JP3900125B2 - 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 - Google Patents
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Description
また、この組成物を用いて生産性良く膜パターンを形成できる成膜方法及び成膜装置を提供することを第2の目的とする。
更に、この組成物を用いることにより信頼性の高い電気光学装置及び電気光学装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置及び有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、デバイス及びデバイスの製造方法、これら装置が搭載された電子機器を提供することを第3の目的とする。
本発明によれば、溶質と溶媒とを含む液状体に金属不活性剤を添加して液状化(インク化)したことにより、液状体に金属成分が含有されていた場合、もしくは液状体に金属成分が混入した場合にも、該金属成分に起因する物性変化や溶質の析出を抑えることができ、液状組成物(インク)の安定性を向上できる。ここで、用いる溶媒は溶質の物性、特に溶解性に応じて有機系溶媒や水系溶媒など任意の溶媒を適宜選択できる。
本発明の液状組成物では、金属不活性剤を含有させた事により、金属及び/又は金属イオンが含有されていた場合、若しくは混入した場合でも、金属不活性剤が金属及び/又は金属イオンに作用して不活性な金属錯化合物を形成し、溶質との酸化劣化触媒作用を抑制する。
ここで、金属不活性剤としては、2,(2’−ヒドロキシ−3,5’−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,(2’−ヒドロキシ−3,5’−ジ−t−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、3−(N−サリチロイル)アミノ−1,2,4−トリアゾール等のトリアゾール化合物や、2,3−ビス[[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]]プロピオノヒドラジド、デカン-ジカルボン酸ジ−(N’−アルキルサリチロイルヒドラジド)等のヒドラジド化合物等を例示することができる。
有機機能材料のなかでも例えば発光材料を含むものとすることができる。これによれば、発光材料を液状化して発光素子を製造する際、液状組成物の物性変化や析出の発生を抑えることができ、優れた発光性能を発揮できる。
また、本発明の液状組成物において、前記有機機能材料は高分子材料である構成が採用されてもよいし、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する材料が採用されもよい。更に、前記有機機能材料が有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する材料である場合、前記金属不活性剤が添加されるのは正孔注入材料(正孔注入層形成用材料)、あるいは有機エレクトロルミネッセンス材料すなわち発光材料(発光層形成用材料)とすることができる。
本発明によれば、膜を形成するための液状組成物に金属不活性剤を添加したので、該液状組成物の物性変化や析出が生じるのを抑えることができる。したがって、均一な膜を生産性良く製造できるとともに、成膜後においても膜の相分離などが生じ難くなる。
すなわち、有機機能材料等の溶質を溶媒により液状化(インク化)し、この第1組成物により成膜し、この膜上に金属不活性剤を成膜することもできる。
ここで、前記金属不活性剤を設ける際、前記金属不活性剤と溶媒とを含む第2組成物を調整し、該第2組成物を流路を介して液状体吐出装置に送出し、該液状体吐出装置により前記第1膜上に前記第2組成物を吐出することにより、前記金属不活性剤を前記第1膜上に配置することが望ましい。液状体吐出装置を用いて金属不活性剤を含む第2膜を成膜することにより、金属不活性剤を含む任意の膜パターンを容易に形成できる。ここで、流路は外気と遮断されていることが望ましい。
本発明によれば、金属不活性剤を含む液状組成物を調整する装置と、調整した液状組成物を含む液状体を吐出する液状体吐出装置とを含むため、液状組成物の物性変化や析出の発生を抑えつつ、しかも高い吐出安定性を保ったまま成膜をすることが可能となる。したがって、均一な膜を生産性良く製造できるとともに、形成した膜は相分離しないばかりでなく、薄膜の機能を損なわない。そして、液滴吐出装置を用いて成膜するようにしたので、任意の膜パターンを容易に形成できる。
また、液状組成物調整装置で調整した組成物を調整装置から液状体吐出装置に搬送する際に、例えば、外気に触れさせないなどすれば、より液状組成物の安定性を向上させることができるようになる。
本発明によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する材料を含む組成物に金属不活性剤を添加したので、この組成物の物性変化や析出の発生を抑えることができる。したがって、均一な膜を生産性良く製造できるとともに成膜後においても膜は相分離せず、所望の性能を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を製造できるようになる。
本発明によれば、機能素子に金属不活性剤が含有されていることにより、素子製造時において機能素子中の材料の物性変化や析出の発生を抑えることができ、また、当該装置の機能素子内においての経時的な特性変化や劣化等も抑えられ、信頼性の高い電気光学装置を提供することが可能となる。
すなわち、金属不活性剤は、機能素子に含有されている構成の他に、機能素子とは別の金属不活性層あるいは膜として設けることができ、この場合も上記と同様に、当該装置の機能素子内においての経時的な特性変化や劣化等が抑えられ、特に金属層と機能素子層との間に該金属不活性層を配設することで、一層の特性変化ないし劣化の抑制機能を発現することが可能となり、一層信頼性の高い電気光学装置を提供することが可能となる。
本発明によれば、機能素子形成用材料と溶媒と金属不活性剤とにより液状組成物を生成するので、液状組成物製造時や保存時において材料の物性変化や析出の発生を抑えることができる。そして、この液状組成物を用いて成膜するようにしたので形成された膜は相分離などを生じず、該膜内部において機能素子の物性変化等も生じ難くなる。
すなわち、基材上に機能素子の構成要素となる第1膜を形成した後、この第1膜上に金属不活性剤を含む第2膜を設けることで、上記同様、膜内部において機能素子の物性変化等も生じ難くなる。
本発明によれば、有機エレクトロルミネッセンス装置を構成する材料層に金属不活性剤を含有したことにより、経時的あるいは駆動することによる有機エレクトロルミネッセンス装置の材料層の特性変化若しくは劣化等を防止でき、信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス装置を提供できる。
すなわち、有機エレクトロルミネッセンス装置を構成する材料層自体に金属不活性剤を含有させる構成の他に、材料層どうしの間に金属不活性剤からなる層(金属不活性層)を介在させることも可能である。この場合、材料層と金属不活性層を介して配設される金属成分を含む金属層がある場合にも、該金属層に起因する材料層の物性変化や劣化等が生じ難くなり、信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することが可能となる。
本発明によれば、有機エレクトロルミネッセンス装置を製造するための液状組成物を製造する際、材料層形成用材料に金属不活性剤を添加するようにしたので、該液状組成物の製造時や保存時において、その組成物の物性変化や溶質の析出の発生を抑えることができる。そして、この組成物を用いて材料層を形成することにより相分離などの不具合の発生を抑えることができる。したがって、信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス装置を製造することができる。
すなわち、この場合においても、発光層や正孔注入層等の材料層を含む第1材料層に隣接して、具体的には第1材料層上に金属不活性剤を含む第2材料層を形成するものとしたため、例えば金属成分を含む金属層があったとしても、第1材料層上に第2材料層を介して該金属層を形成すればよいため、隣接する金属層の影響で第1材料層中の発光層や正孔注入層等において、物性変化や劣化等が生じ難くなる。
なお、前記金属不活性剤を設ける際、該金属不活性剤と溶媒とで第2組成物を生成し、該第2組成物を含む液状体を液状体吐出装置で前記材料層に吐出する構成が可能である。この場合、液状体吐出法(液滴吐出法)を用いて第2材料層を形成するため、簡易な構成で作業性良く材料層を形成できる。
(成膜装置及び成膜方法)
図1は本発明の成膜装置の一実施形態としての液滴吐出装置を示す概略斜視図である。また、図2及び図3は液滴吐出装置に設けられた液滴吐出ヘッドを示す図である。
図1において、液滴吐出装置IJは、基板(基材)Pの表面(所定面)に液状体組成物を設置可能な成膜装置であって、ベース12と、ベース12上に設けられ、基板Pを支持するステージ(ステージ装置)STと、ベース12とステージSTとの間に介在し、ステージSTを移動可能に支持する第1移動装置14と、ステージSTに支持されている基板Pに対して有機機能材料を含む液状体組成物を定量的に吐出(滴下)可能な液滴吐出ヘッド20と、液滴吐出ヘッド20を移動可能に支持する第2移動装置16とを備えている。液滴吐出ヘッド20の液状体組成物の吐出動作や、第1移動装置14及び第2移動装置16の移動動作を含む液滴吐出装置IJの動作は、制御装置CONTにより制御される。
次に、組成物調整装置Sにより生成された液状体組成物を用いて基板P上に膜パターンを形成する方法について説明する。以下、一例として有機エレクトロルミネッセンス装置(以下、「有機EL装置」と称する)を構成する膜を製造する場合について説明する。
本発明は有機機能材料と溶媒とを含有する溶液に金属不活性剤を添加した液状体組成物を生成し、この液状体組成物を用いて膜を製造することを特徴とするものである。以下、一例として、有機EL装置のうち正孔注入層と発光層とのそれぞれに金属不活性剤を添加する場合について説明する。すなわち、上記組成物調整装置Sを用いて、有機機能材料としての正孔注入層形成用材料(正孔注入材料)と発光層形成用材料(発光材料)とのそれぞれに金属不活性剤を添加する場合について説明する。なお、以下に示す手順や液状体組成物の材料構成は一例であってこれに限定されるものではない。
図4は、電気光学装置としての有機ELパネルの一例の平面構造を説明するための図であり、図4中符号170は有機ELパネルである。この有機ELパネル170は、ガラス等からなる基体102と、マトリックス状に配置された画素171を形成する多数の有機EL素子と、封止基板(図示せず)とを具備して構成されたものである。
基体102は、例えばガラス等の透明基板からなるもので、基体102の中央に位置する表示領域102aと、基体102の周辺部に位置して表示領域102aの外側に配置された非表示領域102bとに区画されている。表示領域102aは、マトリックス状に配置された有機EL素子によって形成された領域であり、有効表示領域とも言われるものである。
非表示領域102bである基体102の周辺部には、前記画素171を形成する有機EL素子の陰極(対向電極)に連続した陰極線用配線112が配設されており、この陰極線用配線112は、その端部がフレキシブル基板105上の配線105aに接続されている。この配線105aは、フレキシブル基板105上に設けられた駆動IC106(駆動回路)に接続されている。
表示領域102aを挟んでその両側には、走査側駆動回路173が配置されている。これら走査側駆動回路173は、前記の回路素子部内に設けられたものとなっている。回路素子部内には、走査側駆動回路173に接続される駆動回路用制御信号配線173aと駆動回路用電源配線173bとが設けられている。
また、表示領域102aの一方の側には、検査回路174が配置されている。この検査回路174により、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができるようになっている。
なお、このような有機EL素子部の上には、これを覆って封止部(図示せず)が設けられている。この封止部は、基体2に塗布された封止樹脂と、缶封止基板(封止基板)とから構成されたものである。
なお、図6〜図10では一画素のみを示しているが、図5に示すようにこれらの画素は70.5μmピッチで配置されている。すなわち、図5に示すように、ITO111がパターンニングされたガラス基板110上にフォトリソグラフィーによりSiO2膜112およびポリイミド膜113の積層構造が形成されている。当該積層構造の開口部径(SiO2層の開口径)は28μm、高さが2μmである。ポリイミド層最上部での開口は32μmである。
この場合、発光層形成用材料を含む第1組成膜108を乾燥処理(熱処理)する前に、すなわち第1組成膜108が濡れている状態で金属不活性剤を含む第2組成物を塗布することもできる。こうすることにより、基板P上において発光層形成用材料と金属不活性剤とを混合できる。もちろん、発光層形成用材料を含む第1組成膜108を乾燥処理して溶媒を除いた後、この第1組成膜108に対して金属不活性剤を塗布するようにしてもよい。この場合、第1組成膜(発光層)108に隣接して、詳しくは第1組成膜(発光層)108上に金属不活性層109が形成されることになる。なお、金属不活性剤を塗布する際には、金属不活性剤と溶媒とからなる液状体組成物、及び金属不活性剤と溶媒とバインダ樹脂とからなる液状体組成物のいずれかの形態のものを塗布することができる。
まず、図6と同様に、ガラス基板110上にパターン化ITO111と、SiO2膜112及び有機物(ポリイミド)膜113を形成する。
その後、大気中で表4に示した正孔注入/輸送材料組成物Bを調整後、クリーンルーム(室温25℃、湿度35〜45%)内で、正孔注入/輸送材料組成物Bと表1に示した金属不活性剤のいずれかとを有機溶媒(例えばイソプロピルアルコール)に溶解する。得られた液状組成物を用い、同じくクリーンルーム(室温25℃、湿度35〜45%)内でスピンコート法により、図6に示した有機物(ポリイミド)膜113にて形成される隔壁内部に正孔注入/輸送層を成膜する。
以下、液状体組成物の材料組成、液状体組成物生成工程及び成膜工程の例を示す。
(実施例1)
<正孔注入層形成用液状組成物P1>
・バイトロンP:88.5wt%
・ポリスチレンスルフォン酸:11.5wt%
<発光層形成用液状体組成物E1>
・G(緑):化合物1(0.76g)、化合物2(0.20g)、化合物3(0.04g)
・B(青):化合物1(1.00g)
・R(赤):化合物4(1.00g)
上記RGBのそれぞれに溶媒としてキシレン100ml、及び表1に示した金属不活性剤(例えば2,(2’−ヒドロキシ−3,5’−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール)1mgを加えた。なお、上記化合物1〜化合物4は上述の通りである。
<正孔注入層形成用液状体組成物P2>
・バイトロンP:11.08wt%
・ポリスチレンスルフォン酸:1.45wt%
・イソプロピルアルコール:10wt%
・N−メチルピロリドン:27.47wt%
・1,3−ジメチル−イミダゾリノン:50wt%
<発光層形成用液状体組成物E2>
・G(緑):化合物1(0.76g)、化合物2(0.20g)、化合物3(0.04g)
・B(青):化合物1(1.00g)
・R(赤):化合物4(1.00g)
上記RGBのそれぞれに溶媒としてシクロヘキシルベンゼン40ml、及び2,3−ジヒドロベンゾフラン60mlを加え、表1に示した金属不活性剤(例えば2,(2’−ヒドロキシ−3,5’−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール)1mgを加えた。
(工程例1)
クリーンルーム大気環境下(室温25℃、湿度35〜45%)において発光層形成用材料及び金属不活性剤を溶媒に溶解し、上記組成物E1、E2を生成した。
(工程例2)
クリームルーム大気環境下(室温25℃、湿度35〜45%)において発光層形成用材料を溶媒に溶解後、この溶液中に金属不活性剤を添加して上記組成物E1、E2を生成した。
(工程例1)
クリームルーム大気環境下(室温25℃、湿度35〜45%)において、まず、上記組成物P1をスピンコート法により成膜した。次いで、組成物P1により形成された膜を、大気環境下で、200℃10分間焼成処理を行った。次いで、形成された正孔注入層上に上記組成物E1を大気環境下、室温においてスピンコート法により成膜した。
(工程例2)
クリームルーム大気環境下(室温25℃、湿度35〜45%)において、液滴吐出法により上記組成物P2を基板上に吐出した。次いで、クリーンルーム内の圧力を1Torr(133.322Pa以下)の真空状態とし、室温で20分間乾燥処理し成膜した。次いで、この膜を、大気環境下で、200℃10分間焼成処理を行った。次いで、形成された正孔注入層上に上記組成物E2を液滴吐出法により吐出した。次いで、組成物E2からなる膜を大気環境下で45℃20分間乾燥処理し成膜した。
(工程例1)
グローブボックス窒素ガス雰囲気下(室温、水分濃度及び酸素濃度1ppm以下)において発光層形成用材料及び金属不活性剤を溶媒に溶解し、上記組成物E1、E2を生成した。
(工程例2)
グローブボックス窒素ガス雰囲気下(室温、水分濃度及び酸素濃度1ppm以下)において発光層形成用材料を溶媒に溶解後、この溶液中に金属不活性剤を添加して上記組成物E1、E2を生成した。
(工程例1)
水分濃度及び酸素濃度1ppm以下の窒素ガス雰囲気下において、スピンコート法により上記組成物P1を成膜した。次いで、組成物P1により形成された膜を、窒素ガス雰囲気下で、200℃10分間焼成処理を行った。次いで、形成された正孔注入層上に上記組成物E1を窒素ガス雰囲気下、室温においてスピンコート法により成膜した。
(工程例2)
水分濃度及び酸素濃度1ppm以下の窒素ガス雰囲気下において、液滴吐出法により上記組成物P2を基板上に吐出した。次いで、1Torr(133.322Pa以下)の真空条件下、室温で20分間乾燥処理し成膜した。次いで、この膜を、窒素ガス雰囲気下で、200℃10分間焼成処理を行った。次いで、形成された正孔注入層上に上記組成物E2を液滴吐出法により吐出し、窒素ガス雰囲気下、45℃20分間乾燥処理した。
図12は印加電圧と電流密度との関係を示すグラフであり、図13は印加電圧と輝度との関係を示すグラフである。また、図14は印加電圧と発光効率との関係を示すグラフであり、図15は駆動時間と輝度との関係を示すグラフである。
図16に示すように、本例では長方形形状の基板P上に、生産性を向上させる観点から複数個のカラーフィルタ領域351をマトリクス状に形成する。これらカラーフィルタ領域351は、後で基板Pを切断することにより、液晶表示装置に適合するカラーフィルタとして用いることができる。
このようにして基板P上の全てのフィルタエレメント353に液滴354を充填したら、ヒータを用いて基板Pが所定の温度(例えば70℃程度)となるように加熱処理される。この加熱処理により、液状体組成物の溶媒が蒸発して液状体組成物の体積が減少する。この体積現状の激しい場合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られるまで、液滴吐出工程と加熱工程とを繰り返す。この処理により、液状体組成物に含まれる溶媒が蒸発して、最終的に液状体組成物に含まれる固形分のみが残留して膜化し、図17(c)に示すようなカラーフィルタ355となる。
このような構成からなる液晶装置の製造においても、その液晶素子における構成要素となる薄膜、例えば遮光膜364や配向膜366などを形成する際の液状体組成物に予め金属不活性剤を添加しておき、この液状体組成物を用いて成膜することができる。
図19において、基板450上にはゲート電極451が形成されている。また、基板450上にはゲート電極451を覆った状態で高誘電率の絶縁体からなるゲート絶縁膜452が形成され、このゲート絶縁膜452上には有機半導体層453が形成されている。そして、この有機半導体層453上にソース電極454およびドレイン電極455が形成されることにより、有機TFT素子(有機薄膜トランジスタ素子)が構成される。
本発明の有機EL装置及び液晶装置を含む電気光学装置、あるいは本発明の有機TFT素子を備えたデバイスは、表示部を備えた様々な電子機器に適用される。以下、本発明の電気光学装置を備えた電子機器の適用例について説明する。
Claims (3)
- 有機エレクトロルミネッセンス材料からなる発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
有機エレクトロルミネッセンス材料と溶媒とを含有する溶液に金属不活性剤と酸化防止剤を添加して液状組成物を調整し、前記液状組成物を含む液状体を液状体吐出装置で吐出することにより発光層を形成する発光層形成工程を含み、
前記金属不活性剤は、透明あるいは半透明の無色の材料からなり、前記有機エレクトロルミネッセンス材料への溶解パラメータが7.5〜10.5を満たすものであり、当該金属不活性剤の前記液状組成物への添加量を前記有機エレクトロルミネッセンス材料に対して0.1wt%〜10wt%とすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 前記酸化防止剤としてラジカル連鎖禁止剤を含むことを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
- 前記酸化防止剤として過酸化物分解剤を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
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