JP4090377B2 - Optical recording medium - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は光記録媒体に関し、特に追記型の光記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、デジタルデータを記録するための記録媒体として、CDやDVDに代表される光記録媒体が広く利用されている。これらの光記録媒体は、CD−ROMやDVD−ROMのようにデータの追記や書き換えができないタイプの光記録媒体(ROM型光記録媒体)と、CD−RやDVD−Rのようにデータの追記はできるがデータの書き換えができないタイプの光記録媒体(追記型光記録媒体)と、CD−RWやDVD−RWのようにデータの書き換えが可能なタイプの光記録媒体(書き換え型光記録媒体)とに大別することができる。
【0003】
ROM型光記録媒体においては、製造時において予め基板に形成されるピット列によりデータが記録されることが一般的であり、書き換え型光記録媒体においては、記録層の材料として例えば相変化材料が用られ、その相状態の変化に基づく光学特性の変化を利用してデータが記録されることが一般的である。
【0004】
これに対し、追記型光記録媒体においては、記録層の材料としてシアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ色素等の有機色素が用いられ、その化学的変化(場合によっては化学的変化に加えて物理的変形を伴うことがある)に基づく光学特性の変化を利用してデータが記録されることが一般的である。追記型光記録媒体は書き換え型光記録媒体とは違い、一旦データを記録した場合これを消去したり書き換えたりすることができないが、このことはデータの改竄ができないことを意味するため、データの改竄防止が求められる用途において重要な役割を果たしている。
【0005】
しかしながら、有機色素は日光等の照射によって劣化することから、追記型光記録媒体において長期間の保存に対する信頼性をさらに高めるためには、記録層を有機色素以外の材料によって構成することが望ましい。
【0006】
記録層を有機色素以外の材料によって構成した例としては、特許文献1に記載されているように、無機材料からなる2層の反応層を積層しこれを記録層として用いる技術が知られている。
【0007】
【特許文献1】
特開昭62−204442号公報
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献1に記載の追記型光記録媒体は、記録層に記録した初期の記録情報を長期にわたって良好な状態で保持することが困難であるとともに、記録層の表面性が必ずしも良好ではないことから初期の記録特性についても良好でないケースがあった。
【0008】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、初期特性が良好であるとともに、記録情報を長期にわたって良好な状態で保存可能な追記型の光記録媒体を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明のかかる目的は、基板と、前記基板上に設けられた記録層を少なくとも備え、前記記録層は、チタン(Ti)を主成分として含む第1の反応層と、シリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、炭素(C)、錫(Sn)、金(Au)、亜鉛(Zn)及び銅(Cu)からなる群より選ばれた一つの元素を主成分として含む第2の反応層とを含み、前記第 1の反応層に25原子%以上、50原子%未満のアルミニウム(Al)が添加されていることを特徴とする光記録媒体によって達成される
【0010】
本発明によれば、良好な初期特性が得られるとともに、長期にわたる保存信頼性を高めることが可能となる。また、第1の反応層に、25原子%以上、50原子%未満のアルミニウム(Al)が添加されているから、ジッタをより低く抑えることができるとともに高い変調度を得ることが可能となる。
【0011】
また、前記記録層を挟むように設けられた第1及び第2の誘電体層をさらに備えることが好ましく、前記記録層から見て前記基板とは反対側に設けられた光透過層をさらに備え、前記光透過層の厚さが10〜300μmに設定されていることが好ましい。このような薄い光透過層を有する構造は、いわゆる次世代型の光記録媒体であり、光透過層側から記録再生のためのレーザビームが照射される。また、前記レーザビームの波長は380nm〜450nmであることが好ましい。これは、波長が380nm〜450nmであるレーザビームを用いて記録すると、特に高い変調度を得ることができるからである。
【0012】
本発明の前記目的はまた、基板と、前記基板上に設けられた複数の情報層とを備え、前記複数の情報層のうち光透過層から最も遠い情報層とは異なる所定の情報層に含まれる記録層が、チタン(Ti)を主成分として含む第1の反応層と、シリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、炭素(C)、錫(Sn)、金(Au)、亜鉛(Zn)及び銅(Cu)からなる群より選ばれた一つの元素を主成分として含む第2の反応層とを含み、前記第1の反応層に25原子%以上、50原子%未満のアルミニウム(Al)が添加されていることを特徴とする光記録媒体によって達成される
【0013】
本発明によれば、上述した効果に加え、該所定の情報層の光透過率が高いことから、所定の情報層から見て光透過層とは反対側に位置する情報層に対するデータの記録及び/又は再生を妨げることがない。
【0014】
また、該所定の情報層から見て光入射面とは反対側に位置する情報層は、波長が380nm〜450nmのレーザビームを照射することによってデータの記録及び/又は再生が可能な情報層であることが好ましい。該所定の情報層は、記録マークが形成されている部分の光透過率とそれ以外の部分の光透過率との差が上記波長領域において非常に小さいことから、所定の情報層から見て光入射面とは反対側に位置する情報層に対するデータの記録及び/又は再生を安定的に行うことが可能となる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。
【0016】
図1(a)は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体10の外観を示す切り欠き斜視図であり、図1(b)は、図1(a)に示すA部を拡大した部分断面図である。
【0017】
図1(a),(b)に示す光記録媒体10は、外径が約120mm、厚みが約1.2mmである円盤状の光記録媒体であり、図1(b)に示すように、本発明における基板である支持基板11と、反射層12と、誘電体層13,15と、記録層14と、光透過層16とを備えて構成されている。本実施態様にかかる光記録媒体10は、波長λが例えば380nm〜450nm、好ましくは約405nmであるレーザビームLを光透過層16の表面である光入射面16aより記録層14に照射することによって、データの記録及び再生を行うことが可能な追記型の光記録媒体である。光記録媒体10に対するデータの記録及び再生においては、開口数が例えば0.7以上、好ましくは0.85程度の対物レンズが用いられ、これによって、記録層14上におけるレーザビームLのビームスポットは約0.4μm程度まで絞られる。
【0018】
支持基板11は、光記録媒体10に求められる厚み(約1.2mm)を確保するために用いられる厚さ約1.1mmの円盤状の基板であり、その一方の面には、その中心部近傍から外縁部又は外縁部から中心部近傍に向けて、レーザビームLをガイドするためのグルーブ11a及びランド11bが螺旋状に形成されている。特に限定されるものではないが、グルーブ11aの深さとしては10nm〜40nmに設定することが好ましく、グルーブ11aのピッチとしては0.2μm〜0.4μmに設定することが好ましい。支持基板11の材料としては種々の材料を用いることが可能であり、例えば、ガラス、セラミックス、あるいは樹脂を用いることができる。これらのうち、成形の容易性の観点から樹脂が好ましい。このような樹脂としてはポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。中でも、加工性などの点からポリカーボネート樹脂やオレフィン樹脂が特に好ましい。但し、支持基板11は、レーザビームLの光路とはならないことから、高い光透過性を有している必要はない。
【0019】
支持基板11の作製は、スタンパを用いた射出成形法を用いることが好ましいが、フォトポリマー(2P)法等、他の方法によってこれを作製することも可能である。
【0020】
反射層12は、光透過層16側から入射されるレーザビームLを反射し、再び光透過層16から出射させる役割を果たす。反射層12の材料はレーザビームLを反射可能である限り特に制限されず、例えば、マグネシウム(Mg),アルミニウム(Al),チタン(Ti),クロム(Cr),鉄(Fe),コバルト(Co),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),ゲルマニウム(Ge),銀(Ag),白金(Pt),金(Au)等を用いることができる。これらのうち、高い反射率を有することから、アルミニウム(Al),金(Au),銀(Ag),銅(Cu)又はこれらの合金(AgとCuとの合金等)などの金属材料を用いることが好ましい。本発明において、光記録媒体に反射層12を設けることは必須でないが、これを設ければ、光記録後において多重干渉効果により高い再生信号(C/N比)が得られやすくなる。また、反射層12の腐食防止を目的として、支持基板11と反射層12との間に誘電体からなる防湿層を介在させても構わない。
【0021】
反射層12の厚さとしては、5〜300nmに設定することが好ましく、20〜200nmに設定することが特に好ましい。これは、反射層12の厚さが5nm未満であると反射層12による上記効果を十分に得ることができない一方、反射層12の厚さが300nm超であると、反射層12の表面性が低くなるばかりでなく、成膜時間が長くなり生産性が低下してしまうからである。これに対し、反射層12の厚さを5〜300nm、特に20〜200nmに設定すれば、反射層12による上記効果を十分に得ることができるとともに、その表面性を高く維持することができ、さらに、生産性の低下を防止することが可能となる。
【0022】
誘電体層13,15は、これらの間に設けられる記録層14を物理的及び化学的に保護する役割を果たし、記録層14はこれら誘電体層13,15に挟持されることによって、光記録後、長期間にわたって記録情報の劣化が効果的に防止される。
【0023】
誘電体層13,15を構成する材料は、使用されるレーザビームLの波長領域において透明な誘電体であれば特に限定されず、例えば、酸化物、硫化物、窒化物又はこれらの組み合わせを主成分として用いることができるが、支持基板11等の熱変形防止、並びに、記録層14に対する保護特性の観点から、Al、AlN、ZnO、ZnS、GeN、GeCrN、CeO、SiO、SiO、Si、SiC、La、TaO、TiO、SiAlON(SiO,Al,Si及びAlNの混合物)及びLaSiON(La,SiO及びSiの混合物)等、アルミニウム(Al)、シリコン(Si)、セリウム(Ce)、チタン(Ti)、亜鉛(Zn)、タンタル(Ta)等の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物あるいはそれらの混合物を用いることが好ましく、特に、ZnSとSiOとの混合物を用いることがより好ましい。この場合、ZnSとSiOのモル比は、80:20程度に設定することが特に好ましい。誘電体層13と誘電体層15は互いに同じ材料で構成されてもよいが、異なる材料で構成されてもよい。さらに、誘電体層13,15の少なくとも一方が複数の誘電体層からなる多層構造であっても構わない。
【0024】
また、誘電体層13,15の層厚は特に限定されないが、いずれも3〜200nmに設定することが好ましい。これは、層厚が3nm未満であると上述した効果が得られにくくなる一方、層厚が200nmを超えると、成膜時間が長くなり生産性が低下するおそれがあるとともに、誘電体層13,15のもつ応力によってクラックが発生するおそれがあるからである。
【0025】
また、誘電体層13,15は、記録の前後における光学特性の差を拡大する役割をも果たし、これを達成するためには、使用されるレーザビームLの波長領域において高い屈折率(n)を有する材料を選択することが好ましい。さらに、レーザビームLを照射した場合に、誘電体層13,15に吸収されるエネルギーが大きいと記録感度が低下することから、これを防止するためには、使用されるレーザビームLの波長領域において低い消衰係数(k)を有する材料を選択することが好ましい。
【0026】
記録層14は不可逆的な記録マークが形成される層であり、図2に示すように、支持基板11側に位置する反応層21と光透過層16側に位置する反応層22が積層された構造を有している。記録層14のうち未記録状態である領域は、図2に示すように反応層21と反応層22が積層された状態となっているが、所定以上のパワーを持つレーザビームLが照射されると、その熱によって、図3に示すように反応層21を構成する元素及び反応層22を構成する元素がそれぞれ部分的又は全体的に混合されて記録マークMとなる。このとき、記録層において記録マークMの形成された混合部分とそれ以外の部分(ブランク領域)とではレーザビームLに対する反射率が大きく異なるため、これを利用してデータの記録・再生を行うことができる。記録されるデータは、記録マークMの長さ(記録マークMの前縁から後縁までの長さ)及びブランク領域の長さ(記録マークMの後縁から次の記録マークMの前縁までの長さ)によって表現される。記録マークM及びブランク領域の長さは、基準となるクロックの1周期に相当する長さをTとした場合、Tの整数倍に設定される。具体的には、1,7RLL変調方式においては、2T〜8Tの長さを持つ記録マークM及びブランク領域が使用される。
【0027】
反応層21及び反応層22の一方(好ましくは反応層21)は、チタン(Ti)を主成分とする材料によって構成される。ここで、反応層の「主成分」とは、当該反応層中において含有率(原子%)が最も大きい元素を指す。したがって、「反応層がチタン(Ti)を主成分とする材料からなる」とは、当該反応層中におけるチタン(Ti)の含有率が50原子%以上であることを意味する。当該反応層には、主成分であるチタン(Ti)にアルミニウム(Al)が添加されていることが非常に好ましく、これによりジッタを低く抑えることが可能となる。アルミニウム(Al)の添加量としては、25原子%以上、50原子%未満に設定することが好ましい。これによれば、ジッタをより低く抑えるとともに高い変調度を得ることが可能となる。尚、反応層21及び反応層22の一方にはチタン(Ti)及びアルミニウム(Al)以外の元素が実質的に含まれていないことが好ましい。
【0028】
また、反応層21及び反応層22の他方(好ましくは反応層22)は、シリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、炭素(C)、錫(Sn)、金(Au)、亜鉛(Zn)又は銅(Cu)を主成分とする。当該反応層には、記録感度を高める観点から、主成分となるシリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、炭素(C)、錫(Sn)、金(Au)、亜鉛(Zn)又は銅(Cu)の他に、マグネシウム(Mg)、銅(Cu)(銅(Cu)が主成分である場合を除く)、銀(Ag)、金(Au)(金(Au)が主成分である場合を除く)等が添加されていてもよい。当該反応層の主成分は、シリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)又は錫(Sn)であることが好ましく、シリコン(Si)であることが最も好ましい。
【0029】
以上を総合すれば、反応層21の材料としてチタン(Ti)にアルミニウム(Al)が25原子%以上、50原子%未満添加された材料を用い、反応層22の材料としてシリコン(Si)を用いることが最も好ましい。このような材料によって反応層21及び反応層22を構成すれば、環境負荷を抑制しつつ、長期間の保存に対する高い信頼性を確保することができるとともに、高い記録感度と低いジッタを得ることが可能となる。
【0030】
記録層14の層厚は、厚くなればなるほどレーザビームLのビームスポットが照射される反応層22の表面22aの平坦性が悪化し、これに伴って再生信号のノイズレベルが高くなるとともに、記録感度も低下する。この点を考慮すれば、反応層22の表面22aの平坦性を高めることによって再生信号のノイズレベルを抑制するとともに記録感度を高めるためには、記録層14の層厚を薄く設定することが有効であるが、薄くしすぎると記録前後における光学定数の差が少なくなり、再生時に高いレベルの再生信号(C/N比)を得ることができなくなる。また、記録層14の層厚を極端に薄く設定すると、成膜時における層厚制御が困難となる。以上を考慮すれば、記録層14の層厚は2〜40nmに設定することが好ましく、2〜20nmであることがより好ましく、2〜15nmであることがさらに好ましい。
【0031】
反応層21及び反応層22それぞれの層厚は特に限定されないが、再生信号のノイズレベルを充分に抑制し、充分な記録感度を確保し、さらに、記録前後の反射率の変化を充分に大きくするためには、いずれも1〜30nmであることが好ましく、反応層21の層厚と反応層22の層厚との比(反応層21の層厚/反応層22の層厚)は、0.2〜5.0であることが好ましい。
【0032】
尚、上記反射層12、誘電体層13、記録層14(反応層21,22)及び誘電体層15の形成方法としては、これらの構成元素を含む化学種を用いた気相成長法、例えば、スパッタリング法や真空蒸着法を用いることができ、中でも、スパッタリング法を用いることが好ましい。
【0033】
光透過層16は、レーザビームLの入射面を構成するとともにレーザビームLの光路となる層であり、その厚さとしては10〜300μmに設定することが好ましく、50〜150μmに設定することが特に好ましい。光透過層16の材料としては、使用されるレーザビームLの波長領域において光透過率が十分に高い材料である限り特に限定されないが、アクリル系又はエポキシ系の紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。また、紫外線硬化性樹脂を硬化させてなる膜のかわりに、光透過性樹脂からなる光透過性シートと各種接着剤や粘着剤を用いて光透過層16を形成してもよい。
【0034】
以上が本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体10の構造である。
【0035】
次に、光記録媒体10に対するデータの記録原理について説明する。
【0036】
上記光記録媒体10に対してデータを記録する場合、図1に示すように、光記録媒体10に対して強度変調されたレーザビームLを光入射面16aから入射し記録層14に照射する。このとき、レーザビームLを集束するための対物レンズの開口数(NA)は例えば0.7以上、レーザビームLの波長λは例えば380nm〜450nmに設定され、好ましくは、対物レンズの開口数(NA)は0.85程度、レーザビームLの波長λは405nm程度に設定される。
【0037】
このようなレーザビームLが記録層14に照射されると、記録層14が加熱され、反応層21を構成する元素及び反応層22を構成する元素が混合される。かかる混合部分は、図3に示すように記録マークMとなり、その反射率はそれ以外の部分(ブランク領域)の反射率と異なった値となることから、これを利用してデータの記録・再生を行うことが可能となる。しかも、本実施態様においては、反応層21及び反応層22が上述した材料によって構成されていることから、十分な保存信頼性を確保しつつ、高い記録感度と低いジッタを得ることが可能となる。また、反応層21,22を構成する上記材料は地球上においてありふれた材料であることから、環境負荷を抑制することも可能となる。
【0038】
図4は、光記録媒体10に対してデータを記録するためのレーザビームLのパルス列パターンの好ましい一例を示す図であり、(a)は2T信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、(b)は3T信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、(c)は4T信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、(d)は5T信号〜8T信号を形成する場合のパルス列パターンを示している。
【0039】
図4(a)〜(d)に示すように、本パルス列パターンにおいては、レーザビームLの設定強度は記録パワーPw1及び基底パワーPb1(<Pw1)からなる2つの強度(2値)に変調される。
【0040】
記録パワーPw1としては、照射によって記録層14を構成する反応層21,22が溶融・混合するような高いレベルに設定され、基底パワーPb1としては、照射されても加熱状態にある記録層14が冷却されるような極めて低いレベルに設定される。
【0041】
図4(a)に示すように、2T信号を形成する場合、レーザビームLの記録パルス数は「1」に設定される。レーザビームLの記録パルス数とは、レーザビームLの強度が記録パワーPw1(又はPw2(Pw2については後述する))まで高められた回数によって定義される。より具体的には、レーザビームLの強度は、タイミングt11以前においては基底パワーPb1に設定され、タイミングt11からタイミングt12までの期間(ttop)においては記録パワーPw1に設定され、タイミングt12以降においては再び基底パワーPb1に設定される。
【0042】
また、図4(b)に示すように、3T信号を形成する場合、レーザビームLの記録パルス数は「2」に設定される。つまり、レーザビームLの強度は、タイミングt21からタイミングt22までの期間(ttop)及びタイミングt23からタイミングt24までの期間(tlp)においては記録パワーPw1に設定され、その他の期間においては基底パワーPb1に設定される。
【0043】
さらに、図4(c)に示すように、4T信号を形成する場合、レーザビームの記録パルス数は「3」に設定される。つまり、レーザビームLの強度は、タイミングt31からタイミングt32までの期間(ttop)、タイミングt33からタイミングt34までの期間(tmp)及びタイミングt35からタイミングt36までの期間(tlp)においては記録パワーPw1に設定され、その他の期間においては基底パワーPb1に設定される。
【0044】
そして、図4(d)に示すように、5T信号〜8T信号を形成する場合、レーザビームLの記録パルス数はそれぞれ「4」〜「7」に設定される。この場合も、レーザビームLの強度は、ttop(タイミングt41からタイミングt42までの期間)、tmp(タイミングt43からタイミングt44までの期間、タイミングt45からタイミングt46までの期間等)及びtlpの期間(タイミングt47からタイミングt48までの期間)においては記録パワーPw1に設定され、その他の期間においては基底パワーPb1に設定される。
【0045】
以上により、記録信号(2T信号〜8T信号)を形成すべき領域においては、記録パワーPw1をもつレーザビームLの照射によって、記録層14を構成する反応層21,22が溶解・混合し記録マークMが形成される。
【0046】
尚、上記実施態様において用いた記録層14は高い光透過率を有しているとともに、特に380nm〜450nmの波長領域のレーザビームに対しては、記録マークMが形成された部分とそれ以外の部分との光透過率差が非常に小さいという特徴を有している。この点に着目すれば、上記実施態様において用いた記録層14は、複数の情報層が積層された光記録媒体用の記録層として好適であると考えられる。以下、本発明を複数の情報層が積層された光記録媒体に適用した実施態様について説明する。
【0047】
図5は、本発明の好ましい他の実施態様にかかる光記録媒体30の部分断面図である。本実施態様にかかる光記録媒体30の外観は、図1(a)に示した光記録媒体10と同様、外径が約120mm、厚みが約1.2mmである円盤状の光記録媒体であり、図5にはそのA部を拡大した状態が示されている。
【0048】
図5に示すように、本実施態様にかかる光記録媒体30は、支持基体31と、透明中間層32と、光透過層33と、支持基体31と透明中間層32との間に設けられた情報層L0と、透明中間層32と光透過層33との間に設けられた情報層L1とを備え、情報層L0は光入射面33aから遠い側の情報層を構成し、情報層L1は光入射面33aから近い側の情報層を構成する。このように、本実施態様にかかる光記録媒体30は、積層された2層の情報層を有している。
【0049】
情報層L0に対してデータの記録/再生を行う場合、光入射面33aから近い側の情報層L1を介してレーザビームLが照射されることになるため、情報層L1は十分な光透過率を有している必要がある。具体的には、データの記録/再生に用いられるレーザビームLの波長において、40%以上の光透過率を有していることが好ましく、50%以上の光透過率を有していることが特に好ましい。
【0050】
支持基体31は、図1に示した光記録媒体10の支持基体11に対応する要素であり、支持基体11と同様の材料を用いて同様の厚さに設定すればよい。支持基体31の表面にはグルーブ31a及びランド31bが設けられており、これらグルーブ31a及び/又はランド31bは、情報層L0に対してデータの記録/再生を行う場合におけるレーザビームLのガイドトラックとしての役割を果たす。
【0051】
透明中間層32は、情報層L0と情報層L1とを物理的及び光学的に十分な距離をもって離間させる役割を果たし、その表面にはグルーブ32a及びランド32bが設けられている。これらグルーブ32a及び/又はランド32bは、情報層L1に対してデータの記録/再生を行う場合におけるレーザビームLのガイドトラックとしての役割を果たす。透明中間層32の材料としては特に限定されるものではないが、紫外線硬化性アクリル樹脂を用いることが好ましい。透明中間層32は、情報層L0に対してデータの記録/再生を行う場合にレーザビームLの光路となることから、十分に高い光透過性を有している必要がある。
【0052】
光透過層33は、図1に示した光記録媒体10の光透過層16に対応する要素であり、その材料としては光透過層16と同様の材料を用いることができ、その厚さとしては透明中間層32との合計膜厚が光透過層16と同様の厚さとなるよう設定すればよい。
【0053】
情報層L1は、図6に示すように、上記光記録媒体30の支持基板31と光透過層33との間に設けられた各機能層から反射層12を削除した構成を有している。すなわち、反応層21,22からなる記録層14と、これを挟むように設けられた2つの誘電体層13,15によって構成される。上記実施態様による光記録媒体10と同様、記録層14のうち未記録状態である領域は、図6に示すように反応層21と反応層22が積層された状態となっているが、所定以上のパワーを持つレーザビームLが照射されると、その熱によって、図7に示すように反応層21を構成する元素及び反応層22を構成する元素がそれぞれ部分的又は全体的に混合されて記録マークMとなる。これにより、情報層L1に所望のデータを記録することが可能となる。尚、情報層L1の光透過率が十分に確保される限度において、情報層L1に薄い反射層12を設けても構わない。
【0054】
誘電体層13,15や、反応層21,22の材料については上述の通りである。つまり、反応層21及び反応層22の一方(好ましくは反応層21)はチタン(Ti)を主成分とする材料からなり、他方(好ましくは反応層22)はシリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、炭素(C)、錫(Sn)、金(Au)、亜鉛(Zn)又は銅(Cu)を主成分とする材料からなる。特に、反応層21の材料としてチタン(Ti)にアルミニウム(Al)が25原子%以上、50原子%未満添加された材料を用い、反応層22の材料としてシリコン(Si)を用いることが好ましい。以上の構成により、情報層L1は高い記録感度を有し、記録されたデータのジッタは十分に低くなる。また、高い保存信頼性も確保される。
【0055】
しかも、情報層L1は、記録層14が上記材料からなることから高い光透過率、具体的には50%以上の光透過率を確保することができる。このため、情報層L0に対するデータの記録においてその感度を高めることが可能となる。
【0056】
さらに、情報層L1は、記録層14が上記材料からなることから、特に380nm〜450nmの波長領域のレーザビームに対し、積層状態である部分(記録マークM以外の部分)の光透過率と、混合状態である部分(記録マークMが形成された部分)の光透過率との差が非常に小さい。具体的には、レーザビームLの波長λが380nm〜450nmである場合において、積層部分と混合部分との光透過率差を2%以下とすることができ、特に、次世代型の光記録媒体に用いられる波長λ=約405nmのレーザビームに対しては、積層部分と混合部分との光透過率差を1.6%以下とすることができる。これにより、情報層L0に対してデータの記録/再生を行う場合に、情報層L1上に形成されるビームスポット内が未記録領域(記録マークMが存在しない領域)であるか記録領域(多数の記録マークMが形成された領域)であるか、さらにはその境界線が存在するかによって、情報層L0に到達するレーザビームLの強度がほとんど変わらないことから、情報層L0に対する記録/再生を安定して行うことが可能となる。
【0057】
尚、情報層L0の構成については特に限定されないが、上記光記録媒体10の支持基板11と光透過層16との間の構成と同様の構成(図2参照)とすることができる。また、情報層L0は追記型の情報層である必要はなく、例えば、記録層を備えない再生専用の情報層であっても構わない。この場合、支持基体31上に螺旋状のプリピットが設けられ、かかるプリピットによって情報層L0に情報が保持される。
【0058】
図8は、光記録媒体30の情報層L1に対してデータを記録するためのレーザビームLのパルス列パターンの好ましい一例を示す図であり、(a)は2T信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、(b)は3T信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、(c)は4T信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、(d)は5T信号〜8T信号を形成する場合のパルス列パターンを示している。
【0059】
図8(a)〜(d)に示すように、本パルス列パターンにおいては、レーザビームLの強度は記録パワーPw2、中間パワーPm2及び基底パワーPb2からなる3つの設定強度(3値)に変調される。
【0060】
これら記録パワーPw2、中間パワーPm2及び基底パワーPb2の関係については、
Pw2>Pm2>Pb2
に設定される。記録パワーPw2としては、照射によって情報層L1に含まれる反応層21,22が溶融混合するような高いレベルに設定され、中間パワーPm2及び基底パワーPb2としては、照射されても情報層L1に含まれる反応層21,22が溶融混合しないような低いレベルに設定される。特に、基底パワーPb2は、照射によって反応層21,22に与える熱的な影響がほとんどなく、記録パワーPw2を持つレーザビームLの照射により加熱された反応層21,22が冷却されるような極めて低いレベルに設定される。
【0061】
図8(a)に示すように、2T信号を形成する場合、レーザビームLの記録パルス数は「1」に設定され、その後、冷却期間tclが挿入される。すなわち、レーザビームLの強度はタイミングt51以前においては中間パワーPm2に設定され、タイミングt51からタイミングt52までの期間(ttop)においては記録パワーPw2に設定され、タイミングt52からタイミングt53までの期間tclにおいては基底パワーPb2に設定され、タイミングt53以降においては再び中間パワーPm2に設定される。
【0062】
また、図8(b)に示すように、3T信号を形成する場合、レーザビームLの記録パルス数は「2」に設定され、その後、冷却期間tclが挿入される。すなわち、レーザビームLの強度はタイミングt61以前においては中間パワーPm2に設定され、タイミングt61からタイミングt62までの期間(ttop)及びタイミングt63からタイミングt64までの期間(tlp)においては記録パワーPw2に設定され、タイミングt62からタイミングt63までの期間(toff)及びタイミングt64からタイミングt65までの期間(tcl)においては基底パワーPb2に設定され、タイミングt65以降においては再び中間パワーPm2に設定される。
【0063】
さらに、図8(c)に示すように、4T信号を形成する場合、レーザビームの記録パルス数は「3」に設定され、その後、冷却期間tclが挿入される。すなわち、レーザビームLの強度はタイミングt71以前においては中間パワーPm2に設定され、タイミングt71からタイミングt72までの期間(ttop)、タイミングt73からタイミングt74までの期間(tmp)及びタイミングt75からタイミングt76までの期間(tlp)においては記録パワーPw2に設定され、タイミングt72からタイミングt73までの期間(toff)、タイミングt74からタイミングt75までの期間(toff)及びタイミングt76からタイミングt77までの期間(tcl)においては基底パワーPb2に設定され、タイミングt77以降においては再び中間パワーPm2に設定される。
【0064】
そして、図8(d)に示すように、5T信号〜8T信号を形成する場合、レーザビームLの記録パルス数はそれぞれ「4」〜「7」に設定され、その後、冷却期間tclが挿入される。したがって、マルチパルスの数は5T信号〜8T信号を形成する場合それぞれ「2」〜「5」に設定される。この場合も、レーザビームLの強度は、ttop(タイミングt81からタイミングt82までの期間)、tmp(タイミングt83からタイミングt84までの期間、タイミングt85からタイミングt86までの期間等)及びtlpの期間(タイミングt87からタイミングt88までの期間)においては記録パワーPw2に設定され、オフ期間toff(タイミングt82からタイミングt83までの期間、タイミングt86からタイミングt87までの期間等)及び冷却期間tcl(タイミングt88からタイミングt89までの期間)においては基底パワーPb2に設定され、その他の期間においては中間パワーPm2に設定される。
【0065】
以上により、記録信号(2T信号〜8T信号)を形成すべき領域においては、記録パワーPw2をもつレーザビームLの照射によって、情報層L1に含まれる反応層21,22が溶融混合し、所望の長さを持った記録マークMが形成される。
【0066】
情報層L1に対するデータの記録において、図8に示したパルス列パターンを用いることが好ましい理由は次の通りである。
【0067】
すなわち、上述したように情報層L1には反射層が含まれていないため(或いは、非常に薄い反射層しか設けられないため)、反射層による放熱効果が全く(或いは十分に)得られない。このため、図4に示したパルス列パターンでは、レーザビームLによる熱が十分に放熱されず、これが信号特性を悪化させるおそれが生じる。しかしながら、情報層L1に対するデータの記録において図8に示したパルス列パターンを用いれば、記録パルスの直後においてレーザビームLの強度が基底パワーPb2に設定されるので、熱が過剰に蓄積されることが無く、その結果、良好な信号特性を得ることが可能となるのである。
【0068】
本発明は、以上の実施態様に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【0069】
例えば、上記各実施態様にかかる光記録媒体10、30は、いずれも非常に薄い光透過層を介してレーザビームが照射されるいわゆる次世代型の光記録媒体であるが、本発明の適用が可能な光記録媒体がこれに限定されるものではなく、DVD型の光記録媒体やCD型の光記録媒体に本発明を適用することも可能である。
【0070】
また、上記各実施態様にかかる光記録媒体10、30では、記録層14が2つの反応層21,22のみによって構成されているが、記録層に他の層、例えば第3の反応層や誘電体層が含まれていても構わない。
【0071】
さらに、上述した光記録媒体30は積層された2つの情報層(L0,L1)を備えているが、積層された3層以上の情報層(L0,L1,L2・・・)を備える光記録媒体に本発明を適用することも可能である。この場合、より光入射面に近い情報層に含まれる記録層を上記の構成とすれば、下層の情報層に対するデータの記録/再生を安定的に行うことが可能となる。
【0072】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明について更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【0073】
[サンプルの作製1]
以下の方法により、図1及び図2に示す光記録媒体10と同じ構成を有する光記録媒体サンプルを作製した。
【0074】
まず、射出成型法により、厚さ1.1mm、直径120mmであり、表面にグルーブ11a及びランド11bが形成されたポリカーボネートからなるディスク状の支持基板11を作製した。
【0075】
次に、この支持基板11をスパッタリング装置にセットし、グルーブ11a及びランド11bが形成されている側の表面に銀(Ag)、パラジウム(Pd)及び銅(Cu)の合金からなる厚さ100nmの反射層12、ZnSとSiOの混合物(モル比=80:20)からなる厚さ26nmの誘電体層13、チタン(Ti)を主成分としこれにアルミニウム(Al)が43原子%添加された材料からなる厚さ5nmの反応層21、シリコン(Si)からなる厚さ5nmの反応層22、ZnSとSiOの混合物(モル比=80:20)からなる厚さ30nmの誘電体層15を順次スパッタ法により形成した。
【0076】
次に、誘電体層15上に、アクリル系紫外線硬化性樹脂をスピンコート法によりコーティングし、これに紫外線を照射して厚さ100μmの光透過層16を形成した。これにより実施例1の光記録媒体サンプルが完成した。
【0077】
次に、反応層21の材料として、銅(Cu)を主成分としこれにアルミニウム(Al)及び金(Au)がそれぞれ23原子%、13原子%添加された材料を用いた他は、実施例1と同様にして比較例1の光記録媒体サンプルを作製した。
【0078】
[サンプルの評価1]
実施例1及び比較例1の光記録媒体サンプルを温度が80℃、湿度が85%の環境下に保存し、0時間後(上記環境下に保存前の状態)、100時間後、200時間後及び300時間後における反射率及びジッタを測定することによって、保存信頼性の試験(保存試験)を行った。
【0079】
反射率及びジッタの測定は次の条件下で行った。
【0080】
まず、各保存段階(0時間、100時間、200時間、300時間)における実施例1及び比較例1の光記録媒体サンプルを光記録媒体評価装置(商品名:DDU1000、パルステック社製)にセットし、4.9m/secの線速度で回転させながら、開口数が0.85である対物レンズを介して波長が405nmであるレーザビームを記録層14(反応層21,22)に照射し、図4に示すパルス列パターンを用いて2T〜8Tからなる混合信号を記録した。パルス幅としては、ttopを0.7Tに設定し、tmpを0.5Tに設定し、tlpを0.5Tに設定した。また、レーザビームLの記録パワーPw1は、実施例1の光記録媒体サンプルに対しては4.4mW、比較例1の光記録媒体サンプルに対しては4.8mWに設定した。基底パワーPb1については、いずれも1.0mWに設定した。
【0081】
次に、0時間後に記録した混合信号及び当該保存段階において記録した混合信号を再生してジッタを測定するとともに、記録マーク間(ブランク領域)の反射率を測定した。ここでいう「ジッタ」とはクロックジッタを指し、タイムインターバルアナライザにより再生信号の「ゆらぎ(σ)」を求め、σ/Tw(Tw:クロックの1周期)により算出した。
【0082】
反射率についての測定結果を図9に、ジッタについての測定結果を図10に示す。図9及び図10において、0時間後に記録した混合信号の反射率及びジッタは「Archival」と表記され、当該保存段階において記録した混合信号の反射率及びジッタは「Shelf」と表記されている。
【0083】
図9に示すように、比較例1の光記録媒体サンプルにおいては、保存試験が進むにつれて反射率が徐々に低下したが、実施例1の光記録媒体サンプルでは保存試験による反射率の低下はほとんど見られなかった。また、図10に示すように、比較例1の光記録媒体サンプルにおいては、保存試験が進むにつれてジッタが高くなったが、実施例1の光記録媒体サンプルでは保存試験によるジッタの上昇は見られなかった。
【0084】
以上より、実施例1の光記録媒体サンプルは保存信頼性が非常に高いことが確認された。
【0085】
[サンプルの作製2]
以下の方法により、図1及び図2に示す光記録媒体10から反射層12を削除した構造を有する光記録媒体サンプルを作製した。
【0086】
まず、射出成型法により、厚さ1.1mm、直径120mmであり、表面にグルーブ11a及びランド11bが形成されたポリカーボネートからなるディスク状の支持基板11を作製した。
【0087】
次に、この支持基板11をスパッタリング装置にセットし、グルーブ11a及びランド11bが形成されている側の表面にZnSとSiOの混合物(モル比=80:20)からなる厚さ25nmの誘電体層13、チタン(Ti)からなる厚さ5nmの反応層21、シリコン(Si)からなる厚さ4nmの反応層22、TiOからなる厚さ33nmの誘電体層15を順次スパッタ法により形成した。
【0088】
次に、誘電体層15上に、アクリル系紫外線硬化性樹脂をスピンコート法によりコーティングし、これに紫外線を照射して厚さ100μmの光透過層16を形成した。これにより比較例2の光記録媒体サンプルが完成した。かかる光記録媒体サンプルは、図5及び図6に示す光記録媒体30から情報層L0を省略した構造、つまり、情報層L1のみからなる構造と考えることもできる。
【0089】
次に、反応層21の材料としてチタン(Ti)とアルミニウム(Al)の合金(Ti=85.0原子%、Al=15.0原子%)を用いた他は、比較例2と同様にして比較例2−0の光記録媒体サンプルを作製した。
【0090】
次に、反応層21の材料としてチタン(Ti)とアルミニウム(Al)の合金(Ti=73.6原子%、Al=26.4原子%)を用いた他は、比較例2と同様にして実施例2−3の光記録媒体サンプルを作製した。
【0091】
次に、反応層21の材料としてチタン(Ti)とアルミニウム(Al)の合金(Ti=65.7原子%、Al=34.3原子%)を用いた他は、比較例2と同様にして実施例2−4の光記録媒体サンプルを作製した。
【0092】
次に、反応層21の材料としてチタン(Ti)とアルミニウム(Al)の合金(Ti=57.3原子%、Al=42.7原子%)を用い、誘電体層15の膜厚を30nmに設定した他は、比較例2と同様にして実施例2−5の光記録媒体サンプルを作製した。
【0093】
次に、反応層21の材料としてチタン(Ti)とアルミニウム(Al)の合金(Ti=47.7原子%、Al=52.3原子%)を用い、誘電体層15の膜厚を30nmに設定した他は、比較例2と同様にして比較例2−1の光記録媒体サンプルを作製した。
【0094】
次に、反応層21の材料としてチタン(Ti)とアルミニウム(Al)の合金(Ti=41.2原子%、Al=58.8原子%)を用い、誘電体層15の膜厚を30nmに設定した他は、比較例2と同様にして比較例2−2の光記録媒体サンプルを作製した。
【0095】
次に、反応層21の材料としてチタン(Ti)とアルミニウム(Al)の合金(Ti=31.9原子%、Al=68.1原子%)を用い、誘電体層15の膜厚を30nmに設定した他は、比較例2と同様にして比較例2−3の光記録媒体サンプルを作製した。
【0096】
次に、反応層21の材料としてチタン(Ti)とアルミニウム(Al)の合金(Ti=26.4原子%、Al=73.6原子%)を用い、誘電体層15の膜厚を30nmに設定した他は、比較例2と同様にして比較例2−4の光記録媒体サンプルを作製した。
【0097】
次に、反応層21の材料としてチタン(Ti)とアルミニウム(Al)の合金(Ti=17.8原子%、Al=82.2原子%)を用い、誘電体層15の膜厚を30nmに設定した他は、比較例2と同様にして比較例2−5の光記録媒体サンプルを作製した。
【0098】
次に、反応層21の材料としてチタン(Ti)とアルミニウム(Al)の合金(Ti=9.4原子%、Al=90.6原子%)を用い、誘電体層15の膜厚を30nmに設定した他は、比較例2と同様にして比較例2−6の光記録媒体サンプルを作製した。
【0099】
次に、反応層21の材料としてチタン(Ti)とアルミニウム(Al)の合金(Ti=1.1原子%、Al=98.9原子%)を用い、誘電体層15の膜厚を30nmに設定した他は、比較例2と同様にして比較例2−7の光記録媒体サンプルを作製した。
【0100】
尚、光記録媒体サンプルごとに誘電体層15の膜厚が異なっているのは、各光記録媒体サンプルの反射率をほぼ一致させるためである。
【0101】
[サンプルの評価2]
次に、比較例2、2−0、実施例2−3〜2−5及び比較例2−1〜2−7の光記録媒体サンプルを上記光記録媒体評価装置にそれぞれセットし、5.3m/secの線速度で回転させながら、開口数が0.85である対物レンズを介して波長が405nmであるレーザビームを記録層14(反応層21,22)に照射し、図8に示すパルス列パターンを用いて2T〜8Tからなる混合信号を記録した。パルス幅としては、ttopを0.5Tに設定し、tmp及びtlpを0.4Tに設定し、tclを1.2Tに設定した。また、記録パワーPw2については、ジッタが最も低くなるレベル(各光記録媒体サンプルによって異なる)に設定するとともに、中間パワーPm2を1.6mW〜2.4mWの範囲で最適化し、基底パワーPb2を0.1mWに固定した。
【0102】
そして、記録された混合信号を再生することによりジッタを測定し、反応層21に添加されたアルミニウム(Al)の量とジッタとの関係を調べた。結果を図11に示す。
【0103】
図11に示すように、ジッタは比較例2−6,2−7の光記録媒体サンプルでは高かったが、その他の光記録媒体サンプルでは7%未満となり、良好な結果が得られた。特に、実施例2−3〜2−5及び比較例2−1〜2−4の光記録媒体サンプルにおけるジッタは6%程度となり、非常に良好な結果が得られた。以上より、アルミニウム(Al)の添加量を0〜83原子%程度に設定すると良好なジッタが得られ、25〜75原子%程度に設定すると特に良好なジッタが得られることが確認された。
【0104】
次に、混合信号が記録された各光記録媒体サンプルについて、記録マークの反射率Rbと記録マーク間(ブランク領域)の反射率Rtを測定し、
(Rt−Rb)/Rt×100
より、変調度を算出した。結果を図12に示す。
【0105】
図12に示すように、変調度は比較例2−1〜2−3の光記録媒体サンプルでは低かったが、その他の光記録媒体サンプルでは50%以上となり、良好な結果が得られた。特に、比較例2,2−3〜2−5及び比較例2−5〜2−7の光記録媒体サンプルにおける変調度は60%以上となり、非常に良好な結果が得られた。以上より、アルミニウム(Al)の添加量を50原子%以下又は80原子%以上に設定すると高い変調度が得られることが確認された。
【0106】
以上の結果から、反応層21へのアルミニウム(Al)の添加量を0〜50原子%程度に設定すればジッタ及び変調度が良好となり、25〜50原子%程度に設定すればジッタ及び変調度が特に良好となることが分かった。
【0107】
次に、各光記録媒体サンプルに対して波長が405nmであるレーザビームを照射し、その光透過率を測定した。結果を図13に示す。
【0108】
図13に示すように、光透過率は比較例2−3〜2−6の光記録媒体サンプルでは低かったが、その他の光記録媒体サンプルでは50%程度となり、特に、実施例2−3〜2−5及び比較例2−1の光記録媒体サンプルにおける光透過率は50%以上となった。以上より、アルミニウム(Al)の添加量を25〜55原子%程度に設定すると特に高い光透過率が得られることが確認された。
【0109】
以上の結果から、反応層21へのアルミニウム(Al)の添加量を0〜50原子%程度、特に、25〜50原子%程度に設定すれば、記録層L1用の反応膜21として好適であることが分かった。
【0110】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、初期特性が良好であるとともに、記録情報を長期にわたって良好な状態で保存可能な追記型の光記録媒体を提供することが可能となる。しかも、本発明の光記録媒体に含まれる記録層は光透過率が高いことから、複数の情報層を備えるタイプの光記録媒体において光入射面に近い情報層にこれを用いれば、下層の情報層に対する記録/再生特性を高めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体10の外観を示す切り欠き斜視図であり、(b)は(a)に示すA部を拡大した部分断面図である。
【図2】光記録媒体10の主要部を拡大して示す略断面図である。
【図3】記録マークMが形成された領域を拡大して示す略断面図である。
【図4】光記録媒体10に対してデータを記録するためのレーザビームLのパルス列パターンの好ましい一例を示す図であり、(a)は2T信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、(b)は3T信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、(c)は4T信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、(d)は5T信号〜8T信号を形成する場合のパルス列パターンを示している。
【図5】本発明の好ましい他の実施態様にかかる光記録媒体30の部分断面図である。
【図6】情報層L1を拡大して示す略断面図である。
【図7】情報層L1のうち記録マークMが形成された領域を拡大して示す略断面図である。
【図8】光記録媒体30の情報層L1に対してデータを記録するためのレーザビームLのパルス列パターンの好ましい一例を示す図であり、(a)は2T信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、(b)は3T信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、(c)は4T信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、(d)は5T信号〜8T信号を形成する場合のパルス列パターンを示している。
【図9】保存試験の進行に伴う反射率の変化を示すグラフである。
【図10】保存試験の進行に伴うジッタの変化を示すグラフである。
【図11】反応層21に添加されたアルミニウム(Al)の量とジッタとの関係を示すグラフである。
【図12】反応層21に添加されたアルミニウム(Al)の量と変調度との関係を示すグラフである。
【図13】反応層21に添加されたアルミニウム(Al)の量と光透過率との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
10,30 光記録媒体
11,31 支持基板
11a,31a,32a グルーブ
11b,31b,32b ランド
12 反射層
13,15 誘電体層
14 記録層
16,33 光透過層
16a,33a 光入射面
21,22 反応層
32 透明中間層
L レーザビーム
L0,L1 情報層
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
  The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to a write-once type optical recording medium.
[0002]
[Prior art]
  Conventionally, optical recording media represented by CDs and DVDs are widely used as recording media for recording digital data. These optical recording media include optical recording media (ROM type optical recording media) that cannot add or rewrite data, such as CD-ROMs and DVD-ROMs, and data recording such as CD-Rs and DVD-Rs. An optical recording medium of a type that can be additionally written but cannot be rewritten (a write-once type optical recording medium), and an optical recording medium of a type that can be rewritten such as a CD-RW or DVD-RW (rewritable optical recording medium) ) And can be broadly divided.
[0003]
  In a ROM type optical recording medium, data is generally recorded by a pit row formed on a substrate in advance at the time of manufacture. In a rewritable type optical recording medium, for example, a phase change material is used as a material for a recording layer. In general, data is recorded using a change in optical characteristics based on a change in the phase state.
[0004]
  In contrast, write-once optical recording media use organic dyes such as cyanine dyes, phthalocyanine dyes, and azo dyes as recording layer materials, and their chemical changes (sometimes in addition to chemical changes, physical changes) In general, data is recorded by using a change in optical characteristics based on a change in the optical characteristics. Unlike write-once optical recording media, write-once optical recording media cannot be erased or rewritten once data has been recorded, but this means that data cannot be tampered with. It plays an important role in applications that require falsification prevention.
[0005]
  However, since the organic dye is deteriorated by irradiation with sunlight or the like, it is desirable that the recording layer is made of a material other than the organic dye in order to further improve the reliability for long-term storage in the write-once type optical recording medium.
[0006]
  As an example in which the recording layer is composed of a material other than an organic dye, a technique is known in which two reaction layers made of an inorganic material are stacked and used as the recording layer, as described in Patent Document 1. .
[0007]
[Patent Document 1]
  JP 62-204442 A
[Problems to be solved by the invention]
  However, the write-once type optical recording medium described in Patent Document 1 is difficult to maintain the initial recording information recorded in the recording layer in a good state for a long time, and the surface property of the recording layer is not necessarily good. Therefore, there were cases where the initial recording characteristics were not good.
[0008]
  The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a write-once type optical recording medium having good initial characteristics and capable of storing recorded information in a good state over a long period of time.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
  The present inventionPurposeIncludes at least a substrate and a recording layer provided on the substrate, and the recording layer includes a first reaction layer containing titanium (Ti) as a main component, silicon (Si), germanium (Ge), carbon (C), a second reaction layer containing as a main component one element selected from the group consisting of tin (Sn), gold (Au), zinc (Zn), and copper (Cu).The above This is achieved by an optical recording medium characterized in that 25 atomic% or more and less than 50 atomic% of aluminum (Al) is added to one reaction layer..
[0010]
  According to the present invention, good initial characteristics can be obtained, and long-term storage reliability can be improved. In the first reaction layer25 atomic% or more and less than 50 atomic%Aluminum (Al) is addedFromJitter can be suppressed to a lower level and a high degree of modulation can be obtained.
[0011]
  Further, it is preferable to further include a first dielectric layer and a second dielectric layer provided so as to sandwich the recording layer, and further includes a light transmission layer provided on the side opposite to the substrate when viewed from the recording layer. The thickness of the light transmission layer is preferably set to 10 to 300 μm. Such a structure having a thin light transmission layer is a so-called next-generation optical recording medium, and a laser beam for recording and reproduction is irradiated from the light transmission layer side. The wavelength of the laser beam is preferably 380 nm to 450 nm. This is because a particularly high degree of modulation can be obtained when recording is performed using a laser beam having a wavelength of 380 nm to 450 nm.
[0012]
  Of the present inventionThe purpose is alsoA recording layer included in a predetermined information layer different from the information layer farthest from the light transmission layer among the plurality of information layers, the recording layer including a substrate and a plurality of information layers provided on the substrate, A first reaction layer containing Ti) as a main component and silicon (Si), germanium (Ge), carbon (C), tin (Sn), gold (Au), zinc (Zn), and copper (Cu) And a second reaction layer containing as a main component one element selected from the groupThus, the optical recording medium is characterized in that 25 atomic% or more and less than 50 atomic% of aluminum (Al) is added to the first reaction layer..
[0013]
  According to the present invention, in addition to the effects described above, since the light transmittance of the predetermined information layer is high, recording of data on the information layer located on the opposite side of the light transmission layer as viewed from the predetermined information layer and Does not interfere with regeneration.
[0014]
  The information layer located on the side opposite to the light incident surface when viewed from the predetermined information layer is an information layer capable of recording and / or reproducing data by irradiating a laser beam having a wavelength of 380 nm to 450 nm. Preferably there is. Since the difference between the light transmittance of the portion where the recording mark is formed and the light transmittance of the other portion is very small in the above wavelength region, the predetermined information layer is light as viewed from the predetermined information layer. It becomes possible to stably record and / or reproduce data with respect to the information layer located on the side opposite to the incident surface.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
  Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
[0016]
  FIG. 1A is a cutaway perspective view showing the appearance of an optical recording medium 10 according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 1B is an enlarged view of part A shown in FIG. It is sectional drawing.
[0017]
  An optical recording medium 10 shown in FIGS. 1A and 1B is a disc-shaped optical recording medium having an outer diameter of about 120 mm and a thickness of about 1.2 mm. As shown in FIG. The support substrate 11, which is a substrate in the present invention, a reflective layer 12, dielectric layers 13 and 15, a recording layer 14, and a light transmission layer 16 are provided. The optical recording medium 10 according to the present embodiment irradiates the recording layer 14 with a laser beam L having a wavelength λ of, for example, 380 nm to 450 nm, preferably about 405 nm, from the light incident surface 16 a that is the surface of the light transmission layer 16. This is a write-once type optical recording medium capable of recording and reproducing data. In recording and reproducing data with respect to the optical recording medium 10, an objective lens having a numerical aperture of 0.7 or more, preferably about 0.85 is used, whereby the beam spot of the laser beam L on the recording layer 14 is It is squeezed to about 0.4 μm.
[0018]
  The support substrate 11 is a disk-shaped substrate having a thickness of about 1.1 mm used for securing a thickness (about 1.2 mm) required for the optical recording medium 10, and has a central portion on one surface thereof. Grooves 11a and lands 11b for guiding the laser beam L are formed in a spiral shape from the vicinity to the outer edge portion or from the outer edge portion to the vicinity of the center portion. Although not particularly limited, the depth of the groove 11a is preferably set to 10 nm to 40 nm, and the pitch of the groove 11a is preferably set to 0.2 μm to 0.4 μm. Various materials can be used as the material of the support substrate 11, and for example, glass, ceramics, or resin can be used. Among these, a resin is preferable from the viewpoint of ease of molding. Examples of such resins include polycarbonate resins, olefin resins, acrylic resins, epoxy resins, polystyrene resins, polyethylene resins, polypropylene resins, silicone resins, fluorine-based resins, ABS resins, and urethane resins. Of these, polycarbonate resins and olefin resins are particularly preferable from the viewpoint of processability. However, since the support substrate 11 does not become an optical path of the laser beam L, it is not necessary to have high light transmittance.
[0019]
  The support substrate 11 is preferably produced by an injection molding method using a stamper, but it can also be produced by other methods such as a photopolymer (2P) method.
[0020]
  The reflection layer 12 plays a role of reflecting the laser beam L incident from the light transmission layer 16 side and emitting the laser beam L from the light transmission layer 16 again. The material of the reflective layer 12 is not particularly limited as long as it can reflect the laser beam L. For example, magnesium (Mg), aluminum (Al), titanium (Ti), chromium (Cr), iron (Fe), cobalt (Co ), Nickel (Ni), copper (Cu), zinc (Zn), germanium (Ge), silver (Ag), platinum (Pt), gold (Au), and the like. Among these, metal materials such as aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), or alloys thereof (such as alloys of Ag and Cu) are used because of their high reflectivity. It is preferable. In the present invention, it is not essential to provide the reflective layer 12 on the optical recording medium. However, if this is provided, a high reproduction signal (C / N ratio) can be easily obtained after the optical recording due to the multiple interference effect. For the purpose of preventing corrosion of the reflective layer 12, a moisture-proof layer made of a dielectric may be interposed between the support substrate 11 and the reflective layer 12.
[0021]
  The thickness of the reflective layer 12 is preferably set to 5 to 300 nm, particularly preferably 20 to 200 nm. This is because, if the thickness of the reflective layer 12 is less than 5 nm, the above-described effect due to the reflective layer 12 cannot be sufficiently obtained. On the other hand, if the thickness of the reflective layer 12 exceeds 300 nm, the surface property of the reflective layer 12 is This is because not only the temperature is lowered, but the film formation time is lengthened and the productivity is lowered. On the other hand, if the thickness of the reflective layer 12 is set to 5 to 300 nm, particularly 20 to 200 nm, the above effect by the reflective layer 12 can be sufficiently obtained, and the surface property can be maintained high. Furthermore, it becomes possible to prevent a decrease in productivity.
[0022]
  The dielectric layers 13 and 15 serve to physically and chemically protect the recording layer 14 provided therebetween, and the recording layer 14 is sandwiched between the dielectric layers 13 and 15 so that optical recording is performed. Thereafter, the deterioration of recorded information is effectively prevented over a long period of time.
[0023]
  The material constituting the dielectric layers 13 and 15 is not particularly limited as long as the material is transparent in the wavelength region of the laser beam L to be used. For example, oxides, sulfides, nitrides, or combinations thereof are mainly used. Although it can be used as a component, from the viewpoint of thermal deformation prevention of the support substrate 11 and the like, and protection characteristics for the recording layer 14, Al2O3AlN, ZnO, ZnS, GeN, GeCrN, CeO2, SiO, SiO2, Si3N4, SiC, La2O3, TaO, TiO2, SiAlON (SiO2, Al2O3, Si3N4And a mixture of AlN) and LaSiON (La2O3, SiO2And Si3N4Etc.), such as aluminum (Al), silicon (Si), cerium (Ce), titanium (Ti), zinc (Zn), tantalum (Ta), oxides, nitrides, sulfides, carbides or mixtures thereof In particular, ZnS and SiO.2It is more preferable to use a mixture thereof. In this case, ZnS and SiO2The molar ratio is particularly preferably set to about 80:20. The dielectric layer 13 and the dielectric layer 15 may be made of the same material, but may be made of different materials. Furthermore, at least one of the dielectric layers 13 and 15 may have a multilayer structure including a plurality of dielectric layers.
[0024]
  Moreover, the layer thickness of the dielectric layers 13 and 15 is not particularly limited, but it is preferable that both are set to 3 to 200 nm. This is because when the layer thickness is less than 3 nm, it is difficult to obtain the above-described effects. On the other hand, when the layer thickness exceeds 200 nm, the film formation time may be increased and the productivity may be reduced. This is because cracks may occur due to the stress of 15.
[0025]
  The dielectric layers 13 and 15 also play a role of expanding the difference in optical characteristics before and after recording, and in order to achieve this, a high refractive index (n) in the wavelength region of the laser beam L used. It is preferable to select a material having Further, when the laser beam L is irradiated, if the energy absorbed by the dielectric layers 13 and 15 is large, the recording sensitivity is lowered. To prevent this, the wavelength region of the laser beam L used is prevented. It is preferable to select a material having a low extinction coefficient (k).
[0026]
  The recording layer 14 is a layer on which an irreversible recording mark is formed. As shown in FIG. 2, a reaction layer 21 located on the support substrate 11 side and a reaction layer 22 located on the light transmission layer 16 side are laminated. It has a structure. The unrecorded region of the recording layer 14 is in a state where the reaction layer 21 and the reaction layer 22 are laminated as shown in FIG. 2, but the laser beam L having a predetermined power or more is irradiated. With the heat, the elements constituting the reaction layer 21 and the elements constituting the reaction layer 22 are partially or wholly mixed to form the recording mark M as shown in FIG. At this time, since the reflectivity with respect to the laser beam L is greatly different between the mixed portion where the recording mark M is formed in the recording layer and the other portion (blank region), data recording / reproduction is performed using this. Can do. The recorded data includes the length of the recording mark M (length from the leading edge to the trailing edge of the recording mark M) and the length of the blank area (from the trailing edge of the recording mark M to the leading edge of the next recording mark M). Length). The lengths of the recording mark M and the blank area are set to an integral multiple of T, where T is a length corresponding to one period of the reference clock. Specifically, in the 1,7RLL modulation system, a recording mark M having a length of 2T to 8T and a blank area are used.
[0027]
  One of the reaction layer 21 and the reaction layer 22 (preferably the reaction layer 21) is made of a material mainly composed of titanium (Ti). Here, the “main component” of the reaction layer means the content ratio (atom%) Refers to the largest element. Therefore, “the reaction layer is made of a material containing titanium (Ti) as a main component” means that the content of titanium (Ti) in the reaction layer is 50atom%That means that. In the reaction layer, it is very preferable that aluminum (Al) is added to titanium (Ti), which is the main component, so that the jitter can be kept low. The amount of aluminum (Al) added is 25.atom%50atom%It is preferable to set to less than. According to this, it is possible to suppress the jitter to a lower level and obtain a high degree of modulation. In addition, it is preferable that one of the reaction layer 21 and the reaction layer 22 is substantially free of elements other than titanium (Ti) and aluminum (Al).
[0028]
  The other of the reaction layer 21 and the reaction layer 22 (preferably the reaction layer 22) is formed of silicon (Si), germanium (Ge), carbon (C), tin (Sn), gold (Au), zinc (Zn) or The main component is copper (Cu). From the viewpoint of increasing the recording sensitivity, the reaction layer has silicon (Si), germanium (Ge), carbon (C), tin (Sn), gold (Au), zinc (Zn), or copper (Cu) as main components. ), Magnesium (Mg), copper (Cu) (except when copper (Cu) is the main component), silver (Ag), gold (Au) (gold (Au) is the main component. Etc.) may be added. The main component of the reaction layer is preferably silicon (Si), germanium (Ge), or tin (Sn), and most preferably silicon (Si).
[0029]
  In summary, the material of the reaction layer 21 is 25 (25%) of aluminum (Al) in titanium (Ti).atom%50atom%It is most preferable to use less added material and to use silicon (Si) as the material of the reaction layer 22. If the reaction layer 21 and the reaction layer 22 are formed of such materials, high reliability for long-term storage can be secured while suppressing environmental load, and high recording sensitivity and low jitter can be obtained. It becomes possible.
[0030]
  As the layer thickness of the recording layer 14 increases, the flatness of the surface 22a of the reaction layer 22 irradiated with the beam spot of the laser beam L deteriorates. As a result, the noise level of the reproduction signal increases and the recording layer 14 is recorded. Sensitivity also decreases. Considering this point, it is effective to set the recording layer 14 to be thin in order to suppress the noise level of the reproduction signal by increasing the flatness of the surface 22a of the reaction layer 22 and increase the recording sensitivity. However, if the thickness is too thin, the difference in optical constants before and after recording decreases, and a high level reproduction signal (C / N ratio) cannot be obtained during reproduction. Also, if the recording layer 14 is set to be extremely thin, it becomes difficult to control the layer thickness during film formation. Considering the above, the thickness of the recording layer 14 is preferably set to 2 to 40 nm, more preferably 2 to 20 nm, and further preferably 2 to 15 nm.
[0031]
  The layer thickness of each of the reaction layer 21 and the reaction layer 22 is not particularly limited, but the noise level of the reproduction signal is sufficiently suppressed, sufficient recording sensitivity is ensured, and the change in reflectance before and after recording is sufficiently increased. In order to achieve this, the thickness is preferably 1 to 30 nm, and the ratio of the layer thickness of the reaction layer 21 to the layer thickness of the reaction layer 22 (layer thickness of the reaction layer 21 / layer thickness of the reaction layer 22) is 0. It is preferable that it is 2-5.0.
[0032]
  The reflective layer 12, the dielectric layer 13, the recording layer 14 (reaction layers 21 and 22), and the dielectric layer 15 may be formed by a vapor phase growth method using chemical species including these constituent elements, for example, A sputtering method or a vacuum deposition method can be used, and among these, the sputtering method is preferably used.
[0033]
  The light transmission layer 16 is a layer that constitutes an incident surface of the laser beam L and serves as an optical path of the laser beam L, and the thickness thereof is preferably set to 10 to 300 μm, and preferably set to 50 to 150 μm. Particularly preferred. The material of the light transmission layer 16 is not particularly limited as long as the material has a sufficiently high light transmittance in the wavelength region of the laser beam L to be used, but it is preferable to use an acrylic or epoxy ultraviolet curable resin. . Moreover, you may form the light transmissive layer 16 using the light transmissive sheet | seat which consists of a light transmissive resin, and various adhesive agents or adhesives instead of the film | membrane which hardens ultraviolet curable resin.
[0034]
  The above is the structure of the optical recording medium 10 according to a preferred embodiment of the present invention.
[0035]
  Next, the principle of data recording on the optical recording medium 10 will be described.
[0036]
  When recording data on the optical recording medium 10, as shown in FIG. 1, the recording layer 14 is irradiated with a laser beam L whose intensity is modulated on the optical recording medium 10 from the light incident surface 16 a. At this time, the numerical aperture (NA) of the objective lens for focusing the laser beam L is set to 0.7 or more, for example, and the wavelength λ of the laser beam L is set to 380 nm to 450 nm, for example. NA) is set to about 0.85, and the wavelength λ of the laser beam L is set to about 405 nm.
[0037]
  When the recording layer 14 is irradiated with such a laser beam L, the recording layer 14 is heated and the elements constituting the reaction layer 21 and the elements constituting the reaction layer 22 are mixed. Such a mixed portion becomes a recording mark M as shown in FIG. 3, and its reflectivity is different from the reflectivity of the other portion (blank area), and this is used to record / reproduce data. Can be performed. In addition, in this embodiment, since the reaction layer 21 and the reaction layer 22 are made of the above-described materials, it is possible to obtain high recording sensitivity and low jitter while ensuring sufficient storage reliability. . In addition, since the materials constituting the reaction layers 21 and 22 are common materials on the earth, it is also possible to suppress environmental loads.
[0038]
  FIG. 4 is a view showing a preferred example of a pulse train pattern of the laser beam L for recording data on the optical recording medium 10, wherein (a) shows a pulse train pattern when a 2T signal is formed, and (b) ) Shows a pulse train pattern when a 3T signal is formed, (c) shows a pulse train pattern when a 4T signal is formed, and (d) shows a pulse train pattern when a 5T signal to 8T signal is formed. .
[0039]
  As shown in FIGS. 4A to 4D, in this pulse train pattern, the set intensity of the laser beam L is modulated into two intensities (binary) consisting of the recording power Pw1 and the base power Pb1 (<Pw1). The
[0040]
  The recording power Pw1 is set to a high level such that the reaction layers 21 and 22 constituting the recording layer 14 are melted and mixed by irradiation, and the base power Pb1 is the recording layer 14 in a heated state even when irradiated. It is set to a very low level so as to be cooled.
[0041]
  As shown in FIG. 4A, when a 2T signal is formed, the number of recording pulses of the laser beam L is set to “1”. The number of recording pulses of the laser beam L is defined by the number of times the intensity of the laser beam L is increased to the recording power Pw1 (or Pw2 (Pw2 will be described later)). More specifically, the intensity of the laser beam L is set to the base power Pb1 before the timing t11, and the period from the timing t11 to the timing t12 (ttop), The recording power Pw1 is set, and after the timing t12, the recording power Pw1 is set again.
[0042]
  Further, as shown in FIG. 4B, when the 3T signal is formed, the number of recording pulses of the laser beam L is set to “2”. That is, the intensity of the laser beam L is the period from the timing t21 to the timing t22 (ttop) And the period from timing t23 to timing t24 (tlp) Is set to the recording power Pw1, and is set to the base power Pb1 in other periods.
[0043]
  Further, as shown in FIG. 4C, when a 4T signal is formed, the number of recording pulses of the laser beam is set to “3”. That is, the intensity of the laser beam L is a period from the timing t31 to the timing t32 (ttop), The period from timing t33 to timing t34 (tmp) And the period from timing t35 to timing t36 (tlp) Is set to the recording power Pw1, and is set to the base power Pb1 in other periods.
[0044]
  Then, as shown in FIG. 4D, when forming the 5T signal to 8T signal, the number of recording pulses of the laser beam L is set to “4” to “7”, respectively. Again, the intensity of the laser beam L is ttop(Period from timing t41 to timing t42), tmp(A period from timing t43 to timing t44, a period from timing t45 to timing t46, etc.) and tlpThe recording power Pw1 is set during the period (period from timing t47 to timing t48), and the base power Pb1 is set during the other periods.
[0045]
  As described above, in the region where the recording signal (2T signal to 8T signal) is to be formed, the reaction layers 21 and 22 constituting the recording layer 14 are dissolved and mixed by the irradiation of the laser beam L having the recording power Pw1, and the recording mark is recorded. M is formed.
[0046]
  The recording layer 14 used in the above embodiment has a high light transmittance, and particularly for a laser beam in the wavelength region of 380 nm to 450 nm, the portion where the recording mark M is formed and other portions. It has the characteristic that the light transmittance difference with a part is very small. If attention is paid to this point, it is considered that the recording layer 14 used in the above embodiment is suitable as a recording layer for an optical recording medium in which a plurality of information layers are laminated. Hereinafter, embodiments in which the present invention is applied to an optical recording medium in which a plurality of information layers are laminated will be described.
[0047]
  FIG. 5 is a partial cross-sectional view of an optical recording medium 30 according to another preferred embodiment of the present invention. The external appearance of the optical recording medium 30 according to this embodiment is a disc-shaped optical recording medium having an outer diameter of about 120 mm and a thickness of about 1.2 mm, similar to the optical recording medium 10 shown in FIG. FIG. 5 shows an enlarged view of the A portion.
[0048]
  As shown in FIG. 5, the optical recording medium 30 according to this embodiment is provided between the support base 31, the transparent intermediate layer 32, the light transmission layer 33, and the support base 31 and the transparent intermediate layer 32. An information layer L0, and an information layer L1 provided between the transparent intermediate layer 32 and the light transmission layer 33. The information layer L0 constitutes an information layer far from the light incident surface 33a. An information layer closer to the light incident surface 33a is formed. Thus, the optical recording medium 30 according to the present embodiment has two information layers stacked.
[0049]
  When recording / reproducing data on the information layer L0, the information layer L1 is irradiated with the laser beam L through the information layer L1 closer to the light incident surface 33a, so that the information layer L1 has sufficient light transmittance. It is necessary to have. Specifically, it preferably has a light transmittance of 40% or more at the wavelength of the laser beam L used for data recording / reproduction, and has a light transmittance of 50% or more. Particularly preferred.
[0050]
  The support base 31 is an element corresponding to the support base 11 of the optical recording medium 10 shown in FIG. 1 and may be set to the same thickness using the same material as the support base 11. Grooves 31a and lands 31b are provided on the surface of the support base 31, and these grooves 31a and / or lands 31b serve as guide tracks for the laser beam L when data recording / reproduction is performed on the information layer L0. To play a role.
[0051]
  The transparent intermediate layer 32 serves to separate the information layer L0 and the information layer L1 from each other with a sufficient physical and optical distance, and a groove 32a and a land 32b are provided on the surface thereof. These grooves 32a and / or lands 32b serve as guide tracks for the laser beam L when data is recorded / reproduced with respect to the information layer L1. Although it does not specifically limit as a material of the transparent intermediate | middle layer 32, It is preferable to use an ultraviolet curable acrylic resin. The transparent intermediate layer 32 serves as an optical path of the laser beam L when data is recorded / reproduced with respect to the information layer L0, and therefore needs to have sufficiently high light transmittance.
[0052]
  The light transmissive layer 33 is an element corresponding to the light transmissive layer 16 of the optical recording medium 10 shown in FIG. 1, and a material similar to that of the light transmissive layer 16 can be used as its material. What is necessary is just to set so that the total film thickness with the transparent intermediate | middle layer 32 may become the same thickness as the light transmissive layer 16. FIG.
[0053]
  As shown in FIG. 6, the information layer L <b> 1 has a configuration in which the reflective layer 12 is deleted from each functional layer provided between the support substrate 31 and the light transmission layer 33 of the optical recording medium 30. That is, the recording layer 14 includes the reaction layers 21 and 22 and the two dielectric layers 13 and 15 provided so as to sandwich the recording layer 14. As in the optical recording medium 10 according to the above embodiment, the unrecorded region of the recording layer 14 is a state in which the reaction layer 21 and the reaction layer 22 are stacked as shown in FIG. When the laser beam L having the following power is irradiated, the elements constituting the reaction layer 21 and the elements constituting the reaction layer 22 are partially or wholly mixed and recorded by the heat as shown in FIG. Mark M. Thereby, desired data can be recorded in the information layer L1. The thin reflective layer 12 may be provided on the information layer L1 as long as the light transmittance of the information layer L1 is sufficiently secured.
[0054]
  The materials for the dielectric layers 13 and 15 and the reaction layers 21 and 22 are as described above. That is, one of the reaction layer 21 and the reaction layer 22 (preferably the reaction layer 21) is made of a material mainly composed of titanium (Ti), and the other (preferably the reaction layer 22) is made of silicon (Si) or germanium (Ge). , Carbon (C), tin (Sn), gold (Au), zinc (Zn) or copper (Cu). In particular, as the material of the reaction layer 21, aluminum (Al) is 25 in titanium (Ti).atom%50atom%It is preferable to use less added material and to use silicon (Si) as the material of the reaction layer 22. With the above configuration, the information layer L1 has high recording sensitivity, and jitter of recorded data is sufficiently low. In addition, high storage reliability is ensured.
[0055]
  Moreover, since the recording layer 14 is made of the above material, the information layer L1 can ensure a high light transmittance, specifically, a light transmittance of 50% or more. For this reason, it is possible to increase the sensitivity in recording data on the information layer L0.
[0056]
  Further, since the recording layer 14 is made of the above material, the information layer L1 has a light transmittance of a portion in a laminated state (portion other than the recording mark M) particularly with respect to a laser beam in a wavelength region of 380 nm to 450 nm. The difference from the light transmittance of the mixed portion (the portion where the recording mark M is formed) is very small. Specifically, when the wavelength λ of the laser beam L is 380 nm to 450 nm, the difference in light transmittance between the stacked portion and the mixed portion can be 2% or less, and in particular, the next generation type optical recording medium For the laser beam having the wavelength λ = about 405 nm used in the above, the light transmittance difference between the laminated portion and the mixed portion can be 1.6% or less. Thus, when data is recorded / reproduced with respect to the information layer L0, the beam spot formed on the information layer L1 is an unrecorded area (area where the recording mark M does not exist) or a recorded area (a large number of areas). The recording beam M is recorded / reproduced with respect to the information layer L0 because the intensity of the laser beam L reaching the information layer L0 is hardly changed depending on whether the recording mark M is formed on the recording layer M or the boundary line. Can be performed stably.
[0057]
  Although the configuration of the information layer L0 is not particularly limited, the configuration can be the same as the configuration between the support substrate 11 and the light transmission layer 16 of the optical recording medium 10 (see FIG. 2). The information layer L0 does not have to be a write-once information layer, and may be a read-only information layer that does not include a recording layer, for example. In this case, a spiral prepit is provided on the support base 31, and information is held in the information layer L0 by the prepit.
[0058]
  FIG. 8 is a diagram showing a preferable example of a pulse train pattern of the laser beam L for recording data on the information layer L1 of the optical recording medium 30, and FIG. 8A shows a pulse train pattern when a 2T signal is formed. (B) shows a pulse train pattern when a 3T signal is formed, (c) shows a pulse train pattern when a 4T signal is formed, and (d) shows a pulse train pattern when a 5T signal to 8T signal is formed. Is shown.
[0059]
  As shown in FIGS. 8A to 8D, in this pulse train pattern, the intensity of the laser beam L is modulated into three set intensities (ternary values) composed of the recording power Pw2, the intermediate power Pm2, and the base power Pb2. The
[0060]
  Regarding the relationship between the recording power Pw2, the intermediate power Pm2, and the base power Pb2,
Pw2> Pm2> Pb2
Set to The recording power Pw2 is set to a high level such that the reaction layers 21 and 22 included in the information layer L1 are melted and mixed by irradiation, and the intermediate power Pm2 and the base power Pb2 are included in the information layer L1 even when irradiated. The reaction layers 21 and 22 are set at a low level so as not to melt and mix. In particular, the base power Pb2 has almost no thermal influence on the reaction layers 21 and 22 by irradiation, and the reaction layers 21 and 22 heated by irradiation with the laser beam L having the recording power Pw2 are extremely cooled. Set to a low level.
[0061]
  As shown in FIG. 8A, when a 2T signal is formed, the number of recording pulses of the laser beam L is set to “1”, and then the cooling period tclIs inserted. That is, the intensity of the laser beam L is set to the intermediate power Pm2 before the timing t51, and the period from the timing t51 to the timing t52 (ttop) Is set to the recording power Pw2, and the period t from timing t52 to timing t53 is set.clIs set to the base power Pb2, and after the timing t53, it is set to the intermediate power Pm2.
[0062]
  Further, as shown in FIG. 8B, when forming a 3T signal, the number of recording pulses of the laser beam L is set to “2”, and then the cooling period tclIs inserted. That is, the intensity of the laser beam L is set to the intermediate power Pm2 before the timing t61, and the period from the timing t61 to the timing t62 (ttop) And a period from timing t63 to timing t64 (tlp) Is set to the recording power Pw2, and the period from the timing t62 to the timing t63 (toff) And a period from timing t64 to timing t65 (tcl) Is set to the base power Pb2, and after the timing t65, it is set to the intermediate power Pm2.
[0063]
  Further, as shown in FIG. 8C, when forming a 4T signal, the number of recording pulses of the laser beam is set to “3”, and then the cooling period tclIs inserted. That is, the intensity of the laser beam L is set to the intermediate power Pm2 before the timing t71, and the period from the timing t71 to the timing t72 (ttop), A period from timing t73 to timing t74 (tmp) And the period from timing t75 to timing t76 (tlp) Is set to the recording power Pw2, and the period from the timing t72 to the timing t73 (toff), A period from timing t74 to timing t75 (toff) And a period from timing t76 to timing t77 (tcl) Is set to the base power Pb2, and after the timing t77, it is set to the intermediate power Pm2.
[0064]
  As shown in FIG. 8D, when forming 5T signal to 8T signal, the number of recording pulses of the laser beam L is set to “4” to “7”, respectively, and then the cooling period tclIs inserted. Therefore, the number of multi-pulses is set to “2” to “5” when forming 5T signals to 8T signals, respectively. Again, the intensity of the laser beam L is ttop(Period from timing t81 to timing t82), tmp(A period from timing t83 to timing t84, a period from timing t85 to timing t86, etc.) and tlpIn the period (period from timing t87 to timing t88), the recording power Pw2 is set and the off period toff(Period from timing t82 to timing t83, period from timing t86 to timing t87, etc.) and cooling period tclIn the (period from timing t88 to timing t89), the base power Pb2 is set, and in other periods, the intermediate power Pm2 is set.
[0065]
  As described above, in the region where the recording signal (2T signal to 8T signal) is to be formed, the reaction layers 21 and 22 included in the information layer L1 are melted and mixed by irradiation with the laser beam L having the recording power Pw2, and the desired layer is formed. A recording mark M having a length is formed.
[0066]
  The reason why it is preferable to use the pulse train pattern shown in FIG. 8 in recording data on the information layer L1 is as follows.
[0067]
  That is, as described above, since the information layer L1 does not include the reflective layer (or only a very thin reflective layer is provided), the heat dissipation effect by the reflective layer cannot be obtained at all (or sufficiently). For this reason, in the pulse train pattern shown in FIG. 4, the heat by the laser beam L is not sufficiently dissipated, and this may deteriorate the signal characteristics. However, if the pulse train pattern shown in FIG. 8 is used for recording data on the information layer L1, the intensity of the laser beam L is set to the base power Pb2 immediately after the recording pulse, so that heat may be accumulated excessively. As a result, good signal characteristics can be obtained.
[0068]
  The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope of the invention described in the claims, and these are also included in the scope of the present invention. Needless to say.
[0069]
  For example, the optical recording media 10 and 30 according to each of the above embodiments are so-called next-generation optical recording media that are irradiated with a laser beam via a very thin light transmission layer. The possible optical recording media are not limited to this, and the present invention can also be applied to DVD-type optical recording media and CD-type optical recording media.
[0070]
  In the optical recording media 10 and 30 according to the above embodiments, the recording layer 14 is composed of only two reaction layers 21 and 22. However, the recording layer includes other layers such as a third reaction layer and a dielectric layer. A body layer may be included.
[0071]
  Furthermore, although the optical recording medium 30 described above includes two stacked information layers (L0, L1), the optical recording includes three or more stacked information layers (L0, L1, L2,...). The present invention can also be applied to a medium. In this case, if the recording layer included in the information layer closer to the light incident surface is configured as described above, data recording / reproduction with respect to the lower information layer can be stably performed.
[0072]
【Example】
  Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
[0073]
  [Sample Preparation 1]
  An optical recording medium sample having the same configuration as the optical recording medium 10 shown in FIGS. 1 and 2 was produced by the following method.
[0074]
  First, a disk-shaped support substrate 11 made of polycarbonate having a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm and having a groove 11a and a land 11b formed on the surface was produced by an injection molding method.
[0075]
  Next, the support substrate 11 is set in a sputtering apparatus, and the surface on which the grooves 11a and lands 11b are formed is made of an alloy of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu) with a thickness of 100 nm. Reflective layer 12, ZnS and SiO2A dielectric layer 13 made of a mixture (molar ratio = 80: 20) having a thickness of 26 nm, titanium (Ti) as a main component, and aluminum (Al) being 43atom%5 nm thick reaction layer 21 made of added material, 5 nm thick reaction layer 22 made of silicon (Si), ZnS and SiO 22A dielectric layer 15 having a thickness of 30 nm made of a mixture (molar ratio = 80: 20) was sequentially formed by sputtering.
[0076]
  Next, an acrylic ultraviolet curable resin was coated on the dielectric layer 15 by spin coating, and this was irradiated with ultraviolet rays to form a light transmission layer 16 having a thickness of 100 μm. Thereby, the optical recording medium sample of Example 1 was completed.
[0077]
  Next, as a material of the reaction layer 21, copper (Cu) is the main component, and aluminum (Al) and gold (Au) are each 23.atom%, 13atom%An optical recording medium sample of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the added material was used.
[0078]
  [Sample Evaluation 1]
  The optical recording medium samples of Example 1 and Comparative Example 1 were stored in an environment where the temperature was 80 ° C. and the humidity was 85%, after 0 hours (the state before storage in the above environment), after 100 hours, and after 200 hours. And a storage reliability test (storage test) was performed by measuring the reflectance and jitter after 300 hours.
[0079]
  The reflectance and jitter were measured under the following conditions.
[0080]
  First, the optical recording medium samples of Example 1 and Comparative Example 1 in each storage stage (0 hour, 100 hours, 200 hours, 300 hours) are set in an optical recording medium evaluation apparatus (trade name: DDU1000, manufactured by Pulstec). The recording layer 14 (reaction layers 21 and 22) is irradiated with a laser beam having a wavelength of 405 nm through an objective lens having a numerical aperture of 0.85 while rotating at a linear velocity of 4.9 m / sec. A mixed signal composed of 2T to 8T was recorded using the pulse train pattern shown in FIG. The pulse width is ttopIs set to 0.7T and tmpIs set to 0.5T and tlpWas set to 0.5T. The recording power Pw1 of the laser beam L was set to 4.4 mW for the optical recording medium sample of Example 1, and 4.8 mW for the optical recording medium sample of Comparative Example 1. The base power Pb1 was set to 1.0 mW in all cases.
[0081]
  Next, the mixed signal recorded after 0 hours and the mixed signal recorded in the storage stage were reproduced to measure jitter, and the reflectance between recording marks (blank area) was measured. Here, “jitter” refers to clock jitter, “fluctuation (σ)” of a reproduction signal is obtained by a time interval analyzer, and is calculated by σ / Tw (Tw: one cycle of the clock).
[0082]
  FIG. 9 shows the measurement result for the reflectance, and FIG. 10 shows the measurement result for the jitter. In FIGS. 9 and 10, the reflectance and jitter of the mixed signal recorded after 0 hours are expressed as “Achival”, and the reflectance and jitter of the mixed signal recorded in the storage stage are expressed as “Shelf”.
[0083]
  As shown in FIG. 9, in the optical recording medium sample of Comparative Example 1, the reflectance gradually decreased as the storage test progressed. However, in the optical recording medium sample of Example 1, the reflectance decreased almost by the storage test. I couldn't see it. Further, as shown in FIG. 10, in the optical recording medium sample of Comparative Example 1, the jitter increased as the storage test progressed, but in the optical recording medium sample of Example 1, an increase in jitter due to the storage test was observed. There wasn't.
[0084]
  From the above, it was confirmed that the optical recording medium sample of Example 1 has very high storage reliability.
[0085]
  [Sample Preparation 2]
  An optical recording medium sample having a structure in which the reflective layer 12 was deleted from the optical recording medium 10 shown in FIGS. 1 and 2 was produced by the following method.
[0086]
  First, a disk-shaped support substrate 11 made of polycarbonate having a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm and having a groove 11a and a land 11b formed on the surface was produced by an injection molding method.
[0087]
  Next, the support substrate 11 is set in a sputtering apparatus, and ZnS and SiO2 are formed on the surface on which the groove 11a and the land 11b are formed.225 nm thick dielectric layer 13 made of a mixture (molar ratio = 80: 20), 5 nm thick reaction layer 21 made of titanium (Ti), 4 nm thick reaction layer 22 made of silicon (Si), TiO 22A dielectric layer 15 having a thickness of 33 nm was sequentially formed by sputtering.
[0088]
  Next, an acrylic ultraviolet curable resin was coated on the dielectric layer 15 by spin coating, and this was irradiated with ultraviolet rays to form a light transmission layer 16 having a thickness of 100 μm. ThisComparative Example 2An optical recording medium sample was completed. Such an optical recording medium sample can be considered as a structure in which the information layer L0 is omitted from the optical recording medium 30 shown in FIGS. 5 and 6, that is, a structure including only the information layer L1.
[0089]
  Next, an alloy of titanium (Ti) and aluminum (Al) (Ti = 85.0 atomic%, Al = 15.0 atomic%) was used as a material for the reaction layer 21.Comparative Example 2LikeComparative Example 2-0An optical recording medium sample was prepared.
[0090]
  Next, an alloy of titanium (Ti) and aluminum (Al) (Ti = 73.6 atomic%, Al = 26.4 atomic%) was used as the material of the reaction layer 21.Comparative Example 2In the same manner, an optical recording medium sample of Example 2-3 was produced.
[0091]
  Next, an alloy of titanium (Ti) and aluminum (Al) (Ti = 65.7 atomic%, Al = 34.3 atomic%) was used as a material for the reaction layer 21.Comparative Example 2In the same manner, an optical recording medium sample of Example 2-4 was produced.
[0092]
  Next, an alloy of titanium (Ti) and aluminum (Al) (Ti = 57.3 atomic%, Al = 42.7 atomic%) is used as the material of the reaction layer 21, and the film thickness of the dielectric layer 15 is set to 30 nm. Other than that,Comparative Example 2In the same manner, an optical recording medium sample of Example 2-5 was produced.
[0093]
  Next, an alloy of titanium (Ti) and aluminum (Al) (Ti = 47.7 atomic%, Al = 52.3 atomic%) is used as the material of the reaction layer 21, and the film thickness of the dielectric layer 15 is set to 30 nm. Other than that,Comparative Example 2In the same manner as described above, an optical recording medium sample of Comparative Example 2-1 was produced.
[0094]
  Next, an alloy of titanium (Ti) and aluminum (Al) (Ti = 41.2 atomic%, Al = 58.8 atomic%) is used as the material of the reaction layer 21, and the film thickness of the dielectric layer 15 is set to 30 nm. Other than that,Comparative Example 2In the same manner, an optical recording medium sample of Comparative Example 2-2 was produced.
[0095]
  Next, an alloy of titanium (Ti) and aluminum (Al) (Ti = 31.9 atomic%, Al = 68.1 atomic%) is used as the material of the reaction layer 21, and the film thickness of the dielectric layer 15 is set to 30 nm. Other than that,Comparative Example 2In the same manner, an optical recording medium sample of Comparative Example 2-3 was produced.
[0096]
  Next, an alloy of titanium (Ti) and aluminum (Al) (Ti = 26.4 atomic%, Al = 73.6 atomic%) is used as the material of the reaction layer 21, and the film thickness of the dielectric layer 15 is set to 30 nm. Other than that,Comparative Example 2In the same manner, an optical recording medium sample of Comparative Example 2-4 was produced.
[0097]
  Next, an alloy of titanium (Ti) and aluminum (Al) (Ti = 17.8 atomic%, Al = 82.2 atomic%) is used as the material of the reaction layer 21, and the film thickness of the dielectric layer 15 is set to 30 nm. Other than that,Comparative Example 2In the same manner, an optical recording medium sample of Comparative Example 2-5 was produced.
[0098]
  Next, an alloy of titanium (Ti) and aluminum (Al) (Ti = 9.4 atomic%, Al = 90.6 atomic%) is used as the material of the reaction layer 21, and the film thickness of the dielectric layer 15 is set to 30 nm. Other than that,Comparative Example 2In the same manner, an optical recording medium sample of Comparative Example 2-6 was produced.
[0099]
  Next, an alloy of titanium (Ti) and aluminum (Al) (Ti = 1.1 atomic%, Al = 98.9 atomic%) is used as the material of the reaction layer 21, and the film thickness of the dielectric layer 15 is set to 30 nm. Other than that,Comparative Example 2In the same manner, an optical recording medium sample of Comparative Example 2-7 was produced.
[0100]
  The reason why the film thickness of the dielectric layer 15 is different for each optical recording medium sample is to make the reflectance of each optical recording medium sample substantially the same.
[0101]
  [Sample Evaluation 2]
  next,Comparative Examples 2, 2-0,The optical recording medium samples of Examples 2-3 to 2-5 and Comparative Examples 2-1 to 2-7 were set in the optical recording medium evaluation apparatus, respectively, and opened while rotating at a linear velocity of 5.3 m / sec. The recording layer 14 (reaction layers 21 and 22) is irradiated with a laser beam having a wavelength of 405 nm through an objective lens having a number of 0.85, and a mixed signal composed of 2T to 8T is used using the pulse train pattern shown in FIG. Was recorded. The pulse width is ttopIs set to 0.5T and tmpAnd tlpIs set to 0.4T and tclWas set to 1.2T. Further, the recording power Pw2 is set to a level at which the jitter is lowest (differs depending on each optical recording medium sample), the intermediate power Pm2 is optimized in the range of 1.6 mW to 2.4 mW, and the base power Pb2 is set to 0. Fixed at 1 mW.
[0102]
  Then, the jitter was measured by reproducing the recorded mixed signal, and the relationship between the amount of aluminum (Al) added to the reaction layer 21 and the jitter was examined. The results are shown in FIG.
[0103]
  As shown in FIG. 11, the jitter was high in the optical recording medium samples of Comparative Examples 2-6 and 2-7, but it was less than 7% in the other optical recording medium samples, and good results were obtained. In particular, the jitter in the optical recording medium samples of Examples 2-3 to 2-5 and Comparative Examples 2-1 to 2-4 was about 6%, and very good results were obtained. From the above, the amount of aluminum (Al) added is set to 0 to 83.atom%Good jitter can be obtained when set to about 25 to 75atom%It was confirmed that a particularly good jitter can be obtained when the level is set to about.
[0104]
  Next, for each optical recording medium sample on which the mixed signal is recorded, the reflectance Rb of the recording mark and the reflectance Rt between the recording marks (blank area) are measured,
(Rt−Rb) / Rt × 100
Thus, the degree of modulation was calculated. The results are shown in FIG.
[0105]
  As shown in FIG. 12, the degree of modulation was low in the optical recording medium samples of Comparative Examples 2-1 to 2-3, but the other optical recording medium samples were 50% or more, and good results were obtained. In particular,Comparative Example 2, 2-3 to 2-5 and Comparative Examples 2-5 to 2-7, the degree of modulation was 60% or more, and very good results were obtained. From the above, it was confirmed that when the addition amount of aluminum (Al) was set to 50 atomic% or less or 80 atomic% or more, a high degree of modulation was obtained.
[0106]
  From the above results, the amount of aluminum (Al) added to the reaction layer 21 is set to 0 to 50.atom%If it is set to about, the jitter and modulation will be good, and 25-50atom%It was found that the jitter and the degree of modulation are particularly good when the degree is set.
[0107]
  Next, each optical recording medium sample was irradiated with a laser beam having a wavelength of 405 nm, and the light transmittance was measured. The results are shown in FIG.
[0108]
  As shown in FIG. 13, the light transmittance was low in the optical recording medium samples of Comparative Examples 2-3 to 2-6, but it was about 50% in the other optical recording medium samples. The light transmittance of the optical recording medium samples of 2-5 and Comparative Example 2-1 was 50% or more. As mentioned above, the addition amount of aluminum (Al) is 25-55.atom%It was confirmed that a particularly high light transmittance could be obtained when the degree was set.
[0109]
  From the above results, the amount of aluminum (Al) added to the reaction layer 21 is set to 0 to 50.atom%Degree, in particular 25-50atom%It was found that the reaction film 21 for the recording layer L1 was suitable if the degree was set.
[0110]
【The invention's effect】
  As described above, according to the present invention, it is possible to provide a write-once type optical recording medium that has good initial characteristics and can store recording information in a good state for a long period of time. Moreover, since the recording layer included in the optical recording medium of the present invention has a high light transmittance, if this is used for an information layer close to the light incident surface in an optical recording medium of a type having a plurality of information layers, the information in the lower layer is used. It becomes possible to improve the recording / reproducing characteristics for the layer.
[Brief description of the drawings]
1A is a cutaway perspective view showing an appearance of an optical recording medium 10 according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 1B is an enlarged partial sectional view of a portion A shown in FIG. .
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged main part of the optical recording medium 10;
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged region where a recording mark M is formed.
4A and 4B are diagrams showing a preferable example of a pulse train pattern of a laser beam L for recording data on the optical recording medium 10. FIG. 4A shows a pulse train pattern when a 2T signal is formed, and FIG. ) Shows a pulse train pattern when a 3T signal is formed, (c) shows a pulse train pattern when a 4T signal is formed, and (d) shows a pulse train pattern when a 5T signal to 8T signal is formed. .
FIG. 5 is a partial sectional view of an optical recording medium 30 according to another preferred embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an information layer L1 in an enlarged manner.
7 is a schematic cross-sectional view showing, in an enlarged manner, a region where a recording mark M is formed in the information layer L1.
FIG. 8 is a diagram showing a preferable example of a pulse train pattern of a laser beam L for recording data on the information layer L1 of the optical recording medium 30. FIG. 8A shows a pulse train pattern when a 2T signal is formed. (B) shows a pulse train pattern when a 3T signal is formed, (c) shows a pulse train pattern when a 4T signal is formed, and (d) shows a pulse train pattern when a 5T signal to 8T signal is formed. Is shown.
FIG. 9 is a graph showing a change in reflectance with progress of a storage test.
FIG. 10 is a graph showing a change in jitter accompanying the progress of a storage test.
11 is a graph showing the relationship between the amount of aluminum (Al) added to the reaction layer 21 and jitter. FIG.
12 is a graph showing the relationship between the amount of aluminum (Al) added to the reaction layer 21 and the degree of modulation. FIG.
13 is a graph showing the relationship between the amount of aluminum (Al) added to the reaction layer 21 and the light transmittance. FIG.
[Explanation of symbols]
10, 30 Optical recording medium
11, 31 Support substrate
11a, 31a, 32a groove
11b, 31b, 32b land
12 Reflective layer
13, 15 Dielectric layer
14 Recording layer
16, 33 Light transmission layer
16a, 33a Light incident surface
21,22 Reaction layer
32 Transparent intermediate layer
L Laser beam
L0, L1 information layer

Claims (5)

基板と、前記基板上に設けられた記録層を少なくとも備え、前記記録層は、チタン(Ti)を主成分として含む第1の反応層と、シリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、炭素(C)、錫(Sn)、金(Au)、亜鉛(Zn)及び銅(Cu)からなる群より選ばれた一つの元素を主成分として含む第2の反応層とを含み、前記第1の反応層に25原子%以上、50原子%未満のアルミニウム(Al)が添加されていることを特徴とする光記録媒体。The recording layer includes at least a substrate and a recording layer provided on the substrate. The recording layer includes a first reaction layer containing titanium (Ti) as a main component, silicon (Si), germanium (Ge), and carbon (C ), tin (Sn), gold (Au), zinc (Zn) and copper (see contains a second reaction layer containing one element selected from the group consisting of Cu) as a main component, the first An optical recording medium , wherein 25 atomic% or more and less than 50 atomic% of aluminum (Al) is added to the reaction layer . さらに、前記記録層を挟むように設けられた第1及び第2の誘電体層を備えたことを特徴とする請求項1に記載の光記録媒体 The optical recording medium according to claim 1, further comprising first and second dielectric layers provided so as to sandwich the recording layer . さらに、前記記録層から見て前記基板とは反対側に設けられた光透過層を備え、前記光透過層の厚さが10〜300μmに設定されていることを特徴とする請求項1また2に記載の光記録媒体 3. A light transmission layer provided on the opposite side of the substrate as viewed from the recording layer, wherein the light transmission layer has a thickness of 10 to 300 μm. An optical recording medium according to 1 . 波長が380nm〜450nmであるレーザビームの照射によりデータの記録が可能であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の光記録媒体 4. The optical recording medium according to claim 1, wherein data can be recorded by irradiation with a laser beam having a wavelength of 380 nm to 450 nm . 基板と、前記基板上に設けられた複数の情報層とを備え、前記複数の情報層のうち光透過層から最も遠い情報層とは異なる所定の情報層に含まれる記録層が、チタン(Ti)を主成分として含む第1の反応層と、シリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、炭素(C)、錫(Sn)、金(Au)、亜鉛(Zn)及び銅(Cu)からなる群より選ばれた一つの元素を主成分として含む第2の反応層とを含み、前記第1の反応層に25原子%以上、50原子%未満のアルミニウム(Al)が添加されていることを特徴とする光記録媒体。The recording layer includes a substrate and a plurality of information layers provided on the substrate, and the recording layer included in a predetermined information layer different from the information layer farthest from the light transmission layer among the plurality of information layers is titanium (Ti ) And a group consisting of silicon (Si), germanium (Ge), carbon (C), tin (Sn), gold (Au), zinc (Zn), and copper (Cu). look contains a second reaction layer containing as a main component more selected one element, the first reaction layer 25 atomic percent or more, that of less than 50 atomic% of aluminum (Al) is added A characteristic optical recording medium.
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