JP5261745B2 - Organic electroluminescence element, display device, liquid crystal display device, and illumination device - Google Patents

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Description

本発明は有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、液晶表示装置及び照明装置に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence element, a display device, a liquid crystal display device, and a lighting device.

発光型の電子ディスプレイデバイスとして、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)がある。ELDの構成要素としては、無機エレクトロルミネッセンス素子(以下、無機EL素子ともいう)や有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子ともいう)が挙げられる。無機EL素子は平面型光源として使用されてきたが、発光素子を駆動させるためには交流の高電圧が必要である。   As a light-emitting electronic display device, there is an electroluminescence display (ELD). As a constituent element of ELD, an inorganic electroluminescence element (hereinafter also referred to as an inorganic EL element) and an organic electroluminescence element (hereinafter also referred to as an organic EL element) can be given. Inorganic EL elements have been used as planar light sources, but an alternating high voltage is required to drive the light emitting elements.

有機EL素子は、発光する化合物を含有する発光層を、陰極と陽極で挟んだ構成を有し、発光層に電子及び正孔を注入して、再結合させることにより励起子(エキシトン)を生成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出(蛍光・リン光)を利用して発光する素子であり、数V〜数十V程度の電圧で発光が可能であり、さらに自己発光型であるために視野角に富み、視認性が高く、薄膜型の完全固体素子であるために省スペース、携帯性等の観点から注目されている。   An organic EL device has a structure in which a light-emitting layer containing a light-emitting compound is sandwiched between a cathode and an anode, and excitons (excitons) are generated by injecting electrons and holes into the light-emitting layer and recombining them. The device emits light by utilizing the emission of light (fluorescence / phosphorescence) when the exciton is deactivated, and can emit light at a voltage of several volts to several tens of volts. Therefore, it has a wide viewing angle, high visibility, and since it is a thin-film type completely solid element, it has attracted attention from the viewpoints of space saving and portability.

また、有機EL素子は、従来実用に供されてきた主要な光源、例えば発光ダイオードや冷陰極管と異なり、面光源であることも大きな特徴である。この特性を有効に活用できる用途として、照明用光源、さまざまなディスプレイのバックライトがある。特に近年、需要の増加が著しい液晶フルカラーディスプレイのバックライトとして用いることも好適にできる。   Another major feature of the organic EL element is that it is a surface light source, unlike main light sources that have been conventionally used in practice, such as light-emitting diodes and cold-cathode tubes. Applications that can make effective use of this characteristic include illumination light sources and backlights for various displays. In particular, it can be suitably used as a backlight of a liquid crystal full-color display whose demand has been increasing in recent years.

このようなフルカラーディスプレイのバックライトとして用いる場合には、白色光源として用いることになる。有機EL素子で白色光を得るには、1つの素子中に発光材料を調整して混色により白色を得る方法、多色の発光画素、例えば青・緑・赤の3色を塗り分け同時に発光させ混色して白色を得る方法、色変換色素を用い白色を得る方法(例えば、青発光材料と色変換蛍光色素の組み合わせ)等がある。   When used as a backlight of such a full color display, it is used as a white light source. In order to obtain white light with an organic EL element, a method of obtaining a white color by adjusting a light emitting material in one element, a multicolored light emitting pixel, for example, blue, green, and red are separately applied to emit light simultaneously. There are a method of obtaining a white color by mixing colors, a method of obtaining a white color using a color conversion dye (for example, a combination of a blue light emitting material and a color conversion fluorescent dye), and the like.

しかしながら、低コスト、高生産性、簡便な駆動方法等バックライトに求められる諸要求から見て、1つの有機EL素子中に発光材料を調整して混色により白色を得る方法がこの用途には有効であり、近年研究開発が意欲的に進められている。   However, in view of various demands required for backlights, such as low cost, high productivity, and a simple driving method, a method of adjusting the light emitting material in one organic EL element and obtaining white color by mixing is effective for this application. In recent years, research and development has been actively promoted.

この方法についてさらに詳細に述べれば、白色光を得るには、有機EL素子中に補色の関係にある2色の発光材料、例えば青発光材料と黄発光材料を用い混色して白色を得る方法、青・緑・赤の3色の発光材料を用い混色して白色を得る方法があるが、色再現性、カラーフィルターでの光損失を少なくするといった観点から青・緑・赤の3色の発光材料を用い混色する方法が好ましい。例えば、効率の高い青、緑、赤の3色の蛍光体を発光材料としてドープすることによって白色の有機EL素子が得られることが報告されている(例えば、特許文献1及び2参照)。   Describing in more detail about this method, in order to obtain white light, a method of obtaining a white color by mixing two light emitting materials having complementary colors in an organic EL element, for example, a blue light emitting material and a yellow light emitting material, There is a method to obtain a white color by mixing light emitting materials of three colors of blue, green, and red, but light emission of three colors of blue, green, and red from the viewpoint of color reproducibility and reducing light loss in the color filter. A method of mixing colors using materials is preferred. For example, it has been reported that white organic EL elements can be obtained by doping high-efficiency phosphors of blue, green, and red as light emitting materials (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

しかしながら、青、緑、赤3色の発光材料を用いても、カラーフィルターとの組合せにおいて、その色再現性はまだ満足の行くものではない。これは、主に液晶ディスプレイ用に開発されているカラーフィルターの透過スペクトルに対し、有機EL素子の発光スペクトル特性を、色再現性の観点から十分に調整できていないためである。   However, even when using light emitting materials of three colors, blue, green and red, the color reproducibility is not yet satisfactory in combination with a color filter. This is because the emission spectrum characteristics of the organic EL element cannot be sufficiently adjusted from the viewpoint of color reproducibility with respect to the transmission spectrum of a color filter developed mainly for liquid crystal displays.

例えば、前記特許文献1においては、青、緑、赤の各色の発光極大波長については記載されているものの、色再現性を左右する重要な因子である発光スペクトルの形状については記載がない。前記特許文献2についてもスペクトルに関する記載はない。   For example, Patent Document 1 describes the emission maximum wavelengths of blue, green, and red, but does not describe the shape of the emission spectrum, which is an important factor that affects color reproducibility. There is no description about a spectrum also about the said patent document 2. FIG.

さらには、白色の有機EL素子の事例があるが、いずれもスペクトル形状に関する記述はない(例えば、特許文献3〜5参照。)。さらに、スペクトルにおいて、緑に相当する発光帯の極大波長は500nm未満(例えば、特許文献4参照。)なので、好ましい色再現性(特に緑領域と青領域の色相について)は得られていない。また、スペクトルにおいて、緑に相当する発光帯の吸収極大は550nmより大きい(例えば、非特許文献1参照。)ので、好ましい色再現性(特に緑領域と赤領域の色相について)は得られていない。   Furthermore, although there is an example of a white organic EL element, there is no description regarding the spectrum shape (see, for example, Patent Documents 3 to 5). Furthermore, in the spectrum, since the maximum wavelength of the emission band corresponding to green is less than 500 nm (for example, see Patent Document 4), preferable color reproducibility (especially for the hues of the green region and the blue region) is not obtained. Further, in the spectrum, since the absorption maximum of the emission band corresponding to green is larger than 550 nm (for example, see Non-Patent Document 1), preferable color reproducibility (especially for the hues of the green region and the red region) has not been obtained. .

また、より高輝度の有機EL素子が得られることから、近年、リン光発光材料の開発が進められている(例えば、非特許文献2、3、及び特許文献5参照。)。これは、従来の蛍光体からの発光が励起一重項からの発光であり、一重項励起子と三重項励起子の生成比が1:3であるため発光性励起種の生成確率が25%であるのに対し、励起三重項からの発光を利用するリン光材料の場合には、前記励起子生成比率と一重項励起子から三重項励起子への内部変換により、内部量子効率の上限が100%となるため、蛍光発光材料の場合に比べて原理的に発光効率が最大4倍となりうることによる。   In addition, since a brighter organic EL element can be obtained, development of phosphorescent light emitting materials has been promoted in recent years (for example, see Non-Patent Documents 2 and 3 and Patent Document 5). This is because the emission from the conventional phosphor is emission from the excited singlet, and the generation ratio of the singlet exciton and triplet exciton is 1: 3, so the generation probability of the luminescent excited species is 25%. On the other hand, in the case of a phosphorescent material using light emission from an excited triplet, the upper limit of internal quantum efficiency is 100 due to the exciton generation ratio and internal conversion from singlet excitons to triplet excitons. Therefore, in principle, the luminous efficiency can be up to four times that of fluorescent materials.

しかしながら、リン光発光の場合、その振動バンド構造に起因し、発光スペクトルがよりブロードになる傾向がある。これは、カラーフィルターとの組合せにおいて、良好な色再現性を得るためには好ましいものではなく、リン光発光材料を用いる場合には、その発光スペクトル波形により注意を払う必要があり、波形調整技術との組み合わせも必要となってくる。   However, in the case of phosphorescence, the emission spectrum tends to be broader due to the vibration band structure. This is not preferable in order to obtain good color reproducibility in combination with a color filter, and when using a phosphorescent material, it is necessary to pay attention to its emission spectrum waveform, and waveform adjustment technology A combination with is also required.

リン光発光材料を用いた白色有機EL素子として、緑に相当する発光帯の極大波長は550nmより大きいもの(例えば、非特許文献4参照。)があるが、好ましい色再現性(特に緑領域と赤領域の色相について)を得るのは難しく、また、赤の発光帯の極大波長及び緑領域と青領域間の発光極小強度が開示されているもの(例えば、非特許文献5参照。)等があるか、やはり、好ましい色再現性は得られていない。
特開平6−207170号公報 特開2004−235168号公報 特開平8−78163号公報 特開平8−96959号公報 米国特許第6,097,147号明細書 Y.Kawamura et al.,Journal of Applied Physics,92(2002),p.87 M.A.Baldo et al.,nature,395巻,151〜154頁(1998年) M.A.Baldo et al.,nature,403巻,17号、750〜753頁(2000年) B.W.D’Andrade et al.,Adv.Mater. 14(2002),p.147 Y.Tung et al.,SID2004 DIGEST,p.48
As a white organic EL element using a phosphorescent material, the maximum wavelength of the emission band corresponding to green is larger than 550 nm (for example, see Non-Patent Document 4). It is difficult to obtain the hue of the red region), and the maximum wavelength of the red emission band and the minimum emission intensity between the green region and the blue region are disclosed (for example, see Non-Patent Document 5). Somehow, the preferred color reproducibility is not obtained.
JP-A-6-207170 JP 2004-235168 A JP-A-8-78163 JP-A-8-96959 US Pat. No. 6,097,147 Y. Kawamura et al. , Journal of Applied Physics, 92 (2002), p. 87 M.M. A. Baldo et al. , Nature, 395, 151-154 (1998) M.M. A. Baldo et al. , Nature, 403, 17, 750-753 (2000) B. W. D'Andrade et al. , Adv. Mater. 14 (2002), p. 147 Y. Tung et al. SID 2004 DIGEST, p. 48

本発明の目的は、カラーフィルターとの組合せにおいて、高輝度かつ色再現性が良好な白色発光の有機EL素子及びこれを用いた表示装置、照明装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide a white light-emitting organic EL element having high luminance and good color reproducibility in combination with a color filter, and a display device and an illumination device using the same.

本発明の上記目的は、下記構成1〜12により達成された。   The above object of the present invention has been achieved by the following constitutions 1-12.

1.支持基盤上に少なくとも陽極、陰極及び該陽極と該陰極の間に複数の発光層を含む有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、
発光スペクトルが、440nm〜480nm(青領域)に発光極大A、500nm〜540nm(緑領域)に発光極大B、600nm〜640nm(赤領域)に発光極大Cを、各々異なる発光体による発光極大として有し、該発光極大Aと該発光極大B間の発光極小強度a、該発光極大Bと該発光極大C間の発光極小強度bが、各々隣接している発光極大の中で、低い発光強度を示す発光極大強度の60%以下であり、更に、該発光極小強度aまたは該発光極小強度bの少なくとも一つは、各々隣接している発光極大の45%以下の強度であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
1. In an organic electroluminescence device having an organic layer including at least an anode, a cathode, and a plurality of light emitting layers between the anode and the cathode on a support substrate,
Yes emission spectrum, 440Nm~480nm (blue region) in emission maximum A, 500nm~540nm (green region) emission maximum B, and emission maximum C to 600Nm~640nm (red region), as the emission maximum by each different emitters The light emission minimum intensity a between the light emission maximum A and the light emission maximum B and the light emission minimum intensity b between the light emission maximum B and the light emission maximum C each have a low light emission intensity among the adjacent light emission maximums. The emission minimum intensity is 60% or less, and at least one of the emission minimum intensity a and the emission minimum intensity b is an intensity of 45% or less of the adjacent emission maximum intensity. Organic electroluminescence device.

2.前記発光層に含まれるホスト化合物が、下記一般式(1)で表わされることを特徴とする前記1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
式中、Z 1 は置換基を有していてもよい芳香族複素環を表し、Z 2 は各々置換基を有していてもよい芳香族複素環または芳香族炭化水素環を表し、Z 3 は2価の連結基または単なる結合手を表す。R 101 は水素原子または置換基を表す。
ただし、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニル、ポリビニルカルバゾールは除く。
2. 2. The organic electroluminescence device according to 1, wherein the host compound contained in the light emitting layer is represented by the following general formula (1) .
In the formula, Z 1 represents an aromatic heterocyclic ring which may have a substituent, Z 2 represents an aromatic heterocyclic ring or an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, and Z 3 Represents a divalent linking group or a simple bond. R 101 represents a hydrogen atom or a substituent.
However, 4,4′-N, N′-dicarbazole biphenyl and polyvinyl carbazole are excluded.

3.前記発光層の隣接層に一般式(1)で表わされる化合物を含有することを特徴とする前記2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 3. 3. The organic electroluminescence device according to 2 above, wherein the compound represented by the general formula (1) is contained in a layer adjacent to the light emitting layer .

4.前記発光層の隣接層が、正孔阻止層であることを特徴とする前記3に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 4). 4. The organic electroluminescence device according to 3 above, wherein the adjacent layer of the light emitting layer is a hole blocking layer .

5.前記複数の発光層間に非発光性の中間層を有することを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 5. 5. The organic electroluminescence device according to any one of 1 to 4, wherein a non-light emitting intermediate layer is provided between the plurality of light emitting layers .

6.前記発光層の隣接層が、前記非発光性の中間層であることを特徴とする前記5に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 6). 6. The organic electroluminescence device as described in 5 above , wherein the adjacent layer of the light emitting layer is the non-light emitting intermediate layer .

7.前記1〜6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子をバックライトとして有し、且つ、少なくともカラーフィルターをその構成部材の1つとして有することを特徴とする表示装置。 7). 7. A display device comprising the organic electroluminescence device according to any one of 1 to 6 as a backlight, and at least a color filter as one of its constituent members.

8.前記1〜6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子をバックライトとして有することを特徴とする液晶表示装置。 8). It has the organic electroluminescent element of any one of said 1-6 as a backlight, The liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.

9.前記1〜6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有することを特徴とする照明装置。 9. It has an organic electroluminescent element of any one of said 1-6 , The illuminating device characterized by the above-mentioned.

本発明により、カラーフィルターとの組合せにおいて、高輝度かつ色再現性が良好な白色発光の有機EL素子及びこれを用いた表示装置、照明装置を提供することができた。   According to the present invention, it is possible to provide a white light-emitting organic EL element having high luminance and good color reproducibility in combination with a color filter, and a display device and an illumination device using the same.

有機EL素子の発光スペクトルである。It is an emission spectrum of an organic EL element. 有機EL素子の発光スペクトルである。It is an emission spectrum of an organic EL element. 有機EL素子の発光スペクトルである。It is an emission spectrum of an organic EL element. 照明装置の概略図である。It is the schematic of an illuminating device. 照明装置の断面図である。It is sectional drawing of an illuminating device. バリア膜の層構成とその密度プロファイルの一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the laminated constitution of a barrier film, and its density profile. 基材を処理する大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the atmospheric pressure plasma discharge processing apparatus which processes a base material.

符号の説明Explanation of symbols

101 有機EL素子
102 ガラスカバー
105 陰極
106 有機EL層
107 透明電極付きガラス基板
108 窒素ガス
109 捕水剤
201 バリア膜
202 基材
203 低密度層
204 中密度層
205 高密度層
230 プラズマ放電処理装置
231 プラズマ放電処理容器
235 ロール回転電極
236 角筒型固定電極群
240 電界印加手段
250 ガス供給手段
251 ガス発生手段
253 排気口
260 電極温度調節手段
261 配管
266 ニップロール
267 ガイドロール
268、269 仕切板
F 基材
P 送液ポンプ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Organic EL element 102 Glass cover 105 Cathode 106 Organic EL layer 107 Glass substrate with a transparent electrode 108 Nitrogen gas 109 Water trapping agent 201 Barrier film 202 Base material 203 Low density layer 204 Medium density layer 205 High density layer 230 Plasma discharge processing apparatus 231 Plasma discharge treatment vessel 235 Roll rotating electrode 236 Square tube type fixed electrode group 240 Electric field applying means 250 Gas supply means 251 Gas generating means 253 Exhaust port 260 Electrode temperature adjusting means 261 Piping 266 Nip roll 267 Guide roll 268, 269 Partition plate F Base material P liquid pump

本発明の有機EL素子においては、前記1〜9のいずれか1項に規定する構成とすることにより、高輝度かつ、特にカラーフィルターとの組合せにおいて色再現性の優れた白色バックライトを提供することが可能な有機EL素子及び該有機EL素子を用いた表示装置、照明装置を提供することができる。 In the organic EL device of the present invention, a white backlight having high luminance and excellent color reproducibility in combination with a color filter is provided by adopting the configuration defined in any one of 1 to 9 above. It is possible to provide an organic EL element that can be used, a display device using the organic EL element, and a lighting device.

以下、本発明に係る各構成要素の詳細について順次説明する。   Hereinafter, details of each component according to the present invention will be sequentially described.

《有機EL素子》
本発明の有機EL素子について説明する。
<< Organic EL element >>
The organic EL element of the present invention will be described.

《有機EL素子の発光と正面輝度》
本発明の有機EL素子や該有機EL素子に係る化合物の発光色は、「新編色彩科学ハンドブック」(日本色彩学会編、東京大学出版会、1985)の108頁の図4.16において、分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタセンシング社製)で測定した結果をCIE色度座標に当てはめたときの色で決定される。
<< Light emission and front luminance of organic EL elements >>
The emission color of the organic EL device of the present invention and the compound related to the organic EL device is shown in FIG. 4.16 on page 108 of “New Color Science Handbook” (edited by the Japan Color Society, University of Tokyo Press, 1985). It is determined by the color when the result measured with a luminance meter CS-1000 (manufactured by Konica Minolta Sensing) is applied to the CIE chromaticity coordinates.

本発明の有機EL素子は白色発光素子であるが、好ましくはCIE1931表色系における色度が、X=0.33±0.07、Y=0.33±0.07にあり、さらに好ましくは、有機EL素子を集光シート等の集光部材を付属しない状態で1000cd/m2でのCIE1931表色系における色度がX=0.33±0.07、Y=0.33±0.07の領域内にあることが好ましい。The organic EL device of the present invention is a white light emitting device, but preferably the chromaticity in the CIE 1931 color system is X = 0.33 ± 0.07, Y = 0.33 ± 0.07, more preferably The chromaticity in the CIE1931 color system at 1000 cd / m 2 is X = 0.33 ± 0.07, Y = 0.33 ± 0. It is preferable that it exists in the area | region of 07.

また、本発明の有機EL素子の発光スペクトルは、発光スペクトルが、440nm〜480nm(青領域)に発光極大A、500nm〜540nm(緑領域)に発光極大B、600nm〜640nm(赤領域)に発光極大Cを各々有し、該発光極大Aと該発光極大B間の発光極小強度a、該発光極大Bと該発光極大C間の発光極小強度bが、各々隣接している発光極大の中で、低い発光強度を示す発光極大強度の60%以下であり、更に、該発光極小強度aまたは該発光極小強度bの少なくとも一つは、各々隣接している発光極大の45%以下の強度である。   The emission spectrum of the organic EL device of the present invention is that the emission spectrum is emission maximum A at 440 nm to 480 nm (blue region), emission maximum B at 500 nm to 540 nm (green region), and emission at 600 nm to 640 nm (red region). The light emission minimum intensity a between the light emission maximum A and the light emission maximum B, and the light emission minimum intensity b between the light emission maximum B and the light emission maximum C are respectively adjacent light emission maximums. The emission maximum intensity showing a low emission intensity is 60% or less, and at least one of the emission minimum intensity a or the emission minimum intensity b is an intensity of 45% or less of the adjacent emission maximum intensity. .

発光極大波長が前記範囲より外れると、BGR3色画素からなるカラーフィルターと組み合わせた際に、一般に良好な色再現性を得るのが難しくなり、特に輝度と色再現性を両立させるのが難しくなる。また、前記発光極小強度が前記値より大きいとカラーフィルターとの組合せにおいて、青、緑、赤の3原色の色純度が低く、十分な色再現域を確保し難い。これは、一般にカラーフィルターの各色の透過光スペクトルはブロードであり、各原色の色純度は必ずしも高くはないためである。本発明においては、青領域と緑領域との間、または、緑領域と赤領域との間から選択される少なくとも一つの発光極小強度のいずれか一つは、前記発光極大強度の45%以下に調整されるが、これにより青領域と緑領域間、または赤領域と緑領域間の色分離を改善でき、特徴ある色再現を得ることができる。更に好ましくは、青領域、緑領域、赤領域の3領域の発光極小強度が前記発光極大強度の45%以下であることがさらに好ましい。   If the emission maximum wavelength is out of the above range, it is generally difficult to obtain good color reproducibility when combined with a color filter composed of BGR three-color pixels, and it is particularly difficult to achieve both luminance and color reproducibility. In addition, when the light emission minimum intensity is larger than the above value, the color purity of the three primary colors of blue, green, and red is low in the combination with the color filter, and it is difficult to ensure a sufficient color reproduction range. This is because the transmitted light spectrum of each color of the color filter is generally broad, and the color purity of each primary color is not necessarily high. In the present invention, any one of at least one emission minimum intensity selected between the blue area and the green area or between the green area and the red area is 45% or less of the emission maximum intensity. Although it is adjusted, color separation between the blue region and the green region or between the red region and the green region can be improved, and a characteristic color reproduction can be obtained. More preferably, the light emission minimum intensity in the three regions of the blue region, the green region, and the red region is more preferably 45% or less of the light emission maximum intensity.

本発明では、前記青領域と緑領域間の発光極小波長が470nm〜510nmにあり、前記緑領域と赤領域間の発光極小波長が570nm〜600nmにあるか、またはカラーフィルターを組み合わせて発光パネル、表示装置を形成する際に、そのカラーフィルターの分光透過特性と前記発光極小波長が下記の関係を満たすように調整されていることが好ましい。   In the present invention, the emission minimum wavelength between the blue region and the green region is 470 nm to 510 nm, the emission minimum wavelength between the green region and the red region is 570 nm to 600 nm, or a light emitting panel by combining color filters, When forming the display device, it is preferable that the spectral transmission characteristics of the color filter and the minimum emission wavelength are adjusted so as to satisfy the following relationship.

λBG−20≦λ1≦λBG+10
λGR−20≦λ2≦λGR+10
ここで、λ1(nm)は前記青領域と緑領域間の発光極小波長、λ2(nm)は前記緑領域と赤領域間の発光極小波長、λBG(nm)は波長450nm〜550nmの範囲におけるカラーフィルター青画素の透過率と緑画素の透過率の積が最大となる波長、λGR(nm)は波長550nm〜630nmの範囲におけるカラーフィルター緑画素の透過率と赤画素の透過率の積が最大となる波長である。
λ BG −20 ≦ λ 1 ≦ λ BG +10
λ GR −20 ≦ λ 2 ≦ λ GR +10
Here, λ 1 (nm) is an emission minimum wavelength between the blue region and the green region, λ 2 (nm) is an emission minimum wavelength between the green region and the red region, and λ BG (nm) is a wavelength of 450 nm to 550 nm. The wavelength at which the product of the transmittance of the color filter blue pixel and the transmittance of the green pixel in the range becomes the maximum, λ GR (nm) is the transmittance of the color filter green pixel and the transmittance of the red pixel in the wavelength range of 550 nm to 630 nm. The wavelength at which the product is maximum.

カラーフィルターの各色フィルター透過光スペクトルの重畳領域の発光を少なくすることで、各原色の純度を高め色再現域を広げることができる。   By reducing the light emission in the overlapping region of the transmitted light spectrum of each color filter of the color filter, the purity of each primary color can be increased and the color reproduction range can be expanded.

本発明の有機EL素子の発光スペクトルを得るには、任意の発光材料を組み合わせて最適な波形に調整する方法、有機EL素子内に前記発光極小波長の領域に吸収を有する材料を組み入れフィルター効果により有機EL素子外へ出てくる発光波形を調整する方法、有機EL素子外に前記発光極小波長の領域に吸収を有する材料を組み入れフィルター効果により発光波形を調整する方法、有機EL素子内の光反射を利用して光干渉効果により任意の波長域の光を強める、あるいは弱めることにより有機EL素子外へ出てくる波形を調整する方法、有機EL素子内及び/または有機EL素子表面に回折格子原理により任意の波長域の光を強める、あるいは弱めることにより有機EL素子外へ出てくる波形を調整する方法等がある。   In order to obtain the emission spectrum of the organic EL device of the present invention, a method for adjusting an optimal waveform by combining arbitrary light emitting materials, incorporating a material having absorption in the region of the light emission minimum wavelength into the organic EL device, and using a filter effect A method for adjusting the light emission waveform coming out of the organic EL element, a method for adjusting the light emission waveform by a filter effect by incorporating a material having absorption in the region of the light emission minimum wavelength outside the organic EL element, light reflection in the organic EL element A method for adjusting the waveform coming out of the organic EL element by intensifying or weakening light in an arbitrary wavelength region by the optical interference effect, and the principle of the diffraction grating in the organic EL element and / or on the surface of the organic EL element There is a method of adjusting the waveform coming out of the organic EL element by intensifying or weakening light in an arbitrary wavelength region.

本発明においては、光損失を抑制しつつ波形を調整できることから、任意の発光材料を組み合わせて最適な波形に調整する方法、有機EL素子内の光反射を利用して光干渉効果により任意の波長域の光を強めることにより有機EL素子外へ出てくる波形を調整する方法、有機EL素子内及び/または有機EL素子表面に回折格子原理により任意の波長域の光を強めることにより有機EL素子外へ出てくる波形を調整する方法が好ましい。   In the present invention, since the waveform can be adjusted while suppressing optical loss, a method for adjusting to an optimal waveform by combining arbitrary light emitting materials, an arbitrary wavelength due to an optical interference effect using light reflection in the organic EL element A method of adjusting the waveform that is emitted outside the organic EL element by intensifying the light in the region, the organic EL element by intensifying the light in an arbitrary wavelength region by the diffraction grating principle in the organic EL element and / or on the surface of the organic EL element A method of adjusting the waveform coming out is preferable.

本発明においては、後述するような任意の発光材料を使用できるが、発光効率と好ましい発光波形を有する材料は限定されることから、有機EL素子内の光反射を利用して光干渉効果により任意の波長域の光を強めることにより有機EL素子外へ出てくる波形を調整する方法、及び/または、有機EL素子内及び/または有機EL素子表面に回折格子原理により任意の波長域の光を強めることにより有機EL素子外へ出てくる波形を調整する方法を調整方法として有機EL素子に組み入れることが特に好ましい。   In the present invention, any light emitting material as will be described later can be used. However, since materials having a light emission efficiency and a preferable light emission waveform are limited, the light interference effect using the light reflection in the organic EL element is arbitrary. The method of adjusting the waveform coming out of the organic EL element by intensifying the light in the wavelength range and / or the light in any wavelength range in the organic EL element and / or the surface of the organic EL element by the diffraction grating principle It is particularly preferable to incorporate the method of adjusting the waveform coming out of the organic EL element by strengthening into the organic EL element as an adjustment method.

回折格子原理により波形を調整する方法については後述する光取出し及び集光技術の項で述べる。   A method for adjusting the waveform based on the diffraction grating principle will be described later in the section of light extraction and light collection technology.

有機EL素子内の光反射を利用して光干渉効果により任意の波長域の光を強めることにより有機EL素子外へ出てくる波形を調整する方法については、有機EL素子内の各層、各部材界面で生じる反射・干渉を利用して波形を調整できるものであれば特に限定されないが、本発明においては、発光層と陰極と有機層の界面の間、及び発光層と支持基盤と陽極界面の間での反射、干渉を好適に利用することができる。   Regarding the method of adjusting the waveform that emerges outside the organic EL element by intensifying the light in an arbitrary wavelength range by the light interference effect using the light reflection in the organic EL element, each layer and each member in the organic EL element Although it is not particularly limited as long as the waveform can be adjusted using reflection / interference generated at the interface, in the present invention, the interface between the light emitting layer, the cathode, and the organic layer, and the interface between the light emitting layer, the support substrate, and the anode are used. Reflection and interference between them can be preferably used.

本発明においては、この効果を利用するものとして、特に前記青領域、緑領域のいずれかの領域の発光極大波長λmax(nm)に対して、陽極と陰極間に挟まれた有機層膜厚d1、d2(nm)が下記式(1)及び下記式(2)の関係を満たすものであることが好ましい。In the present invention, in order to utilize this effect, the film thickness d of the organic layer sandwiched between the anode and the cathode particularly with respect to the light emission maximum wavelength λmax (nm) of either the blue region or the green region. It is preferable that 1 and d 2 (nm) satisfy the relationship of the following formula (1) and the following formula (2).

式(1)
(2m+1)λmax/4−10≦d1≦(2m+1)λmax/4+10
式(2)
(m+1)λmax/2−10≦d2≦(m+1)λmax/2+10
ここで、d1(nm)はλmax(nm)の属する前記青領域または緑領域の発光領域の陰極側端と陰極表面との間の光学的距離であり、d2(nm)はλmax(nm)の属する前記青領域または緑領域の発光領域の陰極側端と陽極−基盤界面との間の光学的距離である。mは0または正の整数である。青または緑の発光領域が複数の領域または層に分かれている場合には、その最も輝度の高い領域または層の陰極側端と陰極表面との間の光学的距離でd2は定義される。
Formula (1)
(2m + 1) λmax / 4-10 ≦ d 1 ≦ (2m + 1) λmax / 4 + 10
Formula (2)
(M + 1) λmax / 2−10 ≦ d 2 ≦ (m + 1) λmax / 2 + 10
Here, d 1 (nm) is an optical distance between the cathode side end of the light emitting region of the blue region or the green region to which λmax (nm) belongs and the cathode surface, and d 2 (nm) is λmax (nm The optical distance between the cathode side end of the light emitting region of the blue region or the green region to which the substrate) belongs and the anode-substrate interface. m is 0 or a positive integer. When the blue or green light emitting region is divided into a plurality of regions or layers, d 2 is defined by the optical distance between the cathode side end of the region or layer having the highest luminance and the cathode surface.

本発明の有機EL素子の構成層である発光層は、有機EL素子の発光スペクトルが前記形状となるものであれば、その構成には特に制限はないが、発光極大波長が前記青領域にある青発光層、前記緑領域にある緑発光層、前記赤領域にある赤発光層の少なくとも3層の発光層を有することが好ましい。   The light emitting layer that is a constituent layer of the organic EL element of the present invention is not particularly limited as long as the light emission spectrum of the organic EL element has the above shape, but the maximum emission wavelength is in the blue region. It is preferable to have at least three light emitting layers of a blue light emitting layer, a green light emitting layer in the green region, and a red light emitting layer in the red region.

なお、本発明の有機EL素子に係る発光層については、後述する有機EL素子の層構成のところで、詳細に説明する。   The light-emitting layer according to the organic EL element of the present invention will be described in detail in the layer configuration of the organic EL element described later.

次に、本発明の有機EL素子の層構成の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。   Next, although the preferable specific example of the layer structure of the organic EL element of this invention is shown below, this invention is not limited to these.

(1)陽極/発光層ユニット/電子輸送層/陰極
(2)陽極/正孔輸送層/発光層ユニット/電子輸送層/陰極
(3)陽極/正孔輸送層/発光層ユニット/正孔阻止層/電子輸送層/陰極
(4)陽極/正孔輸送層/発光層ユニット/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(5)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/発光層ユニット/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
ここで、発光層ユニットは、発光層が1層であってもよく、複数層の発光層であってもよい。さらには複数層の発光層を有する場合には、各発光層間には非発光性の中間層を有していることが好ましい。
(1) Anode / light emitting layer unit / electron transport layer / cathode (2) Anode / hole transport layer / light emitting layer unit / electron transport layer / cathode (3) Anode / hole transport layer / light emitting layer unit / hole blocking Layer / electron transport layer / cathode (4) anode / hole transport layer / light emitting layer unit / hole blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer / cathode (5) anode / anode buffer layer / hole transport layer / light emission Layer unit / hole blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer / cathode Here, the light emitting layer unit may be a single light emitting layer or a plurality of light emitting layers. Furthermore, when it has a several light emitting layer, it is preferable to have a nonluminous intermediate | middle layer between each light emitting layer.

《発光層》
本発明に係る発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。
<Light emitting layer>
The light emitting layer according to the present invention is a layer that emits light by recombination of electrons and holes injected from the electrode, the electron transport layer, or the hole transport layer, and the light emitting portion is in the layer of the light emitting layer. May be the interface between the light emitting layer and the adjacent layer.

本発明に係る発光層は、発光極大波長が前記要件を満たしていれば、その構成には特に制限はないが、発光極大波長が前記青領域にある青発光層、前記緑領域にある緑発光層、前記赤領域にある赤発光層の少なくとも3層の発光層を有することが好ましい。   The configuration of the light emitting layer according to the present invention is not particularly limited as long as the light emission maximum wavelength satisfies the above requirements, but the light emission maximum wavelength is a blue light emitting layer in the blue region, and a green light emission in the green region. Preferably, the light emitting layer has at least three light emitting layers of the red light emitting layer in the red region.

また、発光層の数が4層より多い場合には、同一の発光スペクトルや発光極大波長を有する層が複数層あってもよい。   In addition, when the number of light emitting layers is more than four, there may be a plurality of layers having the same emission spectrum or emission maximum wavelength.

なお、以下本発明では、発光極大波長が440nm〜480nmにある層を青発光層、500nm〜540nmにある層を緑発光層、600nm〜640nmの範囲にある層を赤発光層と称する。   Hereinafter, in the present invention, a layer having an emission maximum wavelength of 440 nm to 480 nm is referred to as a blue light emitting layer, a layer having a wavelength in the range of 500 nm to 540 nm is referred to as a green light emitting layer, and a layer in the range of 600 nm to 640 nm is referred to as a red light emitting layer.

発光層の積層順としては特に制限はなく、また各発光層間に非発光性の中間層を有していることが好ましい。本発明においては、少なくとも一つの青発光層が、全発光層中最も陽極に近い位置に設けられていることが好ましい。また、発光層を4層以上設ける場合には、陽極に近い順から、例えば青/緑/赤/青、青/緑/赤/青/緑、青/緑/赤/青/緑/赤のように青、緑、赤を順に積層することが、輝度安定性を高める上で好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as a lamination order of a light emitting layer, It is preferable to have a nonluminous intermediate | middle layer between each light emitting layer. In the present invention, it is preferable that at least one blue light emitting layer is provided at a position closest to the anode in all the light emitting layers. When four or more light-emitting layers are provided, for example, blue / green / red / blue, blue / green / red / blue / green, blue / green / red / blue / green / red from the order close to the anode. In order to improve luminance stability, it is preferable to sequentially stack blue, green, and red.

発光層の膜厚の総和は特に制限はないが、膜の均質性や、発光時に不必要な高電圧を印加するのを防止し、かつ、駆動電流に対する発光色の安定性向上の観点から、2nm〜5μmの範囲に調整することが好ましく、さらに好ましくは2nm〜200nmの範囲に調整され、特に好ましくは、10nm〜20nmの範囲である。   The total film thickness of the light emitting layer is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the uniformity of the film, preventing unnecessary application of high voltage during light emission, and improving the stability of the emission color with respect to the drive current. It is preferable to adjust in the range of 2 nm to 5 μm, more preferably in the range of 2 nm to 200 nm, and particularly preferably in the range of 10 nm to 20 nm.

個々の発光層の膜厚としては、2nm〜100nmの範囲に調整することが好ましく、さらに好ましくは、2nm〜20nmの範囲に調整することである。青、緑、赤の各発光層の膜厚の関係については、特に制限はない。   The film thickness of each light emitting layer is preferably adjusted to a range of 2 nm to 100 nm, and more preferably adjusted to a range of 2 nm to 20 nm. There is no particular limitation on the relationship between the film thicknesses of the blue, green and red light emitting layers.

発光層の作製には、後述する発光ドーパントやホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法、インクジェット法等の公知の薄膜化法により製膜して形成することができる。   For the production of the light-emitting layer, a light-emitting dopant or a host compound, which will be described later, is formed and formed by a known thinning method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, an LB method, or an ink-jet method. it can.

また、前記のスペクトル形状要件を維持する範囲において、各発光層には複数の発光性化合物を混合してもよい。例えば、青発光層に、極大波長440nm〜480nmの青発光性化合物と、極大波長500nm〜540nmの緑発光性化合物を混合して用いてもよい。   In addition, a plurality of light emitting compounds may be mixed in each light emitting layer within a range in which the above spectral shape requirement is maintained. For example, a blue light emitting layer may be used by mixing a blue light emitting compound having a maximum wavelength of 440 nm to 480 nm and a green light emitting compound having a maximum wavelength of 500 nm to 540 nm.

次に、発光層に含まれるホスト化合物、発光ドーパント(発光ドーパント化合物ともいう)について説明する。   Next, a host compound and a light emitting dopant (also referred to as a light emitting dopant compound) included in the light emitting layer will be described.

(ホスト化合物)
本発明の有機EL素子の発光層に含まれるホスト化合物とは、室温(25℃)におけるリン光発光のリン光量子収率が、0.1未満の化合物が好ましい。さらに好ましくはリン光量子収率が0.01未満である。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での質量比が20%以上であることが好ましい。
(Host compound)
The host compound contained in the light emitting layer of the organic EL device of the present invention is preferably a compound having a phosphorescence quantum yield of phosphorescence emission at room temperature (25 ° C.) of less than 0.1. More preferably, the phosphorescence quantum yield is less than 0.01. Moreover, it is preferable that the mass ratio in the layer is 20% or more among the compounds contained in a light emitting layer.

ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、または複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機EL素子を高効率化することができる。また、後述する発光ドーパントを複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。   As the host compound, known host compounds may be used alone or in combination of two or more. By using a plurality of types of host compounds, it is possible to adjust the movement of charges, and the organic EL element can be made highly efficient. Moreover, it becomes possible to mix different light emission by using multiple types of light emission dopants mentioned later, and, thereby, arbitrary luminescent colors can be obtained.

本発明に係るホスト化合物としては、下記一般式(1)で表される化合物が好ましく用いられる。また、前記化合物は発光層の隣接層(例えば、正孔阻止層等)にも好ましく用いられる。   As the host compound according to the present invention, a compound represented by the following general formula (1) is preferably used. Moreover, the said compound is preferably used also for the adjacent layer (for example, hole-blocking layer etc.) of a light emitting layer.

下記一般式(1)で表される化合物を発光層または該発光層の隣接層に含み、本発明に係るリン光発光体を発光層に用いて作製した有機EL素子は、発光効率が高くなり、高輝度の素子を得ることができる。   An organic EL device comprising a compound represented by the following general formula (1) in a light emitting layer or a layer adjacent to the light emitting layer and using the phosphorescent emitter according to the present invention for the light emitting layer has high luminous efficiency. A device with high brightness can be obtained.

式中、Z1は置換基を有していてもよい芳香族複素環を表し、Z2は各々置換基を有していてもよい芳香族複素環または芳香族炭化水素環を表し、Z3は2価の連結基または単なる結合手を表す。R101は水素原子または置換基を表す。In the formula, Z 1 represents an aromatic heterocyclic ring which may have a substituent, Z 2 represents an aromatic heterocyclic ring or an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, and Z 3 Represents a divalent linking group or a simple bond. R 101 represents a hydrogen atom or a substituent.

前記一般式(1)において、Z1、Z2で表される芳香族複素環としては、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、フタラジン環、カルバゾール環、カルボリン環、カルボリン環を構成する炭化水素環の炭素原子がさらに窒素原子で置換されている環等が挙げられる。さらに、前記芳香族複素環は、後述するR101で表される置換基を有してもよい。In the general formula (1), examples of the aromatic heterocycle represented by Z 1 and Z 2 include a furan ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a triazine ring, a benzimidazole ring, Diazole ring, triazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, thiazole ring, indole ring, benzimidazole ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoxaline ring, quinazoline ring, phthalazine ring, carbazole ring, carboline ring, carboline ring And a ring in which the carbon atom of the hydrocarbon ring is further substituted with a nitrogen atom. Furthermore, the aromatic heterocyclic ring may have a substituent represented by R 101 described later.

前記一般式(1)において、Z2で表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アズレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、o−テルフェニル環、m−テルフェニル環、p−テルフェニル環、アセナフテン環、コロネン環、フルオレン環、フルオラントレン環、ナフタセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピレン環、ピラントレン環、アンスラアントレン環等が挙げられる。さらに、前記芳香族炭化水素環は、後述するR101で表される置換基を有してもよい。In the general formula (1), examples of the aromatic hydrocarbon ring represented by Z 2 include benzene ring, biphenyl ring, naphthalene ring, azulene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, pyrene ring, chrysene ring, naphthacene ring, triphenylene. Ring, o-terphenyl ring, m-terphenyl ring, p-terphenyl ring, acenaphthene ring, coronene ring, fluorene ring, fluoranthrene ring, naphthacene ring, pentacene ring, perylene ring, pentaphen ring, picene ring, pyrene Ring, pyranthrene ring, anthraanthrene ring and the like. Furthermore, the aromatic hydrocarbon ring may have a substituent represented by R 101 described later.

一般式(1)において、R101で表される置換基としては、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、芳香族複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)等が挙げられる。In the general formula (1), examples of the substituent represented by R 101 include an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group). Group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, etc.), cycloalkyl group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (eg, vinyl group, allyl group, etc.), alkynyl group (eg, ethynyl group, propargyl group, etc.) Etc.), aryl groups (eg phenyl group, naphthyl group etc.), aromatic heterocyclic groups (eg furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, triazinyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group) , Thiazolyl group, quinazolinyl group, phthalazinyl group, etc.), heterocyclic group (eg Pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolidyl group, etc.), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, etc.), cyclo An alkoxy group (eg, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), an aryloxy group (eg, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), an alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, Octylthio group, dodecylthio group etc.), cycloalkylthio group (eg cyclopentylthio group, cyclohexylthio group etc.), arylthio group (eg phenylthio group, naphthylthio group etc.), alkoxycarbonyl group (eg methyl Xycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, Aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2 -Pyridylaminosulfonyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexane) A silcarbonyl group, an octylcarbonyl group, a 2-ethylhexylcarbonyl group, a dodecylcarbonyl group, a phenylcarbonyl group, a naphthylcarbonyl group, a pyridylcarbonyl group, etc.), an acyloxy group (for example, an acetyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, a butylcarbonyloxy group) Octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.), amide group (for example, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonyl) Amino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylca Carbonylamino group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl) Group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, Dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group, etc.), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfide group, etc.) Sulfonyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.), alkylsulfonyl group (for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group) , Butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group etc.), amino group (for example, amino group, ethyl group) Amino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, naphthylamino group, 2-pyridyla Group), halogen atoms (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), fluorinated hydrocarbon groups (for example, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), And cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto group, silyl group (for example, trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group, phenyldiethylsilyl group, etc.).

これらの置換基は、上記の置換基によってさらに置換されていてもよい。また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。   These substituents may be further substituted with the above substituents. In addition, a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring.

好ましい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、フッ化炭化水素基、アリール基、芳香族複素環基である。   Preferred substituents are an alkyl group, a cycloalkyl group, a fluorinated hydrocarbon group, an aryl group, and an aromatic heterocyclic group.

2価の連結基としては、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、アリーレン等の炭化水素基のほか、ヘテロ原子を含むものであってもよく、また、チオフェン−2,5−ジイル基や、ピラジン−2,3−ジイル基のような、芳香族複素環を有する化合物(ヘテロ芳香族化合物ともいう)に由来する2価の連結基であってもよいし、酸素や硫黄等のカルコゲン原子であってもよい。また、アルキルイミノ基、ジアルキルシランジイル基やジアリールゲルマンジイル基のような、ヘテロ原子を会して連結する基でもよい。   As the divalent linking group, in addition to hydrocarbon groups such as alkylene, alkenylene, alkynylene, and arylene, those containing a hetero atom may be used, and a thiophene-2,5-diyl group, pyrazine-2, It may be a divalent linking group derived from a compound having an aromatic heterocycle (also called a heteroaromatic compound) such as a 3-diyl group, or may be a chalcogen atom such as oxygen or sulfur. . Further, it may be a group such as an alkylimino group, a dialkylsilanediyl group, or a diarylgermandiyl group that connects and connects heteroatoms.

単なる結合手とは、連結する置換基同士を直接結合する結合手である。   A mere bond is a bond that directly bonds the connecting substituents together.

本発明においては、前記一般式(1)のZ1が6員環であることが好ましい。これにより、より発光効率を高くすることができる。さらに、一層長寿命化させることができる。In the present invention, Z 1 in the general formula (1) is preferably a 6-membered ring. Thereby, luminous efficiency can be made higher. Furthermore, the lifetime can be further increased.

また、本発明においては、前記一般式(1)のZ2が6員環であることが好ましい。これにより、より発光効率を高くすることができる。さらに、より一層長寿命化させることができる。In the present invention, it is preferable that the Z 2 in the general formula (1) is a 6-membered ring. Thereby, luminous efficiency can be made higher. Furthermore, the lifetime can be further increased.

さらに、前記一般式(1)のZ1とZ2を共に6員環とすることで、より一層発光効率と高くすることができるので好ましい。さらに、より一層長寿命化させることができるので好ましい。Furthermore, it is preferable that Z 1 and Z 2 in the general formula (1) are both 6-membered rings because the luminous efficiency can be further increased. Furthermore, it is preferable because the lifetime can be further increased.

以下、本発明に係る一般式(1)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Hereinafter, although the specific example of a compound represented by General formula (1) based on this invention is shown, this invention is not limited to these.

また、本発明に用いられる発光ホストとしては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物(蒸着重合性発光ホスト)でもよい。   The light emitting host used in the present invention may be a conventionally known low molecular compound or a high molecular compound having a repeating unit, and a low molecular compound having a polymerizable group such as a vinyl group or an epoxy group (deposition polymerization property). Light emitting host).

公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、かつ発光の長波長化を防ぎ、なおかつ高Tg(ガラス転移温度)である化合物が好ましい。   As the known host compound, a compound having a hole transporting ability and an electron transporting ability, preventing an increase in the wavelength of light emission, and having a high Tg (glass transition temperature) is preferable.

公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物が挙げられる。例えば、特開2001−257076号公報、同2002−308855号公報、同2001−313179号公報、同2002−319491号公報、同2001−357977号公報、同2002−334786号公報、同2002−8860号公報、同2002−334787号公報、同2002−15871号公報、同2002−334788号公報、同2002−43056号公報、同2002−334789号公報、同2002−75645号公報、同2002−338579号公報、同2002−105445号公報、同2002−343568号公報、同2002−141173号公報、同2002−352957号公報、同2002−203683号公報、同2002−363227号公報、同2002−231453号公報、同2003−3165号公報、同2002−234888号公報、同2003−27048号公報、同2002−255934号公報、同2002−260861号公報、同2002−280183号公報、同2002−299060号公報、同2002−302516号公報、同2002−305083号公報、同2002−305084号公報、同2002−308837号公報等が挙げられる。   Specific examples of known host compounds include compounds described in the following documents. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-257076, 2002-308855, 2001-313179, 2002-319491, 2001-357777, 2002-334786, 2002-8860 Gazette, 2002-334787 gazette, 2002-15871 gazette, 2002-334788 gazette, 2002-43056 gazette, 2002-334789 gazette, 2002-75645 gazette, 2002-338579 gazette. No. 2002-105445, No. 2002-343568, No. 2002-141173, No. 2002-352957, No. 2002-203683, No. 2002-363227, No. 2002-231453. No. 2003-3165, No. 2002-234888, No. 2003-27048, No. 2002-255934, No. 2002-286061, No. 2002-280183, No. 2002-299060. 2002-302516, 2002-305083, 2002-305084, 2002-308837, and the like.

本発明においては、発光極大波長が440〜480nmの範囲にある青発光層、500〜540nmの範囲にある緑発光層、600〜640nmの範囲にある赤発光層の少なくとも3層の発光層を有することが好ましいが、前記3層の少なくとも2層のホスト化合物の50質量%以上が、リン光発光エネルギーが各々2.9eV以上であり、かつ、Tg(ガラス転移点)が、各々90℃以上の化合物が好ましく、さらに好ましくは、100℃以上の化合物である。中でも、有機EL素子保存性向上(耐久性向上ともいう)、発光層界面での化合物の分布のむらを低減させる観点から、特に好ましくは、前記化合物の分子構造が同一であることが好ましい。   In the present invention, the light emitting maximum wavelength has at least three light emitting layers of a blue light emitting layer in the range of 440 to 480 nm, a green light emitting layer in the range of 500 to 540 nm, and a red light emitting layer in the range of 600 to 640 nm. Preferably, 50% by mass or more of the host compounds of at least two layers of the three layers each have a phosphorescence emission energy of 2.9 eV or more and a Tg (glass transition point) of 90 ° C. or more. A compound is preferable, More preferably, it is a compound of 100 degreeC or more. Among these, from the viewpoint of improving the storage stability of organic EL elements (also referred to as durability improvement) and reducing the uneven distribution of the compound at the light emitting layer interface, the molecular structures of the compounds are preferably the same.

ここで、ホスト化合物の物理化学的特性が同一または分子構造が同一であることが好ましい理由については、後述の非発光性の中間層のところで詳細に説明する。   Here, the reason why it is preferable that the host compounds have the same physicochemical characteristics or the same molecular structure will be described in detail in the non-light emitting intermediate layer described later.

(Tg(ガラス転移点))
ここで、ガラス転移点(Tg)とは、DSC(Differential Scanning Colorimetry:示差走査熱量法)を用いて、JIS−K−7121に準拠した方法により求められる値である。
(Tg (glass transition point))
Here, the glass transition point (Tg) is a value obtained by a method based on JIS-K-7121 using DSC (Differential Scanning Colorimetry).

上記のような同一の物理的特性を有するホスト化合物を用いること、さらに好ましくは、同一の分子構造を有するホスト化合物を用いることにより、有機EL素子の有機化合物層(有機層ともいう)全体に渡って均質な膜性状が得られ、さらにまた、ホスト化合物のリン光発光エネルギーを2.9eV以上になるように調整することが、特にリン光ドーパントを用いた際に、ドーパントへのエネルギー移動が効率的となり、より高い輝度を得ることができる。   By using a host compound having the same physical characteristics as described above, and more preferably by using a host compound having the same molecular structure, the entire organic compound layer (also referred to as an organic layer) of the organic EL element is used. In addition, it is possible to obtain a uniform film property and to adjust the phosphorescence emission energy of the host compound to be 2.9 eV or more. In particular, when a phosphorescent dopant is used, the energy transfer to the dopant is efficient. And higher brightness can be obtained.

(リン光発光エネルギー)
本発明に係るリン光発光エネルギーについて説明する。
(Phosphorescent energy)
The phosphorescence emission energy according to the present invention will be described.

本発明に係るリン光発光エネルギーとは、ホスト化合物を支持基盤(単に基板でもよい)上に100nmの蒸着膜のフォトルミネッセンスを測定した時、得られるリン光発光の0−0バンドのピークエネルギーを言う。   The phosphorescence emission energy according to the present invention is the peak energy of the 0-0 band of phosphorescence emission obtained when measuring the photoluminescence of a deposited film of 100 nm on a support substrate (which may be simply a substrate) with a host compound. say.

《リン光発光の0−0バンドの測定方法》
まず、リン光スペクトルの測定方法について説明する。
<< Measurement Method of 0-0 Band of Phosphorescence >>
First, a method for measuring a phosphorescence spectrum will be described.

測定する発光ホスト化合物を、よく脱酸素されたエタノール/メタノール=4/1(体積/体積)の混合溶媒に溶かし、リン光測定用セルに入れた後、液体窒素温度77Kで励起光を照射し、励起光照射後100msでの発光スペクトルを測定する。リン光は蛍光に比べ発光寿命が長いため、100ms後に残存する光はほぼリン光であると考えることができる。なお、リン光寿命が100msより短い化合物に対しては遅延時間を短くして測定しても構わないが、蛍光と区別できなくなるほど遅延時間を短く設定するとリン光と蛍光が分離できないので問題となるため、その分離が可能な遅延時間を選択する必要がある。   The luminescent host compound to be measured is dissolved in a well-deoxygenated mixed solvent of ethanol / methanol = 4/1 (volume / volume), put into a phosphorescence measurement cell, and then irradiated with excitation light at a liquid nitrogen temperature of 77K. Then, an emission spectrum at 100 ms is measured after the excitation light irradiation. Since phosphorescence has a longer emission lifetime than fluorescence, it can be considered that light remaining after 100 ms is almost phosphorescence. For compounds with a phosphorescence lifetime shorter than 100 ms, measurement may be performed with a short delay time. However, if the delay time is set so short that it cannot be distinguished from fluorescence, phosphorescence and fluorescence cannot be separated. Therefore, it is necessary to select a delay time that can be separated.

また、上記溶剤系で溶解できない化合物については、その化合物を溶解しうる任意の溶剤を使用してもよい(実質上、上記測定法ではリン光波長の溶媒効果はごくわずかなので問題ない)。   In addition, for a compound that cannot be dissolved in the solvent system, any solvent that can dissolve the compound may be used (substantially, the solvent effect of the phosphorescence wavelength is negligible in the above measurement method).

次に0−0バンドの求め方であるが、本発明においては、上記測定法で得られたリン光スペクトルチャートの中で最も短波長側に現れる発光極大波長をもって0−0バンドと定義する。   Next, the 0-0 band is determined. In the present invention, the emission maximum wavelength that appears on the shortest wavelength side in the phosphorescence spectrum chart obtained by the above measurement method is defined as the 0-0 band.

リン光スペクトルは通常強度が弱いことが多いため、拡大するとノイズとピークの判別が難しくなるケースがある。このような場合には励起光照射中の発光スペクトル(便宜上これを定常光スペクトルと言う)を拡大し、励起光照射後100ms後の発光スペクトル(便宜上これをリン光スペクトルと言う)と重ねあわせリン光スペクトルに由来する定常光スペクトル部分からリン光スペクトルのピーク波長を読みとることで決定することができる。   Since the phosphorescence spectrum usually has a low intensity, when it is enlarged, it may be difficult to distinguish between noise and peak. In such a case, the emission spectrum during excitation light irradiation (for convenience, this is referred to as a steady light spectrum) is expanded, and the emission spectrum 100 ms after excitation light irradiation (for convenience, this is referred to as a phosphorescence spectrum) is superimposed. It can be determined by reading the peak wavelength of the phosphorescence spectrum from the stationary light spectrum portion derived from the light spectrum.

また、リン光スペクトルをスムージング処理することでノイズとピークを分離しピーク波長を読み取ることもできる。なお、スムージング処理としては、Savitzky&Golayの平滑化法等を適用することができる。   Further, by performing a smoothing process on the phosphorescence spectrum, it is possible to separate the noise and the peak and read the peak wavelength. As the smoothing process, a smoothing method of Savitzky & Golay can be applied.

(発光ドーパント)
本発明に係る発光ドーパントについて説明する。
(Luminescent dopant)
The light emitting dopant according to the present invention will be described.

本発明に係る発光ドーパントとしては、蛍光性化合物、リン光発光体(リン光性化合物、リン光発光性化合物等ともいう)を用いることができるが、より発光効率の高い有機EL素子を得る観点からは、本発明の有機EL素子の発光層や発光ユニットに使用される発光ドーパント(単に、発光材料ということもある)としては、上記のホスト化合物を含有すると同時に、リン光発光体を含有することが好ましい。 As the light-emitting dopant according to the present invention, a fluorescent compound or a phosphorescent emitter (also referred to as a phosphorescent compound or a phosphorescent compound) can be used, but a viewpoint of obtaining an organic EL element with higher luminous efficiency. From the above, the light-emitting dopant used in the light-emitting layer and the light-emitting unit of the organic EL device of the present invention (sometimes simply referred to as a light-emitting material) contains the above-mentioned host compound and simultaneously contains a phosphorescent light-emitting material. It is preferable.

緑領域及び青領域にそれぞれ発光極大を有するリン光発光体を有することが好ましい。また、赤領域に発光極大を有するリン光発光体を有することが好ましい。   It is preferable to have a phosphorescent body having a light emission maximum in each of the green region and the blue region. Moreover, it is preferable to have a phosphorescent light emitter having a light emission maximum in the red region.

(リン光発光体)
本発明に係るリン光発光体は、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には、室温(25℃)にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、25℃において0.01以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は0.1以上である。
(Phosphorescent light emitter)
The phosphorescent emitter according to the present invention is a compound in which light emission from an excited triplet is observed, specifically, a compound that emits phosphorescence at room temperature (25 ° C.), and the phosphorescence quantum yield is Although defined as a compound of 0.01 or more at 25 ° C., a preferred phosphorescence quantum yield is 0.1 or more.

上記リン光量子収率は、第4版実験化学講座7の分光IIの398頁(1992年版、丸善)に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明に係るリン光発光体は、任意の溶媒のいずれかにおいて上記リン光量子収率(0.01以上)が達成されればよい。   The phosphorescence quantum yield can be measured by the method described in Spectroscopic II, page 398 (1992 edition, Maruzen) of Experimental Chemistry Course 4 of the 4th edition. Although the phosphorescence quantum yield in a solution can be measured using various solvents, the phosphorescence emitter according to the present invention achieves the phosphorescence quantum yield (0.01 or more) in any solvent. Just do it.

リン光発光体の発光は原理としては2種挙げられ、一つはキャリアが輸送されるホスト化合物上でキャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光発光体に移動させることでリン光発光体からの発光を得るというエネルギー移動型、もう一つはリン光発光体がキャリアトラップとなり、リン光発光体上でキャリアの再結合が起こりリン光発光体からの発光が得られるというキャリアトラップ型であるが、いずれの場合においても、リン光発光体の励起状態のエネルギーはホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。   There are two types of light emission of phosphorescent emitters in principle. One is the recombination of carriers on the host compound to which carriers are transported to generate an excited state of the host compound, and this energy is transferred to the phosphorescent emitter. The energy transfer type that emits light from the phosphorescent emitter by moving to the other, the phosphorescent emitter becomes a carrier trap, carrier recombination occurs on the phosphorescent emitter, and from the phosphorescent emitter Although it is a carrier trap type in which light emission is obtained, in any case, it is a condition that the excited state energy of the phosphorescent emitter is lower than the excited state energy of the host compound.

リン光発光体は、有機EL素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができる。   The phosphorescent emitter can be appropriately selected from known ones used for the light emitting layer of the organic EL element.

本発明に係るリン光発光体としては、好ましくは元素の周期表で8〜10族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、または白金化合物(白金錯体系化合物)、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。   The phosphorescent emitter according to the present invention is preferably a complex compound containing a group 8-10 metal in the periodic table of elements, more preferably an iridium compound, an osmium compound, or a platinum compound (platinum complex compound). ), Rare earth complexes, and most preferred are iridium compounds.

以下に、リン光発光体として用いられる化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。これらの化合物は、例えば、Inorg.Chem.40巻、1704〜1711に記載の方法等により合成できる。   Although the specific example of the compound used as a phosphorescent body is shown below, this invention is not limited to these. These compounds are described, for example, in Inorg. Chem. 40, 1704-1711, and the like.

(蛍光発光体(蛍光性ドーパント等ともいう))
蛍光発光体(蛍光性ドーパント)の代表例としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、または希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
(Fluorescent light emitter (also called fluorescent dopant))
Typical examples of fluorescent emitters (fluorescent dopants) include coumarin dyes, pyran dyes, cyanine dyes, croconium dyes, squalium dyes, oxobenzanthracene dyes, fluorescein dyes, rhodamine dyes, and pyrylium dyes. Examples thereof include dyes, perylene dyes, stilbene dyes, polythiophene dyes, and rare earth complex phosphors.

また、従来公知のドーパントも本発明に用いることができ、例えば、国際公開第00/70655号パンフレット、特開2002−280178号公報、同2001−181616号公報、同2002−280179号公報、同2001−181617号公報、同2002−280180号公報、同2001−247859号公報、同2002−299060号公報、同2001−313178号公報、同2002−302671号公報、同2001−345183号公報、同2002−324679号公報、国際公開第02/15645号パンフレット、特開2002−332291号公報、同2002−50484号公報、同2002−332292号公報、同2002−83684号公報、特表2002−540572号公報、特開2002−117978号公報、同2002−338588号公報、同2002−170684号公報、同2002−352960号公報、国際公開第01/93642号パンフレット、特開2002−50483号公報、同2002−100476号公報、同2002−173674号公報、同2002−359082号公報、同2002−175884号公報、同2002−363552号公報、同2002−184582号公報、同2003−7469号公報、特表2002−525808号公報、特開2003−7471号公報、特表2002−525833号公報、特開2003−31366号公報、同2002−226495号公報、同2002−234894号公報、同2002−235076号公報、同2002−241751号公報、同2001−319779号公報、同2001−319780号公報、同2002−62824号公報、同2002−100474号公報、同2002−203679号公報、同2002−343572号公報、同2002−203678号公報等が挙げられる。   Conventionally known dopants can also be used in the present invention. For example, International Publication No. 00/70655 pamphlet, JP-A Nos. 2002-280178, 2001-181616, 2002-280179, 2001 181617, 2002-280180, 2001-247859, 2002-299060, 2001-313178, 2002-302671, 2001-345183, 2002. No. 324679, International Publication No. 02/15645, JP 2002-332291 A, 2002-50484, 2002-332292, 2002-83684, JP 2002-540572, JP 2 No. 02-117978, No. 2002-338588, No. 2002-170684, No. 2002-352960, Pamphlet of International Publication No. 01/93642, JP 2002-50483, No. 2002-1000047. No. 2002-173684, No. 2002-359082, No. 2002-17584, No. 2002-363552, No. 2002-184582, No. 2003-7469, No. 2002-525808. JP-A 2003-7471, JP-T 2002-525833, JP-A 2003-31366, JP-A 2002-226495, JP-A 2002-234894, JP-A 2002-2335076, JP-A 2002-24175 Gazette, 2001-319779, 2001-319780, 2002-62824, 2002-1000047, 2002-203679, 2002-343572, 2002-203678. A gazette etc. are mentioned.

《非発光性の中間層》
本発明に用いられる非発光性の中間層(非ドープ領域等ともいう)について説明する。
<Non-light emitting intermediate layer>
A non-light emitting intermediate layer (also referred to as an undoped region or the like) used in the present invention will be described.

非発光性の中間層とは、複数の発光層を有する場合、その発光層間に設けられる層である。   The non-light emitting intermediate layer is a layer provided between the light emitting layers in the case of having a plurality of light emitting layers.

非発光性の中間層の膜厚としては、1nm〜50nmの範囲にあるのが好ましく、さらには3nm〜10nmの範囲にあることが、隣接発光層間のエネルギー移動等相互作用を抑制し、かつ素子の電流電圧特性に大きな負荷を与えないということから好ましい。   The film thickness of the non-light emitting intermediate layer is preferably in the range of 1 nm to 50 nm, and more preferably in the range of 3 nm to 10 nm to suppress interaction such as energy transfer between adjacent light emitting layers, and This is preferable because a large load is not applied to the current-voltage characteristics.

この非発光性の中間層に用いられる材料としては、発光層のホスト化合物と同一でも異なっていてもよいが、隣接する2つの発光層のすくなくとも一方の発光層のホスト材料と同一であることが好ましい。   The material used for the non-light emitting intermediate layer may be the same as or different from the host compound of the light emitting layer, but may be the same as the host material of at least one of the adjacent light emitting layers. preferable.

非発光性の中間層は、非発光各発光層と共通の化合物(例えば、ホスト化合物等)を含有していてもよく、各々共通ホスト材料(ここで、共通ホスト材料が用いられるとは、リン光発光エネルギー、ガラス転移点等の物理化学的特性が同一である場合やホスト化合物の分子構造が同一である場合等を示す。)を含有することにより、発光層−非発光層間の層間の注入障壁が低減され、電圧(電流)を変化させても正孔と電子の注入バランスが保ちやすいという効果を得ることができる。さらに、非ドープ発光層に各発光層に含まれるホスト化合物とが、同一の物理的特性または同一の分子構造を有するホスト材料を用いることにより、従来の有機EL素子作製の大きな問題点である、有機EL素子作製の煩雑さをも併せて解消することができる。   The non-light emitting intermediate layer may contain a compound (for example, a host compound) common to the non-light emitting layers, and each of the common host materials (here, the common host material is used) In the case where the physicochemical characteristics such as photoluminescence energy and glass transition point are the same, or the molecular structure of the host compound is the same, etc.) The barrier is reduced, and the effect of easily maintaining the injection balance of holes and electrons even when the voltage (current) is changed can be obtained. Furthermore, the host compound contained in each light emitting layer in the undoped light emitting layer is a major problem in the production of a conventional organic EL device by using a host material having the same physical characteristics or the same molecular structure. The complexity of manufacturing the organic EL element can also be eliminated.

また、青・緑・赤の各発光層を有する有機EL素子においては、各々の発光材料にリン光発光体を用いる場合、青色のリン光発光体の励起3重項エネルギーが一番大きくなるが、前記青色のリン光発光体よりも大きい励起3重項エネルギーを有するホスト材料を発光層と非発光性の中間層とが共通のホスト材料として含んでいてもよい。   In addition, in an organic EL element having blue, green, and red light emitting layers, when a phosphorescent light emitter is used for each light emitting material, the excited triplet energy of the blue phosphorescent light emitter is the largest. The light emitting layer and the non-light emitting intermediate layer may contain a host material having an excited triplet energy larger than that of the blue phosphorescent emitter as a common host material.

本発明の有機EL素子においては、ホスト材料はキャリアの輸送を担うため、キャリア輸送能を有する材料が好ましい。キャリア輸送能を表す物性としてキャリア移動度が用いられるが、有機材料のキャリア移動度は一般的に電界強度に依存性が見られる。電界強度依存性の高い材料は正孔と電子注入・輸送バランスを崩しやすいため、中間層材料、ホスト材料は移動度の電界強度依存性の少ない材料を用いることが好ましい。   In the organic EL device of the present invention, since the host material is responsible for carrier transport, a material having carrier transport capability is preferable. Carrier mobility is used as a physical property representing carrier transport ability, but the carrier mobility of an organic material generally depends on the electric field strength. Since a material having a high electric field strength dependency easily breaks the balance between injection and transport of holes and electrons, it is preferable to use a material having a low electric field strength dependency of mobility for the intermediate layer material and the host material.

また、一方では、正孔や電子の注入バランスを最適に調整するためには、非発光性の中間層は、後述する阻止層即ち、正孔阻止層、電子阻止層として機能することも好ましい態様として挙げられる。   On the other hand, in order to optimally adjust the injection balance of holes and electrons, it is also preferable that the non-light emitting intermediate layer functions as a blocking layer described later, that is, a hole blocking layer and an electron blocking layer. As mentioned.

本発明においては、発光極大波長が前記青領域にある青発光層、前記緑領域にある緑発光層、前記赤領域にある赤発光層の少なくとも3層の発光層を有することが好ましく、さらには、陽極に最も近い発光層が青発光層であることが好ましい。この態様において、該青発光層と次に陽極に近い青以外の発光層との間に、前記青発光層に含有されるホスト化合物に対してイオン化ポテンシャル(イオン化ポテンシャルの測定方法は、阻止層に係る化合物のイオン化ポテンシャルの測定方法と同様である。)が0.2eV以上大きい化合物を50質量%以上含有する非発光性層を有することが、本発明の有機EL素子の輝度向上の観点から好ましい。   In the present invention, it is preferable that the light emitting maximum wavelength has at least three light emitting layers of a blue light emitting layer in the blue region, a green light emitting layer in the green region, and a red light emitting layer in the red region, The light emitting layer closest to the anode is preferably a blue light emitting layer. In this embodiment, between the blue light emitting layer and the light emitting layer other than blue next to the anode, the ionization potential (the ionization potential measurement method is applied to the blocking layer) with respect to the host compound contained in the blue light emitting layer. It is the same as the method for measuring the ionization potential of such a compound.) From the viewpoint of improving the luminance of the organic EL device of the present invention, it is preferable to have a non-emissive layer containing 50% by mass or more of a compound having a larger 0.2 eV or more. .

《注入層:電子注入層、正孔注入層》
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、上記の如く陽極と発光層または正孔輸送層の間、及び陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。
<< Injection layer: electron injection layer, hole injection layer >>
The injection layer is provided as necessary, and there are an electron injection layer and a hole injection layer, and as described above, it exists between the anode and the light emitting layer or the hole transport layer and between the cathode and the light emitting layer or the electron transport layer. May be.

注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)に詳細に記載されており、正孔注入層(陽極バッファー層)と電子注入層(陰極バッファー層)とがある。   An injection layer is a layer provided between an electrode and an organic layer in order to reduce drive voltage and improve light emission luminance. “Organic EL element and its forefront of industrialization (issued by NTT Corporation on November 30, 1998) 2), Chapter 2, “Electrode Materials” (pages 123 to 166) in detail, and includes a hole injection layer (anode buffer layer) and an electron injection layer (cathode buffer layer).

陽極バッファー層(正孔注入層)は、特開平9−45479号公報、同9−260062号公報、同8−288069号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン(エメラルディン)やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。   The details of the anode buffer layer (hole injection layer) are described in JP-A-9-45479, JP-A-9-260062, JP-A-8-288069 and the like. As a specific example, copper phthalocyanine is used. Examples thereof include a phthalocyanine buffer layer represented by an oxide, an oxide buffer layer represented by vanadium oxide, an amorphous carbon buffer layer, and a polymer buffer layer using a conductive polymer such as polyaniline (emeraldine) or polythiophene.

陰極バッファー層(電子注入層)は、特開平6−325871号公報、同9−17574号公報、同10−74586号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。上記バッファー層(注入層)はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は0.1nm〜5μmの範囲が好ましい。   The details of the cathode buffer layer (electron injection layer) are described in JP-A-6-325871, JP-A-9-17574, JP-A-10-74586, and the like. Specifically, strontium, aluminum, etc. Metal buffer layer typified by lithium, alkali metal compound buffer layer typified by lithium fluoride, alkaline earth metal compound buffer layer typified by magnesium fluoride, oxide buffer layer typified by aluminum oxide, etc. . The buffer layer (injection layer) is preferably a very thin film, and the film thickness is preferably in the range of 0.1 nm to 5 μm although it depends on the material.

《阻止層:正孔阻止層、電子阻止層》
阻止層は、上記の如く、有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層がある。
<Blocking layer: hole blocking layer, electron blocking layer>
As described above, the blocking layer is provided as necessary in addition to the basic constituent layer of the organic compound thin film. For example, it is described in JP-A Nos. 11-204258, 11-204359, and “Organic EL elements and their forefront of industrialization” (issued by NTT, Inc. on November 30, 1998). There is a hole blocking (hole blocking) layer.

正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係わる正孔阻止層として用いることができる。   The hole blocking layer has a function of an electron transport layer in a broad sense, and is made of a hole blocking material that has a function of transporting electrons and has a remarkably small ability to transport holes. The probability of recombination of electrons and holes can be improved by blocking. Moreover, the structure of the electron carrying layer mentioned later can be used as a hole-blocking layer concerning this invention as needed.

本発明の有機EL素子の正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。   The hole blocking layer of the organic EL device of the present invention is preferably provided adjacent to the light emitting layer.

イオン化ポテンシャルは化合物のHOMO(最高被占分子軌道)レベルにある電子を真空準位に放出するのに必要なエネルギーで定義され、例えば下記に示すような方法により求めることができる。   The ionization potential is defined by the energy required to emit an electron at the HOMO (highest occupied molecular orbital) level of the compound to the vacuum level, and can be obtained by the following method, for example.

(1)米国Gaussian社製の分子軌道計算用ソフトウェアであるGaussian98(Gaussian98、Revision A.11.4,M.J.Frisch,et al,Gaussian,Inc.,Pittsburgh PA,2002.)を用い、キーワードとしてB3LYP/6−31G*を用いて構造最適化を行うことにより算出した値(eV単位換算値)の小数点第2位を四捨五入した値としてイオン化ポテンシャルを求めることができる。この計算値が有効な背景には、この手法で求めた計算値と実験値の相関が高いためである。   (1) Using Gaussian 98 (Gaussian 98, Revision A.11.4, MJ Frisch, et al, Gaussian, Inc., Pittsburgh PA, 2002.), a molecular orbital calculation software manufactured by Gaussian, USA The ionization potential can be obtained as a value obtained by rounding off the second decimal place of the value (eV unit converted value) calculated by performing structural optimization using B3LYP / 6-31G *. This calculation value is effective because the correlation between the calculation value obtained by this method and the experimental value is high.

(2)イオン化ポテンシャルは光電子分光法で直接測定する方法により求めることもできる。例えば、理研計器社製の低エネルギー電子分光装置「Model AC−1」を用いて、あるいは紫外光電子分光として知られている方法を好適に用いることができる。   (2) The ionization potential can also be obtained by a method of directly measuring by photoelectron spectroscopy. For example, a method known as ultraviolet photoelectron spectroscopy can be suitably used by using a low energy electron spectrometer “Model AC-1” manufactured by Riken Keiki Co., Ltd.

一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。本発明に係わる正孔阻止層、電子輸送層の膜厚としては好ましくは3〜100nmであり、さらに好ましくは5〜30nmである。   On the other hand, the electron blocking layer has a function of a hole transport layer in a broad sense, and is made of a material that has a function of transporting holes and has an extremely small ability to transport electrons, and transports electrons while transporting holes. By blocking, the recombination probability of electrons and holes can be improved. Moreover, the structure of the positive hole transport layer mentioned later can be used as an electron blocking layer as needed. The thickness of the hole blocking layer and the electron transport layer according to the present invention is preferably 3 to 100 nm, and more preferably 5 to 30 nm.

《正孔輸送層》
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層または複数層設けることができる。
《Hole transport layer》
The hole transport layer is made of a hole transport material having a function of transporting holes, and in a broad sense, a hole injection layer and an electron blocking layer are also included in the hole transport layer. The hole transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.

正孔輸送材料としては、正孔の注入または輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。   The hole transport material has any one of hole injection or transport and electron barrier properties, and may be either organic or inorganic. For example, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, Examples thereof include stilbene derivatives, silazane derivatives, aniline copolymers, and conductive polymer oligomers, particularly thiophene oligomers.

正孔輸送材料としては上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第3級アミン化合物を用いることが好ましい。   The above-mentioned materials can be used as the hole transport material, but it is preferable to use a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound and a styrylamine compound, particularly an aromatic tertiary amine compound.

芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノフェニル;N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン(TPD);2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)プロパン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン;N,N,N′,N′−テトラ−p−トリル−4,4′−ジアミノビフェニル;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェニルシクロヘキサン;ビス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)フェニルメタン;ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)フェニルメタン;N,N′−ジフェニル−N,N′−ジ(4−メトキシフェニル)−4,4′−ジアミノビフェニル;N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル;4,4′−ビス(ジフェニルアミノ)クオードリフェニル;N,N,N−トリ(p−トリル)アミン;4−(ジ−p−トリルアミノ)−4′−〔4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル〕スチルベン;4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニルビニル)ベンゼン;3−メトキシ−4′−N,N−ジフェニルアミノスチルベンゼン;N−フェニルカルバゾール、さらには、米国特許第5,061,569号明細書に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、4,4′−ビス〔N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ〕ビフェニル(NPD)、特開平4−308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4′,4″−トリス〔N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン(MTDATA)等が挙げられる。   Representative examples of aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds include N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminophenyl; N, N'-diphenyl-N, N'- Bis (3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (TPD); 2,2-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) propane; 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane; N, N, N ′, N′-tetra-p-tolyl-4,4′-diaminobiphenyl; 1,1-bis (4-di-p-tolyl) Aminophenyl) -4-phenylcyclohexane; bis (4-dimethylamino-2-methylphenyl) phenylmethane; bis (4-di-p-tolylaminophenyl) phenylmethane; N, N'-diphenyl-N, N ' − (4-methoxyphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl; N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether; 4,4'-bis (diphenylamino) quadriphenyl; N, N, N-tri (p-tolyl) amine; 4- (di-p-tolylamino) -4 '-[4- (di-p-tolylamino) styryl] stilbene; 4-N, N-diphenylamino- (2-diphenylvinyl) benzene; 3-methoxy-4′-N, N-diphenylaminostilbenzene; N-phenylcarbazole, and two more described in US Pat. No. 5,061,569 Having a condensed aromatic ring of, for example, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPD), JP-A-4-30 4,4 ', 4 "-tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine in which three triphenylamine units described in Japanese Patent No. 688 are linked in a starburst type ( MTDATA) and the like.

さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、p型−Si、p型−SiC等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。   Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used. In addition, inorganic compounds such as p-type-Si and p-type-SiC can also be used as the hole injection material and the hole transport material.

また、特開平11−251067号公報、J.Huang et.al.著文献(Applied Physics Letters 80(2002),p.139)に記載されているような所謂、p型正孔輸送材料を用いることもできる。本発明においては、より高効率の発光素子が得られることから、これらの材料を用いることが好ましい。   JP-A-11-251067, J. Org. Huang et. al. A so-called p-type hole transport material described in a book (Applied Physics Letters 80 (2002), p. 139) can also be used. In the present invention, it is preferable to use these materials because a light-emitting element with higher efficiency can be obtained.

正孔輸送層は上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5〜200nmである。この正孔輸送層は上記材料の1種または2種以上からなる一層構造であってもよい。   The hole transport layer can be formed by thinning the hole transport material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a printing method including an ink jet method, or an LB method. it can. Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of a positive hole transport layer, Usually, 5 nm-about 5 micrometers, Preferably it is 5-200 nm. The hole transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.

また、不純物をドープしたp性の高い正孔輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。   Alternatively, a hole transport layer having a high p property doped with impurities can be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-2000-196140, 2001-102175, J.A. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.

本発明においては、このようなp性の高い正孔輸送層を用いることが、より低消費電力の有機EL素子を作製することができるため好ましい。   In the present invention, it is preferable to use a hole transport layer having such a high p property because an organic EL element with lower power consumption can be produced.

《電子輸送層》
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層または複数層設けることができる。
《Electron transport layer》
The electron transport layer is made of a material having a function of transporting electrons, and in a broad sense, an electron injection layer and a hole blocking layer are also included in the electron transport layer. The electron transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.

単層の電子輸送層、及び複数層とする場合は発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料(正孔阻止材料を兼ねる)としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができ、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。   In the case of a single-layer electron transport layer and a plurality of layers, as an electron transport material (also serving as a hole blocking material) used for an electron transport layer adjacent to the cathode side with respect to the light emitting layer, electrons injected from the cathode As long as it has a function of transmitting to the light emitting layer, and any of known materials can be selected and used as the material. For example, nitro-substituted fluorene derivatives, diphenylquinone derivatives, thiols Examples include pyran dioxide derivatives, carbodiimides, fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, and the like. Furthermore, in the above oxadiazole derivative, a thiadiazole derivative in which the oxygen atom of the oxadiazole ring is substituted with a sulfur atom, and a quinoxaline derivative having a quinoxaline ring known as an electron withdrawing group can also be used as an electron transport material. Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used.

また、8−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq)、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)亜鉛(Znq)等、及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、GaまたはPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様に、n型−Si、n型−SiC等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。   In addition, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum (Alq), tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,7-dibromo-8-quinolinol) aluminum Tris (2-methyl-8-quinolinol) aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) zinc (Znq), and the like, and the central metals of these metal complexes are In, Mg, Metal complexes replaced with Cu, Ca, Sn, Ga or Pb can also be used as the electron transport material. In addition, metal-free or metal phthalocyanine, or those having terminal ends substituted with an alkyl group or a sulfonic acid group can be preferably used as the electron transporting material. In addition, the distyrylpyrazine derivative exemplified as the material of the light emitting layer can also be used as an electron transport material, and similarly to the hole injection layer and the hole transport layer, inorganic such as n-type-Si and n-type-SiC can be used. A semiconductor can also be used as an electron transport material.

電子輸送層は上記電子輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5〜200nmである。電子輸送層は上記材料の1種または2種以上からなる一層構造であってもよい。   The electron transport layer can be formed by thinning the electron transport material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a printing method including an ink jet method, or an LB method. Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of an electron carrying layer, Usually, 5 nm-about 5 micrometers, Preferably it is 5-200 nm. The electron transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.

また、不純物をドープしたn性の高い電子輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、同10−270172号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。   Further, an electron transport layer having a high n property doped with impurities can also be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-10-270172, JP-A-2000-196140, 2001-102175, J.A. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.

本発明においては、このようなn性の高い電子輸送層を用いることがより低消費電力の有機EL素子を作製することができるため好ましい。   In the present invention, it is preferable to use such an electron transport layer having a high n property because an organic EL element with lower power consumption can be produced.

《支持基盤》
本発明の有機EL素子に係る支持基盤(以下、基体、基板、基材、支持体等ともいう)としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また、透明であっても不透明であってもよい。支持基盤側から光を取り出す場合には、支持基盤は透明であることが好ましい。好ましく用いられる透明な支持基盤としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい支持基盤は、有機EL素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。
《Support base》
The support substrate (hereinafter also referred to as a substrate, a substrate, a substrate, a support, etc.) according to the organic EL device of the present invention is not particularly limited in the type of glass, plastic, etc., and is transparent or opaque. It may be. In the case where light is extracted from the support base side, the support base is preferably transparent. Examples of the transparent support substrate preferably used include glass, quartz, and a transparent resin film. A particularly preferable support base is a resin film capable of giving flexibility to the organic EL element.

樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートフタレート(TAC)、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類またはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルまたはポリアリレート類、アートン(商品名JSR社製)或いはアペル(商品名三井化学社製)といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の被膜またはその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された水蒸気透過度が、0.01g/m2・day・atm以下のバリア性フィルムであることが好ましく、さらには、JIS K 7126−1992に準拠した方法で測定された酸素透過度が、10-3g/m2/day以下、水蒸気透過度が、10-3g/m2/day以下の高バリア性フィルムであることが好ましく、前記の水蒸気透過度、酸素透過度がいずれも10-5g/m2/day以下であることが、さらに好ましい。Examples of the resin film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (CAP), Cellulose esters such as cellulose acetate phthalate (TAC) and cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyether ketone, polyimide , Polyethersulfone (PES), polyphenylene sulfide, polysulfones Cycloolefin resins such as polyetherimide, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic or polyarylate, Arton (trade name, manufactured by JSR) or Appel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals) Can be mentioned. An inorganic or organic film or a hybrid film of both may be formed on the surface of the resin film, and the water vapor permeability measured by a method in accordance with JIS K 7129-1992 is 0.01 g / m 2. It is preferably a barrier film of day · atm or less, and further, the oxygen permeability measured by a method according to JIS K 7126-1992 is 10 −3 g / m 2 / day or less, water vapor permeability Is preferably a high barrier film of 10 −3 g / m 2 / day or less, and the water vapor permeability and oxygen permeability are both 10 −5 g / m 2 / day or less, Further preferred.

バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。さらに該膜の脆弱性を改良するためにこれら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。   As a material for forming the barrier film, any material may be used as long as it has a function of suppressing entry of elements that cause deterioration of elements such as moisture and oxygen. For example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride, or the like can be used. Further, in order to improve the brittleness of the film, it is more preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and organic material layers. Although there is no restriction | limiting in particular about the lamination | stacking order of an inorganic layer and an organic layer, It is preferable to laminate | stack both alternately several times.

《バリア膜の形成方法》
バリア膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができるが、特開2004−68143号公報に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。
<Method for forming barrier film>
The method for forming the barrier film is not particularly limited. For example, the vacuum deposition method, the sputtering method, the reactive sputtering method, the molecular beam epitaxy method, the cluster ion beam method, the ion plating method, the plasma polymerization method, the atmospheric pressure plasma weighting. A combination method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, and the like can be used, but an atmospheric pressure plasma polymerization method as described in JP-A-2004-68143 is particularly preferable.

不透明な支持基盤としては、例えばアルミ、ステンレス等の金属板・フィルムや不透明樹脂基板、セラミック製の基板等が挙げられる。   Examples of the opaque support base include metal plates / films such as aluminum and stainless steel, opaque resin substrates, ceramic substrates, and the like.

本発明の有機EL素子の発光の室温における外部取り出し効率は1%以上であることが好ましく、より好ましくは5%以上である。ここに、外部取り出し量子効率(%)=有機EL素子外部に発光した光子数/有機EL素子に流した電子数×100である。   The external extraction efficiency at room temperature of light emission of the organic EL device of the present invention is preferably 1% or more, more preferably 5% or more. Here, the external extraction quantum efficiency (%) = the number of photons emitted to the outside of the organic EL element / the number of electrons sent to the organic EL element × 100.

ここで、本発明に係る支持基盤に用いられる、透明なバリア膜の層構成の一例を図6により説明し、さらに、バリア層の形成に好ましく用いられる大気圧プラズマ放電処理装置の一例を図7を用いて説明する。   Here, an example of the layer structure of the transparent barrier film used for the support base according to the present invention will be described with reference to FIG. 6, and further, an example of the atmospheric pressure plasma discharge treatment apparatus preferably used for forming the barrier layer will be described with reference to FIG. Will be described.

図6は、バリア膜(ガスバリアフィルムともいう)の層構成とその密度プロファイルの一例を示す模式図である。   FIG. 6 is a schematic diagram illustrating an example of a layer configuration of a barrier film (also referred to as a gas barrier film) and a density profile thereof.

バリア膜201(透明でも不透明でもよい)は、基材202上に密度の異なる層を積層した構成をとる。本発明においては、低密度層203と高密度層205との間に、中密度層204を設け、さらに高密度層205上にも中密度層204を設け、これらの低密度層、中密度層、高密度層及び中密度層からなる構成を1ユニットとし、図6においては2ユニット分を積層した例を示してある。この時、各密度層内における密度分布は均一とし、隣接する層間での密度変化が階段状となるような構成をとる。なお、図6においては、中密度層204を1層として示したが、必要に応じて2層以上の構成を採ってもよい。   The barrier film 201 (which may be transparent or opaque) has a configuration in which layers having different densities are stacked on the base material 202. In the present invention, a medium density layer 204 is provided between the low density layer 203 and the high density layer 205, and the medium density layer 204 is also provided on the high density layer 205, and these low density layer and medium density layer are provided. FIG. 6 shows an example in which a unit composed of a high-density layer and a medium-density layer is one unit and two units are stacked. At this time, the density distribution in each density layer is uniform, and the density change between adjacent layers is stepped. In FIG. 6, the medium density layer 204 is shown as one layer, but a configuration of two or more layers may be adopted as necessary.

図7は、基材を処理する大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示す概略図である。   FIG. 7 is a schematic view showing an example of an atmospheric pressure plasma discharge treatment apparatus for treating a substrate.

大気圧プラズマ放電処理装置としては、少なくとも、プラズマ放電処理装置230、二つの電源を有する電界印加手段240、ガス供給手段250、電極温度調節手段260を有している装置である。   The atmospheric pressure plasma discharge processing apparatus is an apparatus having at least a plasma discharge processing apparatus 230, an electric field applying means 240 having two power supplies, a gas supply means 250, and an electrode temperature adjusting means 260.

図7は、ロール回転電極(第1電極)235と角筒型固定電極群(第2電極)236(個々の電極も角筒型固定電極236とする)との対向電極間(放電空間)232で、基材Fをプラズマ放電処理して薄膜を形成するものである。図7においては、1対の角筒型固定電極群(第2電極)236とロール回転電極(第1電極)235とで、1つの電界を形成し、この1ユニットで、例えば、低密度層の形成を行う。図7においては、このような構成からなるユニットを、計5カ所備えた構成例を示し、それぞれのユニットで、供給する原材料の種類、出力電圧等を任意に独立して制御することにより、積層型のバリア膜(透明ガスバリア層ともいう)を連続して形成することができる。   FIG. 7 shows an interval (discharge space) 232 between the roll rotating electrode (first electrode) 235 and the square tube type fixed electrode group (second electrode) 236 (each electrode is also a square tube type fixed electrode 236). Thus, the substrate F is subjected to plasma discharge treatment to form a thin film. In FIG. 7, a pair of rectangular tube type fixed electrode group (second electrode) 236 and roll rotating electrode (first electrode) 235 form one electric field. Is formed. FIG. 7 shows a configuration example including a total of five units having such a configuration. In each unit, the types of raw materials to be supplied, the output voltage, and the like are controlled arbitrarily and independently. A mold barrier film (also referred to as a transparent gas barrier layer) can be formed continuously.

ロール回転電極(第1電極)235と角筒型固定電極群(第2電極)236との間の放電空間(対向電極間)232に、ロール回転電極(第1電極)235には第1電源241から周波数ω1、電界強度V1、電流I1の第1の高周波電界を、また角筒型固定電極群(第2電極)236にはそれぞれに対応する各第2電源242から周波数ω2、電界強度V2、電流I2の第2の高周波電界をかけるようになっている。In the discharge space (between the counter electrodes) 232 between the roll rotating electrode (first electrode) 235 and the square tube type fixed electrode group (second electrode) 236, the roll rotating electrode (first electrode) 235 has a first power source. The first high-frequency electric field having the frequency ω 1 , the electric field intensity V 1 , and the current I 1 from the frequency 241, and the frequency ω 2 from each second power source 242 corresponding to the square tube fixed electrode group (second electrode) 236, respectively. A second high frequency electric field of electric field strength V 2 and current I 2 is applied.

ロール回転電極(第1電極)235と第1電源241との間には、第1フィルタ243が設置されており、第1フィルタ243は第1電源241から第1電極への電流を通過しやすくし、第2電源242からの電流をアースして、第2電源242から第1電源への電流を通過しにくくするように設計されている。   A first filter 243 is installed between the roll rotation electrode (first electrode) 235 and the first power source 241. The first filter 243 easily passes a current from the first power source 241 to the first electrode. In addition, the current from the second power source 242 is grounded so that the current from the second power source 242 to the first power source is difficult to pass.

また、角筒型固定電極群(第2電極)236と第2電源242との間には、それぞれ第2フィルタ244が設置されており、第2フィルター244は、第2電源242から第2電極への電流を通過しやすくし、第1電源241からの電流をアースして、第1電源241から第2電源への電流を通過しにくくするように設計されている。   In addition, a second filter 244 is installed between the square tube type fixed electrode group (second electrode) 236 and the second power source 242, and the second filter 244 is connected to the second electrode from the second power source 242. It is designed so that the current from the first power source 241 is grounded and the current from the first power source 241 to the second power source is difficult to pass.

なお、ロール回転電極235を第2電極、また角筒型固定電極群236を第1電極としてもよい。何れにしろ第1電極には第1電源が、また第2電極には第2電源が接続される。第1電源は第2電源より高い高周波電界強度(V1>V2)を印加することが好ましい。また、周波数はω1<ω2となる能力を有している。The roll rotating electrode 235 may be the second electrode, and the square tube fixed electrode group 236 may be the first electrode. In any case, the first power source is connected to the first electrode, and the second power source is connected to the second electrode. The first power supply preferably applies a higher frequency electric field strength (V 1 > V 2 ) than the second power supply. Further, the frequency has the ability to satisfy ω 12 .

また、電流はI1<I2となることが好ましい。第1の高周波電界の電流I1は、好ましくは0.3mA/cm2〜20mA/cm2、さらに好ましくは1.0mA/cm2〜20mA/cm2である。また、第2の高周波電界の電流I2は、好ましくは10mA/cm2〜100mA/cm2、さらに好ましくは20mA/cm2〜100mA/cm2である。The current is preferably I 1 <I 2 . Current I 1 of the first high-frequency electric field is preferably 0.3mA / cm 2 ~20mA / cm 2 , more preferably at 1.0mA / cm 2 ~20mA / cm 2 . The current I 2 of the second high-frequency electric field is preferably 10mA / cm 2 ~100mA / cm 2 , more preferably 20mA / cm 2 ~100mA / cm 2 .

ガス供給手段250のガス発生装置251で発生させたガスGは、流量を制御して給気口よりプラズマ放電処理容器231内に導入する。   The gas G generated by the gas generator 251 of the gas supply means 250 is introduced into the plasma discharge processing container 231 from the air supply port while controlling the flow rate.

基材Fを、図示されていない元巻きから巻きほぐして搬送されてくるか、または前工程から搬送されてきて、ガイドロール264を経てニップロール265で基材に同伴されて来る空気等を遮断し、ロール回転電極235に接触したまま巻き回しながら角筒型固定電極群236との間に移送し、ロール回転電極(第1電極)235と角筒型固定電極群(第2電極)236との両方から電界をかけ、対向電極間(放電空間)232で放電プラズマを発生させる。基材Fはロール回転電極235に接触したまま巻き回されながらプラズマ状態のガスにより薄膜を形成する。基材Fは、ニップロール266、ガイドロール267を経て、図示してない巻き取り機で巻き取るか、次工程に移送する。   The base material F is unwound from the original winding (not shown), or is transported from the previous process, or transported from the previous process, and the air or the like that is entrained by the base material by the nip roll 265 via the guide roll 264 is blocked. , While rotating while being in contact with the roll rotating electrode 235, it is transferred between the rectangular tube fixed electrode group 236 and the roll rotating electrode (first electrode) 235 and the rectangular tube fixed electrode group (second electrode) 236. An electric field is applied from both, and discharge plasma is generated between the counter electrodes (discharge space) 232. The base material F forms a thin film with a gas in a plasma state while being wound while being in contact with the roll rotating electrode 235. The substrate F passes through the nip roll 266 and the guide roll 267, and is taken up by a winder (not shown) or transferred to the next process.

放電処理済みの処理排ガスG′は排気口253より排出する。   Discharged treated exhaust gas G ′ is discharged from the exhaust port 253.

薄膜形成中、ロール回転電極(第1電極)235及び角筒型固定電極群(第2電極)236を加熱または冷却するために、電極温度調節手段260で温度を調節した媒体を、送液ポンプPで配管261を経て両電極に送り、電極内側から温度を調節する。なお、268及び269はプラズマ放電処理容器231と外界とを仕切る仕切板である。   In order to heat or cool the roll rotating electrode (first electrode) 235 and the rectangular tube type fixed electrode group (second electrode) 236 during the thin film formation, a medium whose temperature is adjusted by the electrode temperature adjusting means 260 is used as a liquid feed pump. P is sent to both electrodes via the pipe 261, and the temperature is adjusted from the inside of the electrode. Reference numerals 268 and 269 denote partition plates that partition the plasma discharge processing vessel 231 and the outside.

《封止》
本発明の有機EL素子の封止に用いられる封止手段としては、例えば封止部材と、電極、支持基盤とを接着剤で接着する方法を挙げることができる。
<Sealing>
Examples of the sealing means used for sealing the organic EL element of the present invention include a method of bonding a sealing member, an electrode, and a support base with an adhesive.

封止部材としては、有機EL素子の表示領域を覆うように配置されておればよく、凹板状でも、平板状でもよい。また、透明性、電気絶縁性は特に限定されない。   The sealing member may be disposed so as to cover the display area of the organic EL element, and may be concave or flat. Moreover, transparency and electrical insulation are not particularly limited.

具体的には、ガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属または合金からなるものが挙げられる。   Specific examples include a glass plate, a polymer plate / film, and a metal plate / film. Examples of the glass plate include soda-lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, and quartz. Examples of the polymer plate include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate, polyether sulfide, and polysulfone. Examples of the metal plate include those made of one or more metals or alloys selected from the group consisting of stainless steel, iron, copper, aluminum, magnesium, nickel, zinc, chromium, titanium, molybdenum, silicon, germanium, and tantalum.

本発明においては、有機EL素子を薄膜化できるということからポリマーフィルム、金属フィルムを好ましく使用することができる。さらには、ポリマーフィルムは、酸素透過度10-3g/m2/日以下、水蒸気透過度10-3g/m2/日以下のものであることが好ましい。また、前記の水蒸気透過度、酸素透過度がいずれも10-5g/m2/日以下であることが、さらに好ましい。In the present invention, a polymer film and a metal film can be preferably used because the organic EL element can be thinned. Furthermore, the polymer film preferably has an oxygen permeability of 10 −3 g / m 2 / day or less and a water vapor permeability of 10 −3 g / m 2 / day or less. Further, it is more preferable that both the water vapor permeability and the oxygen permeability are 10 −5 g / m 2 / day or less.

封止部材を凹状に加工するのは、サンドブラスト加工、化学エッチング加工等が使われる。接着剤として具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、2−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポキシ系等の熱及び化学硬化型(二液混合)を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。   For processing the sealing member into a concave shape, sandblasting, chemical etching, or the like is used. Specific examples of the adhesive include photocuring and thermosetting adhesives having reactive vinyl groups such as acrylic acid oligomers and methacrylic acid oligomers, and moisture curing adhesives such as 2-cyanoacrylates. be able to. Moreover, heat | fever and chemical curing types (two-component mixing), such as an epoxy type, can be mentioned. Moreover, hot-melt type polyamide, polyester, and polyolefin can be mentioned. Moreover, a cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive can be mentioned.

なお、有機EL素子が熱処理により劣化する場合があるので、室温から80℃までに接着硬化できるものが好ましい。また、前記接着剤中に乾燥剤を分散させておいてもよい。封止部分への接着剤の塗布は、市販のディスペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷してもよい。   In addition, since an organic EL element may deteriorate by heat processing, what can be adhesive-hardened from room temperature to 80 degreeC is preferable. A desiccant may be dispersed in the adhesive. Application | coating of the adhesive agent to a sealing part may use commercially available dispenser, and may print it like screen printing.

また、有機層を挟み支持基盤と対向する側の電極の外側に、該電極と有機層を被覆し、支持基盤と接する形で無機物、有機物の層を形成し封止膜とすることも好適にできる。この場合、該膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。さらに該膜の脆弱性を改良するためにこれら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることが好ましい。これらの膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができる。   In addition, it is also preferable to coat the electrode and the organic layer on the outside of the electrode facing the support substrate with the organic layer interposed therebetween, and form an inorganic or organic layer in contact with the support substrate to form a sealing film. it can. In this case, the material for forming the film may be any material that has a function of suppressing intrusion of elements that cause deterioration of elements such as moisture and oxygen. For example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride, or the like may be used. it can. Further, in order to improve the brittleness of the film, it is preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and layers made of organic materials. The method for forming these films is not particularly limited. For example, vacuum deposition, sputtering, reactive sputtering, molecular beam epitaxy, cluster-ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method, atmospheric pressure plasma A polymerization method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, or the like can be used.

封止部材と有機EL素子の表示領域との間隙には、気相及び液相では、窒素、アルゴン等の不活性気体や、フッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。また、真空とすることも可能である。また、内部に吸湿性化合物を封入することもできる。   In the gap between the sealing member and the display area of the organic EL element, an inert gas such as nitrogen or argon, or an inert liquid such as fluorinated hydrocarbon or silicon oil is injected in the gas phase and the liquid phase. Is preferred. A vacuum can also be used. Moreover, a hygroscopic compound can also be enclosed inside.

吸湿性化合物としては、例えば金属酸化物(例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等)、硫酸塩(例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等)、金属ハロゲン化物(例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、沃化バリウム、沃化マグネシウム等)、過塩素酸類(例えば過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等)等が挙げられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物及び過塩素酸類においては無水塩が好適に用いられる。   Examples of the hygroscopic compound include metal oxides (for example, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, barium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide), sulfates (for example, sodium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, cobalt sulfate, etc.) ), Metal halides (eg, calcium chloride, magnesium chloride, cesium fluoride, tantalum fluoride, cerium bromide, magnesium bromide, barium iodide, magnesium iodide, etc.), perchloric acids (eg, barium perchlorate, In particular, anhydrous salts are preferably used in sulfates, metal halides and perchloric acids.

《保護膜、保護板》
有機層を挟み支持基盤と対向する側の前記封止膜あるいは前記封止用フィルムの外側に、有機EL素子の機械的強度を高めるために保護膜、あるいは保護板を設けてもよい。特に、封止が前記封止膜により行われている場合には、その機械的強度は必ずしも高くないため、このような保護膜、保護板を設けることが好ましい。これに使用することができる材料としては、前記封止に用いたのと同様なガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等を用いることができるが、軽量かつ薄膜化ということからポリマーフィルムを用いることが好ましい。
《Protective film, protective plate》
In order to increase the mechanical strength of the organic EL element, a protective film or a protective plate may be provided outside the sealing film or the sealing film on the side facing the support substrate with the organic layer interposed therebetween. In particular, when sealing is performed by the sealing film, the mechanical strength is not necessarily high, and thus it is preferable to provide such a protective film and a protective plate. As a material that can be used for this, the same glass plate, polymer plate / film, metal plate / film, etc. used for the sealing can be used, but the polymer film is light and thin. Is preferably used.

《陽極》
有機EL素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としてはAu等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。また、IDIXO(In23−ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式製膜法を用いることもできる。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。さらに膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1000nm、好ましくは10nm〜200nmの範囲で選ばれる。
"anode"
As the anode in the organic EL element, an electrode material made of a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof having a high work function (4 eV or more) is preferably used. Specific examples of such electrode materials include metals such as Au, and conductive transparent materials such as CuI, indium tin oxide (ITO), SnO 2 and ZnO. Alternatively, an amorphous material such as IDIXO (In 2 O 3 —ZnO) capable of forming a transparent conductive film may be used. For the anode, these electrode materials may be formed into a thin film by a method such as vapor deposition or sputtering, and a pattern having a desired shape may be formed by a photolithography method, or when the pattern accuracy is not required (about 100 μm or more) ), A pattern may be formed through a mask having a desired shape when the electrode material is deposited or sputtered. Or when using the substance which can be apply | coated like an organic electroconductivity compound, wet film forming methods, such as a printing system and a coating system, can also be used. When light emission is extracted from the anode, it is desirable that the transmittance be greater than 10%, and the sheet resistance as the anode is preferably several hundred Ω / □ or less. Further, although the film thickness depends on the material, it is usually selected in the range of 10 nm to 1000 nm, preferably 10 nm to 200 nm.

《陰極》一方、陰極としては、仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al23)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al23)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜5μm、好ましくは50nm〜200nmの範囲で選ばれる。なお、発光した光を透過させるため、有機EL素子の陽極または陰極のいずれか一方が、透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。<< Cathode >> On the other hand, as the cathode, a material having a small work function (4 eV or less) metal (referred to as an electron injecting metal), an alloy, an electrically conductive compound, and a mixture thereof as an electrode material is used. Specific examples of such electrode materials include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) Mixtures, indium, lithium / aluminum mixtures, rare earth metals and the like. Among these, from the point of durability against electron injection and oxidation, etc., a mixture of an electron injecting metal and a second metal which is a stable metal having a larger work function than this, for example, a magnesium / silver mixture, Suitable are a magnesium / aluminum mixture, a magnesium / indium mixture, an aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, a lithium / aluminum mixture, aluminum and the like. The cathode can be produced by forming a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering. The sheet resistance as a cathode is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually selected in the range of 10 nm to 5 μm, preferably 50 nm to 200 nm. In order to transmit the emitted light, if either one of the anode or the cathode of the organic EL element is transparent or translucent, the emission luminance is advantageously improved.

また、陰極に上記金属を1nm〜20nmの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明または半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することができる。   Moreover, after producing the said metal by the film thickness of 1 nm-20 nm to a cathode, the transparent or semi-transparent cathode can be produced by producing the electroconductive transparent material quoted by description of the anode on it, By applying this, an element in which both the anode and the cathode are transmissive can be manufactured.

《有機EL素子の作製方法》
本発明の有機EL素子の作製方法の一例として、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極からなる有機EL素子の作製法について説明する。
<< Method for producing organic EL element >>
As an example of the method for producing the organic EL device of the present invention, a method for producing an organic EL device comprising an anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode will be described.

まず適当な支持基盤上に所望の電極物質、例えば、陽極用物質からなる薄膜を1μm以下、好ましくは10nm〜200nmの膜厚になるように、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陽極を作製する。次に、この上に有機EL素子材料である正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層の有機化合物薄膜を形成させる。   First, a desired electrode material, for example, a thin film made of a material for an anode is formed on a suitable support base by a method such as vapor deposition or sputtering so as to have a film thickness of 1 μm or less, preferably 10 nm to 200 nm. To do. Next, an organic compound thin film of a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, and an electron transport layer, which are organic EL element materials, is formed thereon.

この有機化合物薄膜の薄膜化の方法としては、前記の如く蒸着法、ウェットプロセス(スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、印刷法)等があるが、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが生成しにくい等の点から、真空蒸着法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法が特に好ましい。さらに層毎に異なる製膜法を適用してもよい。製膜に蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の種類等により異なるが、一般にボート加熱温度50℃〜450℃、真空度10-6Pa〜10-2Pa、蒸着速度0.01nm/秒〜50nm/秒、基板温度−50℃〜300℃、膜厚0.1nm〜5μm、好ましくは5nm〜200nmの範囲で適宜選ぶことが望ましい。これらの層を形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を、1μm以下好ましくは50nm〜200nmの範囲の膜厚になるように、例えば、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陰極を設けることにより所望の有機EL素子が得られる。この有機EL素子の作製は、一回の真空引きで一貫して正孔注入層から陰極まで作製するのが好ましいが、途中で取り出して異なる製膜法を施しても構わない。その際、作業を乾燥不活性ガス雰囲気下で行う等の配慮が必要となる。As a method for thinning the organic compound thin film, there are a vapor deposition method and a wet process (spin coating method, casting method, ink jet method, printing method) as described above, but it is easy to obtain a uniform film and a pinhole. From the point of being difficult to form, a vacuum deposition method, a spin coating method, an ink jet method, and a printing method are particularly preferable. Further, a different film forming method may be applied for each layer. When a vapor deposition method is employed for film formation, the vapor deposition conditions vary depending on the type of compound used, but generally a boat heating temperature of 50 ° C. to 450 ° C., a vacuum degree of 10 −6 Pa to 10 −2 Pa, a vapor deposition rate of 0. It is desirable to select appropriately within the range of 01 nm / second to 50 nm / second, substrate temperature −50 ° C. to 300 ° C., film thickness 0.1 nm to 5 μm, preferably 5 nm to 200 nm. After forming these layers, a thin film made of a cathode material is formed thereon by a method such as vapor deposition or sputtering so as to have a film thickness of 1 μm or less, preferably in the range of 50 nm to 200 nm, and a cathode is provided. Thus, a desired organic EL element can be obtained. The organic EL element is preferably produced from the hole injection layer to the cathode consistently by a single evacuation, but may be taken out halfway and subjected to different film forming methods. At that time, it is necessary to consider that the work is performed in a dry inert gas atmosphere.

また作製順序を逆にして、陰極、電子注入層、電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、陽極の順に作製することも可能である。このようにして得られた多色の表示装置に、直流電圧を印加する場合には、陽極を+、陰極を−の極性として電圧2V〜40V程度を印加すると、発光が観測できる。また交流電圧を印加してもよい。なお、印加する交流の波形は任意でよい。   In addition, it is also possible to reverse the production order and produce the cathode, the electron injection layer, the electron transport layer, the light emitting layer, the hole transport layer, the hole injection layer, and the anode in this order. When a DC voltage is applied to the multicolor display device thus obtained, light emission can be observed by applying a voltage of about 2 V to 40 V with the anode as + and the cathode as-. An alternating voltage may be applied. The alternating current waveform to be applied may be arbitrary.

《光取出し及び集光技術》
有機EL素子は、空気よりも屈折率の高い(屈折率1.6〜2.1程度)層の内部で発光し、発光層で発生した光のうち15〜20%程度の光しか取り出せないことが一般的に言われている。これは、臨界角以上の角度θで界面(透明基板と空気との界面)に入射する光は、全反射を起こし有機EL素子外部に取り出すことができないことや、透明電極または発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極または発光層を導波し、結果として、光が素子側面方向に逃げるためである。
<< Light extraction and condensing technology >>
The organic EL element emits light inside a layer having a refractive index higher than that of air (refractive index of about 1.6 to 2.1), and only about 15 to 20% of light generated in the light emitting layer can be extracted. Is generally said. This is because light incident on the interface (interface between the transparent substrate and air) at an angle θ greater than the critical angle causes total reflection and cannot be extracted outside the organic EL element, or the transparent electrode or light emitting layer and the transparent substrate. This is because the light undergoes total internal reflection, and the light is guided through the transparent electrode or the light emitting layer, and as a result, the light escapes in the direction of the side of the device.

この光の取り出しの効率を向上させる手法としては、例えば、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板と空気界面での全反射を防ぐ方法(例えば、米国特許第4,77,4435号明細書)、基板に集光性を持たせることにより効率を向上させる方法(例えば、特開昭63−314795号公報)、有機EL素子の側面等に反射面を形成する方法(例えば、特開平1−220394号公報)、基板と発光体の間に中間の屈折率を持つ平坦層を導入し、反射防止膜を形成する方法(例えば、特開昭62−172691号公報)、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法(例えば、特開2001−202827号公報)、基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間(基板と外界間)に回折格子を形成する方法(特開平11−283751号公報)等がある。   As a technique for improving the light extraction efficiency, for example, a method of forming irregularities on the surface of the transparent substrate and preventing total reflection at the interface between the transparent substrate and the air (for example, US Pat. No. 4,77,4435). ), A method of improving the efficiency by providing the substrate with a light condensing property (for example, JP-A-63-314795), a method of forming a reflective surface on the side surface of the organic EL element, etc. No. 220394), a method of forming an antireflection film by introducing a flat layer having an intermediate refractive index between the substrate and the light emitter (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-172691), between the substrate and the light emitter. A method of introducing a flat layer having a lower refractive index than the substrate (for example, JP-A-2001-202827), a diffraction grating between any one of the substrate, the transparent electrode layer and the light emitting layer (between the substrate and the outside) Method of forming There is 11-283751 JP), and the like.

本発明においては、これらの方法を本発明の有機EL素子と組み合わせて用いることができるが、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法、あるいは基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間(含む、基板と外界間)に回折格子を形成する方法を好適に用いることができる。   In the present invention, these methods can be used in combination with the organic EL device of the present invention. However, a method of introducing a flat layer having a lower refractive index than the substrate between the substrate and the light emitter, or a substrate, transparent A method of forming a diffraction grating between any layers of the electrode layer and the light emitting layer (including between the substrate and the outside) can be suitably used.

本発明は、これらの手段を組み合わせることにより、さらに高輝度あるいは耐久性に優れた素子を得ることができる。   In the present invention, by combining these means, it is possible to obtain an element having higher luminance or durability.

透明電極と透明基板の間に低屈折率の媒質を光の波長よりも長い厚みで形成すると、透明電極から出てきた光は、媒質の屈折率が低いほど、外部への取り出し効率が高くなる。   When a low refractive index medium is formed between the transparent electrode and the transparent substrate with a thickness longer than the wavelength of light, the light extracted from the transparent electrode has a higher extraction efficiency to the outside as the refractive index of the medium is lower. .

低屈折率層としては、例えば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマー等が挙げられる。透明基板の屈折率は一般に1.5〜1.7程度であるので、低屈折率層は、屈折率がおよそ1.5以下であることが好ましい。またさらに1.35以下であることが好ましい。   Examples of the low refractive index layer include aerogel, porous silica, magnesium fluoride, and a fluorine-based polymer. Since the refractive index of the transparent substrate is generally about 1.5 to 1.7, the low refractive index layer preferably has a refractive index of about 1.5 or less. Furthermore, it is preferable that it is 1.35 or less.

また、低屈折率媒質の厚みは、媒質中の波長の2倍以上となるのが望ましい。これは、低屈折率媒質の厚みが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。   The thickness of the low refractive index medium is preferably at least twice the wavelength in the medium. This is because the effect of the low refractive index layer is diminished when the thickness of the low refractive index medium is about the wavelength of light and the electromagnetic wave that has exuded by evanescent enters the substrate.

全反射を起こす界面または、いずれかの媒質中に回折格子を導入する方法は、光取り出し効率の向上効果が高いという特徴がある。この方法は、回折格子が1次の回折や、2次の回折といった、いわゆるブラッグ回折により、光の向きを屈折とは異なる特定の向きに変えることができる性質を利用して、発光層から発生した光のうち、層間での全反射等により外に出ることができない光を、いずれかの層間もしくは、媒質中(透明基板内や透明電極内)に回折格子を導入することで光を回折させ、光を外に取り出そうとするものである。   The method of introducing a diffraction grating into an interface that causes total reflection or in any medium has a feature that the effect of improving the light extraction efficiency is high. This method uses the property that the diffraction grating can change the direction of light to a specific direction different from refraction by so-called Bragg diffraction, such as first-order diffraction or second-order diffraction. The light that cannot be emitted due to total internal reflection between layers is diffracted by introducing a diffraction grating into any layer or medium (in the transparent substrate or transparent electrode). , Trying to extract light out.

導入する回折格子は、二次元的な周期屈折率を持っていることが望ましい。これは、発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布を持っている一般的な1次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。   The introduced diffraction grating desirably has a two-dimensional periodic refractive index. This is because light emitted from the light-emitting layer is randomly generated in all directions, so in a general one-dimensional diffraction grating having a periodic refractive index distribution only in a certain direction, only light traveling in a specific direction is diffracted. The light extraction efficiency does not increase so much.

しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。   However, by making the refractive index distribution a two-dimensional distribution, light traveling in all directions is diffracted, and light extraction efficiency is increased.

回折格子を導入する位置としては前述のとおり、いずれかの層間もしくは、媒質中(透明基板内や透明電極内)でもよいが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が望ましい。   As described above, the position where the diffraction grating is introduced may be in any of the layers or in the medium (in the transparent substrate or the transparent electrode), but is preferably in the vicinity of the organic light emitting layer where light is generated.

このとき、回折格子の周期は、媒質中の光の波長の約1/2〜3倍程度が好ましい。回折格子の配列は、正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状等、2次元的に配列が繰り返されることが好ましい。   At this time, the period of the diffraction grating is preferably about 1/2 to 3 times the wavelength of light in the medium. The arrangement of the diffraction grating is preferably two-dimensionally repeated, such as a square lattice, a triangular lattice, or a honeycomb lattice.

《集光シートパーツ》
本発明の有機EL素子は、支持基盤(基板)の光取出し側に、例えばマイクロレンズアレイ上の構造を設けるように加工したり、あるいは、所謂集光シートと組み合わせることにより、特定方向、例えば素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることができる。
《Condensing sheet parts》
The organic EL device of the present invention can be processed to provide, for example, a structure on a microlens array on the light extraction side of a support base (substrate), or combined with a so-called condensing sheet, for example in a specific direction Condensing light in the front direction with respect to the light emitting surface can increase the luminance in a specific direction.

マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が30μmでその頂角が90度となるような四角錐を2次元に配列する。一辺は10〜100μmが好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付く、大きすぎると厚みが厚くなり好ましくない。   As an example of the microlens array, quadrangular pyramids having a side of 30 μm and an apex angle of 90 degrees are two-dimensionally arranged on the light extraction side of the substrate. One side is preferably 10 to 100 μm. If it becomes smaller than this, the effect of diffraction will generate | occur | produce and color, and if too large, thickness will become thick and is not preferable.

集光シートとしては、例えば液晶表示装置のLEDバックライトで実用化されているものを用いることが可能である。このようなシートとして例えば、住友スリーエム社製輝度上昇フィルム(BEF)等を用いることができる。プリズムシートの形状としては、例えば基材に頂角90度、ピッチ50μmの△状のストライプが形成されたものであってもよいし、頂角が丸みを帯びた形状、ピッチをランダムに変化させた形状、その他の形状であってもよい。   As the condensing sheet, for example, a sheet that is put into practical use in an LED backlight of a liquid crystal display device can be used. As such a sheet, for example, a brightness enhancement film (BEF) manufactured by Sumitomo 3M Limited can be used. As the shape of the prism sheet, for example, a substrate may be formed with a Δ-shaped stripe having an apex angle of 90 degrees and a pitch of 50 μm, or the apex angle is rounded and the pitch is changed randomly. Other shapes may be used.

また、発光素子からの光放射角を制御するために光拡散板・フィルムを、集光シートと併用してもよい。例えば、(株)きもと製拡散フィルム(ライトアップ)等を用いることができる。   Moreover, in order to control the light emission angle from a light emitting element, you may use together a light diffusing plate and a film with a condensing sheet. For example, a diffusion film (light-up) manufactured by Kimoto Co., Ltd. can be used.

《用途》
本発明の有機EL素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。発光光源として、例えば、家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特に、カラーフィルターと組み合わせた液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。
<Application>
The organic EL element of the present invention can be used as a display device, a display, and various light emission sources. Examples of light sources include home lighting, interior lighting, clock and liquid crystal backlights, billboard advertisements, traffic lights, light sources for optical storage media, light sources for electrophotographic copying machines, light sources for optical communication processors, and light sources for optical sensors. Although it is not limited to this, it can be effectively used especially as a backlight of a liquid crystal display device combined with a color filter and a light source for illumination.

カラーフィルターと組み合わせてディスプレイのバックライトとして用いる場合には、輝度をさらに高めるため、前記の集光シートと組み合わせて用いるのが好ましい。   When used as a backlight of a display in combination with a color filter, it is preferably used in combination with the light collecting sheet in order to further increase the luminance.

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、特に断りない限り、実施例中の「%」は「膜厚比(%)」を表す。また、実施例で用いる化合物の構造を以下に示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these. Unless otherwise specified, “%” in the examples represents “film thickness ratio (%)”. The structures of the compounds used in the examples are shown below.

実施例1
《有機EL素子1−1の作製》
陽極として30mm×30mm、厚さ0.7mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を120nm成膜した基板(支持基盤ともいう)にパターニングを行った後、このITO透明電極を付けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。この透明支持基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定した。
Example 1
<< Production of Organic EL Element 1-1 >>
Transparent support with this ITO transparent electrode after patterning on a substrate (also called support base) on which a 120 nm ITO (Indium Tin Oxide) film is formed on a 30 mm × 30 mm, 0.7 mm thick glass substrate as an anode The substrate was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and subjected to UV ozone cleaning for 5 minutes. This transparent support substrate was fixed to a substrate holder of a commercially available vacuum deposition apparatus.

真空蒸着装置内の蒸着用るつぼの各々に各層の構成材料を各々有機EL素子作製に最適の量充填した。蒸着用るつぼはモリブデン製またはタングステン製抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。   Each of the vapor deposition crucibles in the vacuum vapor deposition apparatus was filled with the constituent material of each layer in an optimum amount for producing an organic EL element. The evaporation crucible used was made of a resistance heating material made of molybdenum or tungsten.

次いで、真空度4×10-4Paまで減圧した後、m−MTDATAの入った前記蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で透明支持基板に蒸着し、40nmの正孔注入層を設けた。Next, after reducing the vacuum to 4 × 10 −4 Pa, the deposition crucible containing m-MTDATA was energized and heated, and deposited on the transparent support substrate at a deposition rate of 0.1 nm / second. A hole injection layer was provided.

さらに、表1に記載の混合比で、各層が形成されるように上記材料が装填された蒸着用るつぼに通電を行い、共蒸着または単独蒸着して正孔輸送層、各発光層及び各中間層を各々成膜した。   Furthermore, with a mixing ratio shown in Table 1, energization is performed to the evaporation crucible loaded with the above materials so that each layer is formed, and co-evaporation or single evaporation is performed to form a hole transport layer, each light emitting layer, and each intermediate layer. Each layer was deposited.

さらに、BAlqの入った前記蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で前記層上に蒸着して正孔阻止層を作製し、次いで同様にして電子輸送層を設けた。   Further, the deposition crucible containing BAlq was energized and heated, and deposited on the layer at a deposition rate of 0.1 nm / second to produce a hole blocking layer, and then an electron transport layer was provided in the same manner. .

さらに、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成し、有機EL素子1−1を作製した。   Furthermore, aluminum 110nm was vapor-deposited, the cathode was formed, and the organic EL element 1-1 was produced.

《有機EL素子1−2〜1−4の作製》
下記表1、2に記載のように各層の構成材料及び膜厚を変更した以外は、有機EL素子1−1と同様にして有機EL素子1−2〜1−4を作製した。
<< Production of Organic EL Elements 1-2 to 1-4 >>
Organic EL elements 1-2 to 1-4 were produced in the same manner as the organic EL element 1-1 except that the constituent materials and film thickness of each layer were changed as described in Tables 1 and 2 below.

《有機EL素子の封止化処理と正面輝度、色度、発光スペクトルの評価》
得られた有機EL素子1−1〜1−4の各々の非発光面をガラスケースで覆った。なお、ガラスカバーでの封止作業は、有機EL素子を大気に接触させることなく窒素雰囲気下のグローブボックス(純度99.999%以上の高純度窒素ガスの雰囲気下)で行った。図4、図5に示すような照明装置とした後、分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタセンシング社製)を用いて、各有機EL素子の正面輝度、色度及び発光スペクトルを評価した。
<< Seal treatment of organic EL element and evaluation of front luminance, chromaticity, emission spectrum >>
Each non-light-emitting surface of the obtained organic EL elements 1-1 to 1-4 was covered with a glass case. The sealing operation with the glass cover was performed in a glove box (in an atmosphere of high-purity nitrogen gas having a purity of 99.999% or more) in a nitrogen atmosphere without bringing the organic EL element into contact with the atmosphere. After making it into an illuminating device as shown in FIG. 4, FIG. 5, the front luminance, chromaticity, and emission spectrum of each organic EL element were evaluated using the spectral radiance meter CS-1000 (made by Konica Minolta Sensing).

また、有機EL素子1−1〜1−4の全ての素子は、2°視野角正面輝度1000cd/m2でのCIE1931表色系における色度がX=0.33±0.07、Y=0.33±0.07の範囲内にあった。Further, all of the organic EL elements 1-1 to 1-4 have a chromaticity in the CIE1931 color system with a 2 ° viewing angle front luminance of 1000 cd / m 2 and X = 0.33 ± 0.07, Y = It was within the range of 0.33 ± 0.07.

次いで、ディスプレイ用として市販されているカラーフィルターを組み合わせた際の色再現域を評価した。再現域は有機EL素子1−1とカラーフィルターの組み合わせにおいて、カラーフィルターBGR各画素の透過光の色度点を結ぶ三角形の面積を100とする相対値で示す。数値が大きいほど色再現域が広く優れている。これらの結果を表3及び図1、2に示す。   Subsequently, the color gamut when the color filter marketed for displays was combined was evaluated. The reproduction range is indicated by a relative value where the area of a triangle connecting the chromaticity points of the transmitted light of each pixel of the color filter BGR is 100 in the combination of the organic EL element 1-1 and the color filter. The larger the value, the wider and better the color reproduction range. These results are shown in Table 3 and FIGS.

表3より、本発明の発光スペクトル形状を有する有機EL素子は、色再現性において優れた性能を有することが明らかである。有機EL素子1−4は、青緑間の領域、及び緑赤間の領域の両者の発光極小強度が発光極大の60%以下であるが、緑赤間の発光極小強度が発光極大の45%以下である本発明の有機EL素子1−3の方がより色再現域が広い。   From Table 3, it is clear that the organic EL device having the emission spectrum shape of the present invention has excellent performance in color reproducibility. In the organic EL element 1-4, the emission minimum intensity of both the blue-green region and the green-red region is 60% or less of the emission maximum, but the emission minimum intensity between green and red is 45% or less of the emission maximum. A certain organic EL element 1-3 of the present invention has a wider color gamut.

実施例2
《有機EL素子2−1の作製》
下記表4、5に記載のように各層の構成材料及び膜厚を変更した以外は、実施例1の有機EL素子1−2と同様にして有機EL素子2−1を作製した。
Example 2
<< Preparation of Organic EL Element 2-1 >>
An organic EL element 2-1 was produced in the same manner as the organic EL element 1-2 of Example 1 except that the constituent materials and film thickness of each layer were changed as described in Tables 4 and 5 below.

《有機EL素子の封止化処理と正面輝度、色度、発光スペクトルの評価》
有機EL素子2−1を、実施例1で作製した有機EL素子1−2と同様にして封止化処理し、有機EL素子1−2と合わせて実施例1と同様にして正面輝度、色度、発光スペクトルの評価を行った。
<< Seal treatment of organic EL element and evaluation of front luminance, chromaticity, emission spectrum >>
The organic EL element 2-1 was sealed in the same manner as the organic EL element 1-2 produced in Example 1, and the front luminance and color were combined with the organic EL element 1-2 in the same manner as in Example 1. The emission spectrum was evaluated.

次いで、ディスプレイ用として市販されているカラーフィルターを組み合わせた際の色再現性を評価した。再現域は有機EL素子1−2を100とする相対値で示す。これらの結果を表6及び図3に示す。   Subsequently, the color reproducibility at the time of combining the color filter marketed for displays was evaluated. The reproduction range is indicated by a relative value where the organic EL element 1-2 is 100. These results are shown in Table 6 and FIG.

表6より、比較例の有機EL素子1−2と同じ材料を使い、有機層の膜厚を前記式(1)及び(2)に適合するようにして作製した本発明の有機EL素子2−1は、青緑間の領域の発光極小強度と発光極大強度の比が改善され、色再現域において優れた性能を有することが明らかである。   From Table 6, the same material as the organic EL element 1-2 of the comparative example was used, and the organic EL element 2- of the present invention produced by adjusting the film thickness of the organic layer to the formulas (1) and (2) was used. No. 1 clearly shows that the ratio between the light emission minimum intensity and the light emission maximum intensity in the region between blue and green is improved and has excellent performance in the color reproduction range.

実施例3
《白色照明装置の作製》
実施例1で得られた有機EL素子1−3及び2−1(いずれも本発明)の非発光面をガラスケースで覆い、図4、図5に示すような照明装置とした。照明装置は、発光効率が高く発光寿命の長い白色光を発する薄型の照明装置として使用することができた。図4は照明装置の概略図を示し、有機EL素子101は、ガラスカバー102で覆われている。なお、ガラスカバーでの封止作業は、有機EL素子101を大気に接触させることなく窒素雰囲気下のグローブボックス(純度99.999%以上の高純度窒素ガスの雰囲気下で行った)。図5は照明装置の断面図を示し、図5において、105は陰極、106は有機EL層、107は透明電極付きガラス基板を示す。なお、ガラスカバー102内には窒素ガス108が充填され、捕水剤109が設けられている。
Example 3
<Production of white lighting device>
The non-light emitting surfaces of the organic EL elements 1-3 and 2-1 (both of the present invention) obtained in Example 1 were covered with a glass case to obtain an illumination device as shown in FIGS. The illuminating device could be used as a thin illuminating device that emits white light with high luminous efficiency and long emission life. FIG. 4 is a schematic view of the lighting device, and the organic EL element 101 is covered with a glass cover 102. Note that the sealing operation with the glass cover was performed in a glove box under a nitrogen atmosphere without bringing the organic EL element 101 into contact with the air (in a high-purity nitrogen gas atmosphere having a purity of 99.999% or more). FIG. 5 is a cross-sectional view of the lighting device. In FIG. 5, reference numeral 105 denotes a cathode, 106 denotes an organic EL layer, and 107 denotes a glass substrate with a transparent electrode. The glass cover 102 is filled with nitrogen gas 108 and a water catching agent 109 is provided.

得られた照明装置に通電したところほぼ白色の光が得られ、照明装置として使用できることが分かった。   When the obtained illuminating device was energized, almost white light was obtained, and it was found that the illuminating device could be used.

Claims (9)

支持基盤上に少なくとも陽極、陰極及び該陽極と該陰極の間に複数の発光層を含む有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、
発光スペクトルが、440nm〜480nm(青領域)に発光極大A、500nm〜540nm(緑領域)に発光極大B、600nm〜640nm(赤領域)に発光極大Cを、各々異なる発光体による発光極大として有し、該発光極大Aと該発光極大B間の発光極小強度a、該発光極大Bと該発光極大C間の発光極小強度bが、各々隣接している発光極大の中で、低い発光強度を示す発光極大強度の60%以下であり、更に、該発光極小強度aまたは該発光極小強度bの少なくとも一つは、各々隣接している発光極大の45%以下の強度であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
In an organic electroluminescence device having an organic layer including at least an anode, a cathode, and a plurality of light emitting layers between the anode and the cathode on a support substrate,
Yes emission spectrum, 440Nm~480nm (blue region) in emission maximum A, 500nm~540nm (green region) emission maximum B, and emission maximum C to 600Nm~640nm (red region), as the emission maximum by each different emitters The light emission minimum intensity a between the light emission maximum A and the light emission maximum B and the light emission minimum intensity b between the light emission maximum B and the light emission maximum C each have a low light emission intensity among the adjacent light emission maximums. The emission minimum intensity is 60% or less, and at least one of the emission minimum intensity a and the emission minimum intensity b is an intensity of 45% or less of the adjacent emission maximum intensity. Organic electroluminescence device.
前記発光層に含まれるホスト化合物が、下記一般式(1)で表わされることを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
式中、Z 1 は置換基を有していてもよい芳香族複素環を表し、Z 2 は各々置換基を有していてもよい芳香族複素環または芳香族炭化水素環を表し、Z 3 は2価の連結基または単なる結合手を表す。R 101 は水素原子または置換基を表す。
ただし、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニル、ポリビニルカルバゾールは除く。
The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the host compound contained in the light emitting layer is represented by the following general formula (1).
In the formula, Z 1 represents an aromatic heterocyclic ring which may have a substituent, Z 2 represents an aromatic heterocyclic ring or an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, and Z 3 Represents a divalent linking group or a simple bond. R 101 represents a hydrogen atom or a substituent.
However, 4,4′-N, N′-dicarbazole biphenyl and polyvinyl carbazole are excluded.
前記発光層の隣接層に一般式(1)で表わされる化合物を含有することを特徴とする請求項2記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。The organic electroluminescent element according to claim 2, wherein the compound represented by the general formula (1) is contained in a layer adjacent to the light emitting layer. 前記発光層の隣接層が、正孔阻止層であることを特徴とする請求項3記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。The organic electroluminescence device according to claim 3, wherein the adjacent layer of the light emitting layer is a hole blocking layer. 前記複数の発光層間に非発光性の中間層を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。The organic electroluminescence device according to claim 1, further comprising a non-light emitting intermediate layer between the plurality of light emitting layers. 前記発光層の隣接層が、前記非発光性の中間層であることを特徴とする請求項5記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。6. The organic electroluminescent element according to claim 5, wherein the adjacent layer of the light emitting layer is the non-light emitting intermediate layer. 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子をバックライトとして有し、且つ、少なくともカラーフィルターをその構成部材の1つとして有することを特徴とする表示装置。 A display device comprising the organic electroluminescence element according to claim 1 as a backlight and at least a color filter as one of its constituent members. 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子をバックライトとして有することを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising the organic electroluminescence element according to claim 1 as a backlight. 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有することを特徴とする照明装置。 It has an organic electroluminescent element of any one of Claims 1-6 , The illuminating device characterized by the above-mentioned.
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