ITOの透明電極が形成されたガラス基板を洗浄し,PEDT:PSSをスピンコート法により35nmで製膜した。さらに,その上に,発光層としては,実施例2で製造した化合物(1−2)をホスト材料として、OXD−7を電子輸送材料として、合成例2で製造した化合物(2−2)をゲスト材料として、1,2−ジクロロエタンに溶解したもの(ホスト:OXD−7:ゲスト=47:47:6(=質量比))を作製し、スピンコートにより80nmで塗布した。その上に背面電極としてLiFを0.5nm、ついでAlを100nmで蒸着した。この素子に電流を流したところ、5.4Vで赤色に発光した。測定された素子の特性を表1に示した。
(Element Example 5)
An organic EL element having the structure of the element structure 2 of FIG. 1 was formed as follows. The glass substrate on which the ITO transparent electrode was formed was washed, and PEDT: PSS was deposited at 35 nm by spin coating. Furthermore, as the light emitting layer, the compound (2-2) produced in Synthesis Example 2 was prepared using the compound (1-2) produced in Example 2 as a host material, OXD-7 as an electron transporting material. A guest material dissolved in 1,2-dichloroethane (host: OXD-7: guest = 47: 47: 6 (= mass ratio)) was prepared and applied at 80 nm by spin coating. On top of that, LiF was vapor-deposited at 0.5 nm and then Al at 100 nm as a back electrode. When a current was passed through this device, it emitted red light at 5.4V. The measured device characteristics are shown in Table 1.
(素子例6)
図1の素子構造3の構造を有する有機EL素子を以下のように形成した。ITOの透明電極が形成されたガラス基板を洗浄し,PEDT:PSSをスピンコート法により35nmで製膜した。さらに,その上に,発光層として実施例4で製造した化合物(1−4)をホスト材料として、OXD−7を電子輸送材料として、合成例2で製造した化合物(2−2)をゲスト材料として、THFに溶解したもの(ホスト:OXD−7:ゲスト=47:47:6(=質量比))を作製し、スピンコートにより80nmで塗布した。次にホールブロッキング層としてBCPを蒸着により100nm蒸着した。次に,電子輸送層としてアルミ・オキシン錯体(Alq)蒸着により200nmで製膜する。その上に背面電極としてLiFを0.5nm,ついでAlを100nmで蒸着した。この素子に電流を流したところ、6.6Vで赤色に発光した。測定された素子の特性を表1に示した。
(Element Example 6)
An organic EL element having the structure of the
(素子例7)
図1の素子構造3の構造を有する有機EL素子を以下のように形成した。ITOの透明電極が形成されたガラス基板を洗浄し,PEDT:PSSをスピンコート法により35nmで製膜した。さらに,その上に,発光層としては,実施例5で製造した化合物(1−5)をホスト材料として、OXD−7を電子輸送材料として、合成例2で製造した化合物(2−2)をゲスト材料として、THFに溶解したもの(ホスト:OXD−7:ゲスト=47:47:6(=質量比))を作製し、スピンコートにより80nmで塗布した。次にホールブロッキング層としてBCPを蒸着により100nm蒸着した。次に,電子輸送層としてアルミ・オキシン錯体(Alq)蒸着により200nmで製膜する。その上に背面電極としてLiFを0.5nm,ついでAlを100nmで蒸着した。この素子に電流を流したところ、5.8Vで赤色に発光した。測定された素子の特性を表1に示した。
(Element Example 7)
An organic EL element having the structure of the
(素子例8)
図1の素子構造1の構造を有する有機EL素子を以下のように形成した。ITOの透明電極が形成されたガラス基板を洗浄し,PEDT:PSSをスピンコート法により35nmで製膜した。さらに,その上に,発光層として,実施例6で製造した化合物(1−6)をホスト材料として、OXD−7を電子輸送材料として、合成例1で製造した化合物(2−1)をゲスト材料として、1,2−ジクロロエタンに溶解したもの(ホスト:OXD−7:ゲスト=47:47:6(=質量比))を作製し、スピンコートにより80nmで塗布した。その上に背面電極としてBaを30nm,ついでAlを100nm蒸着した。この素子に電流を流したところ、7.2Vで赤色に発光した。測定された素子の特性を表1に示した。
(Element Example 8)
An organic EL element having the structure of the element structure 1 of FIG. 1 was formed as follows. The glass substrate on which the ITO transparent electrode was formed was washed, and PEDT: PSS was deposited at 35 nm by spin coating. Furthermore, as a light emitting layer, the compound (1-6) produced in Example 6 was used as a host material, OXD-7 was used as an electron transport material, and the compound (2-1) produced in Synthesis Example 1 was a guest. A material dissolved in 1,2-dichloroethane (host: OXD-7: guest = 47: 47: 6 (= mass ratio)) was prepared and applied at 80 nm by spin coating. On top of this, 30 nm of Ba and then 100 nm of Al were deposited as a back electrode. When current was passed through the device, it emitted red light at 7.2V. The measured device characteristics are shown in Table 1.
(素子例9)
図1の素子構造3の構造を有する有機EL素子を以下のように形成した。ITOの透明電極が形成されたガラス基板を洗浄し,PEDT:PSSをスピンコート法により35nmで製膜した。さらに,その上に,発光層としては,実施例6で製造した化合物(1−6)をホスト材料として、OXD−7を電子輸送材料として、合成例2で製造した化合物(2−2)をゲスト材料として、THFに溶解したもの(ホスト:OXD−7:ゲスト=47:47:6(=質量比))を作製し、スピンコートにより80nmで塗布した。次にホールブロッキング層としてBCPを蒸着により100nm蒸着した。次に,電子輸送層としてアルミ・オキシン錯体(Alq)蒸着により200nmで製膜する。その上に背面電極としてLiFを0.5nm、ついでAlを100nmで蒸着した。この素子に電流を流したところ、5.3Vで赤色に発光した。測定された素子の特性を表1に示した。
(Element Example 9)
An organic EL element having the structure of the
素子例1〜9で製造した各有機EL素子の特性をまとめて次の表1に示す。 The characteristics of the organic EL elements produced in Element Examples 1 to 9 are summarized in Table 1 below.
(溶解度試験)
次の構造式で示される比較化合物Y(Ir(ppy)2acac)のトルエンに対する溶解度を室温で試験した。比較化合物Y(Ir(ppy)2acac)32.5mgに対してトルエン溶媒が41.728gで完全に溶解した(溶解度0.08wt%)。
(Solubility test)
The solubility of the comparative compound Y (Ir (ppy) 2 acac) represented by the following structural formula in toluene was tested at room temperature. Toluene solvent was completely dissolved at 41.728 g with respect to 32.5 mg of comparative compound Y (Ir (ppy) 2 acac) (solubility 0.08 wt%).
続いて、同様にして実施例1で得られた化合物(1−1)をトルエンに溶解させたところ、化合物(1−1)29.1mgに対してトルエン溶媒0.955gを要した(溶解度3.0wt%)。同様に実施例2〜6で得られた化合物(1−2)〜(1−6)に対してもトルエンによる溶解度テストを行った。この結果をまとめて次の表2に各化合物の溶解度を示す。 Subsequently, when the compound (1-1) obtained in Example 1 was similarly dissolved in toluene, 0.955 g of a toluene solvent was required for 29.1 mg of the compound (1-1) (solubility 3). 0.0 wt%). Similarly, the solubility test with toluene was also performed for the compounds (1-2) to (1-6) obtained in Examples 2 to 6. The results are summarized and Table 2 below shows the solubility of each compound.
この結果、有機配位子が無置換である比較化合物Yに比べて、炭素鎖が炭素数で8個伸びた化合物(1−1)は、37.5倍(3.0/0.08)も溶解度が増加し、アセチルアセトナートの1個のメチル基がアルコキシ基に代えられた化合物(1−4)では、実に233.75倍(18.7/0.08)も増加することがわかった。このように、有機配位子部分にアルキル鎖やアルコキシ基が導入された本発明のイリジウム錯体が、無置換の比較化合物Yに比べて著しく溶解度が改善されていることがわかる。 As a result, the compound (1-1) in which the carbon chain is extended by 8 carbon atoms is 37.5 times (3.0 / 0.08) as compared with the comparative compound Y in which the organic ligand is unsubstituted. In the compound (1-4) in which one methyl group of acetylacetonate is replaced with an alkoxy group, the solubility is increased 233.75 times (18.7 / 0.08). It was. Thus, it can be seen that the solubility of the iridium complex of the present invention in which an alkyl chain or an alkoxy group is introduced into the organic ligand portion is remarkably improved as compared with the unsubstituted comparative compound Y.
本発明は有機EL素子の材料として有用な新規イリジウム錯体を提供するものであり、産業上有用なものである。
また、本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)の発光層を湿式製膜法で製造することが可能となる溶解性や分散性に優れた燐光発光性材料を提供するものであり、しかも本発明の材料を使用することにより、発光層を湿式製膜法で製造しても発光効率や素子寿命に優れ、極めて有効な有機EL素子の製造材料、その製造方法、及びその方法で製造された有機EL素子を提供するものであり、産業上極めて有用なものである。
The present invention provides a novel iridium complex useful as a material for an organic EL device, and is industrially useful.
In addition, the present invention provides a phosphorescent material having excellent solubility and dispersibility, which makes it possible to produce a light emitting layer of an organic electroluminescent element (organic EL element) by a wet film forming method. Moreover, by using the material of the present invention, even if the light emitting layer is manufactured by a wet film forming method, it is excellent in luminous efficiency and device lifetime, and is an extremely effective organic EL device manufacturing material, its manufacturing method, and its method. The organic EL device is provided and is extremely useful industrially.
したがって、本発明は、産業上の利用可能性を有しているものである。 Therefore, the present invention has industrial applicability.
Claims (1)
An iridium complex represented by the following general formula (1).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005112256A JP2006290781A (en) | 2005-04-08 | 2005-04-08 | Good solubility iridium complex |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005112256A JP2006290781A (en) | 2005-04-08 | 2005-04-08 | Good solubility iridium complex |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006290781A true JP2006290781A (en) | 2006-10-26 |
Family
ID=37411741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005112256A Pending JP2006290781A (en) | 2005-04-08 | 2005-04-08 | Good solubility iridium complex |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006290781A (en) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010202644A (en) * | 2009-02-03 | 2010-09-16 | Mitsubishi Chemicals Corp | Organic metal complex, organic metal complex-containing composition, light-emitting material, organic electroluminescent element material, organic electroluminescent element, organic el display and organic el lighting |
JP2011151096A (en) * | 2010-01-20 | 2011-08-04 | Hitachi Ltd | Organic luminescent layer material, coating liquid for forming organic emitting layer using the same, organic light emitting device using coating liquid for forming organic light emitting layer, and light source device using organic light emitting device |
JP2012142591A (en) * | 2012-03-02 | 2012-07-26 | Hitachi Ltd | Organic light-emitting layer material, coating liquid for forming organic light-emitting layer using organic light-emitting layer material, organic light-emitting element using coating liquid for forming organic light-emitting layer and light source device using organic light-emitting element |
JP2013021138A (en) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Hitachi Ltd | Organic luminous layer material, coating liquid for forming organic luminous layer by using organic luminous layer material, organic light-emitting element using coating liquid for forming organic luminous layer, light source device using organic light-emitting element and manufacturing method therefor |
WO2013105615A1 (en) | 2012-01-13 | 2013-07-18 | 三菱化学株式会社 | Iridium complex compound, solution composition containing iridium complex compound, organic electroluminescent element, display device, and lighting device |
JP2013145893A (en) * | 2013-02-18 | 2013-07-25 | Hitachi Ltd | Organic light-emitting layer material, coating liquid for forming organic light-emitting layer using organic light-emitting layer material, organic light-emitting element using coating liquid for forming organic light-emitting layer and light source device using organic light-emitting element |
WO2014024889A1 (en) | 2012-08-08 | 2014-02-13 | 三菱化学株式会社 | Iridium complex compound, composition containing iridium complex compound, organic electroluminescent element, display device and lighting device |
WO2015087961A1 (en) | 2013-12-12 | 2015-06-18 | 三菱化学株式会社 | Iridium complex compound, method for producing said compound, composition containing said compound, organic electroluminescent element, display device, and lighting device |
US20200055885A1 (en) * | 2015-06-26 | 2020-02-20 | Cambridge Display Techology Limited | Metal complex and organic light-emitting device |
JP2020057795A (en) * | 2007-05-18 | 2020-04-09 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Light emitting material, light emitting element material, and light emitting element |
-
2005
- 2005-04-08 JP JP2005112256A patent/JP2006290781A/en active Pending
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022008826A (en) * | 2007-05-18 | 2022-01-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Light emitting material, light emitting element material, and light emitting element |
JP2020057795A (en) * | 2007-05-18 | 2020-04-09 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Light emitting material, light emitting element material, and light emitting element |
JP2010202644A (en) * | 2009-02-03 | 2010-09-16 | Mitsubishi Chemicals Corp | Organic metal complex, organic metal complex-containing composition, light-emitting material, organic electroluminescent element material, organic electroluminescent element, organic el display and organic el lighting |
JP2011151096A (en) * | 2010-01-20 | 2011-08-04 | Hitachi Ltd | Organic luminescent layer material, coating liquid for forming organic emitting layer using the same, organic light emitting device using coating liquid for forming organic light emitting layer, and light source device using organic light emitting device |
JP2013021138A (en) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Hitachi Ltd | Organic luminous layer material, coating liquid for forming organic luminous layer by using organic luminous layer material, organic light-emitting element using coating liquid for forming organic luminous layer, light source device using organic light-emitting element and manufacturing method therefor |
US9799837B2 (en) | 2012-01-13 | 2017-10-24 | Mitsubishi Chemical Corporation | Iridium complex compound, solution composition containing the compound, organic electroluminescent element, display, and lighting |
WO2013105615A1 (en) | 2012-01-13 | 2013-07-18 | 三菱化学株式会社 | Iridium complex compound, solution composition containing iridium complex compound, organic electroluminescent element, display device, and lighting device |
KR20140117401A (en) | 2012-01-13 | 2014-10-07 | 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 | Iridium complex compound, solution composition containing iridium complex compound, organic electroluminescent element, display device, and lighting device |
JP2012142591A (en) * | 2012-03-02 | 2012-07-26 | Hitachi Ltd | Organic light-emitting layer material, coating liquid for forming organic light-emitting layer using organic light-emitting layer material, organic light-emitting element using coating liquid for forming organic light-emitting layer and light source device using organic light-emitting element |
KR20150040912A (en) | 2012-08-08 | 2015-04-15 | 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 | Iridium complex compound, composition containing iridium complex compound, organic electroluminescent element, display device and lighting device |
WO2014024889A1 (en) | 2012-08-08 | 2014-02-13 | 三菱化学株式会社 | Iridium complex compound, composition containing iridium complex compound, organic electroluminescent element, display device and lighting device |
US11430961B2 (en) | 2012-08-08 | 2022-08-30 | Mitsubishi Chemical Corporation | Iridium complex compound, and composition, organic electroluminescent element, display device, and lighting device each containing the compound |
JP2013145893A (en) * | 2013-02-18 | 2013-07-25 | Hitachi Ltd | Organic light-emitting layer material, coating liquid for forming organic light-emitting layer using organic light-emitting layer material, organic light-emitting element using coating liquid for forming organic light-emitting layer and light source device using organic light-emitting element |
KR20160101908A (en) | 2013-12-12 | 2016-08-26 | 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 | Iridium complex compound, method for producing said compound, composition containing said compound, organic electroluminescent element, display device, and lighting device |
WO2015087961A1 (en) | 2013-12-12 | 2015-06-18 | 三菱化学株式会社 | Iridium complex compound, method for producing said compound, composition containing said compound, organic electroluminescent element, display device, and lighting device |
US10600974B2 (en) | 2013-12-12 | 2020-03-24 | Mitsubishi Chemical Corporation | Iridium complex compound, process for producing the compound, composition including the compound, organic electroluminescent element, display device, and illuminator |
KR20220062433A (en) | 2013-12-12 | 2022-05-16 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | Iridium complex compound, method for producing said compound, composition containing said compound, organic electroluminescent element, display device, and lighting device |
US20200055885A1 (en) * | 2015-06-26 | 2020-02-20 | Cambridge Display Techology Limited | Metal complex and organic light-emitting device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4790298B2 (en) | Good solubility iridium complex and organic EL device | |
JP6077579B2 (en) | Triphenylene host in phosphorescent light-emitting diodes | |
KR102148532B1 (en) | Novel organic light emitting materials | |
TWI429650B (en) | Organic electroluminescent elements | |
KR100991874B1 (en) | Electroluminescent material | |
JP4786659B2 (en) | New organic light emitting device material and organic light emitting device using the same (9) | |
JP5457907B2 (en) | Organic electroluminescence device | |
KR101571114B1 (en) | Compound for organic electroluminescent elements and organic electroluminescent element | |
JP5399418B2 (en) | Organic electroluminescence device | |
JP2006290891A (en) | Silyl-substituted cyclometalated transition metal complex and organic electroluminescent device using the same | |
WO2011024976A1 (en) | Organic electroluminescent element | |
WO2006106842A1 (en) | Transition metal complex compound and organic electroluminescence element using the same | |
WO2007086505A1 (en) | Transition metal complex compound and organic electroluminescent device using same | |
KR101015882B1 (en) | Cyclometallated Transition Metal Complexes and Organic Electroluminescent Devices Using the Same | |
CN109153913B (en) | Luminescent tetradentate gold (III) compounds for organic light-emitting devices and preparation thereof | |
JP2011140475A (en) | Charge transport material and organic electroluminescent element | |
JP2006290781A (en) | Good solubility iridium complex | |
JP2006086235A (en) | ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, AZEPINE COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING SAME | |
KR101481147B1 (en) | Iridium (III) Complexes, method for preparaion of Iridium (III) Complexes, and Organic Light-Emitting Diodes comprising thereof | |
JP2012221856A (en) | Method for manufacturing organic electroluminescent element, organic electroluminescent element, display and lighting apparatus |