JP5691578B2 - 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 - Google Patents
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Description
即ち、電子写真感光体表面を帯電手段で所定の極性及び電位に帯電させ、帯電後の電子写真感光体表面を、像露光により選択的に除電することにより静電潜像を形成させた後、現像手段で該静電潜像にトナーを付着させることにより、潜像をトナー像として現像し、トナー像を転写手段で被転写媒体に転写させることにより、画像形成物として排出させるといったものである。
例えば、特許文献1には導電粉をフェノール樹脂に分散したものが提案されている。
また、特許文献2には、有機―無機ハイブリッド材料によるものが提案されている。
また、特許文献3には、連鎖重合性材料によるものが提案されている。
また、特許文献4には、アクリル系材料によるものが提案されている。
また、特許文献5には、放射線架橋剤と電荷輸送物質からなり、放射線架橋されたものが提案されている。
また、特許文献6〜8には、保護層(最表面層)形成用の塗布液に、可塑剤を添加することが提案されている。
請求項1に係る発明は、
連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を一分子内に持つ第1化合物の重合体と、
下記一般式(AA)で表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物から選択される少なくとも1種の第2化合物と、
を含んで構成される機能層を有する電子写真感光体。
前記機能層に含有される前記第2化合物の含有量が1質量%以上30質量%以下である、請求項1に記載の電子写真感光体。
請求項3に係る発明は、
前記一般式(AA)中、Raは水素原子又はメチル基を表し、Rbは炭素数1以上6以下のアルキル基を表す、請求項1又は請求項2に記載の電子写真感光体。
請求項4に係る発明は、
前記第2化合物は、25℃、1気圧下において液状の化合物である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
前記機能層が、最表面層である請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
前記第1化合物が、一分子内に前記連鎖重合性官能基を2つ以上持つ化合物である請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
前記第1化合物が、下記一般式(I)で表される化合物である請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
前記一般式(I)で表される化合物において、Dが、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基を表す請求項7に記載の電子写真感光体。
前記機能層が、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含む請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
請求項4に係る発明によれば、上記第2化合物が液状の化合物ではない場合い比べ、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象(ゴースト)の発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。
請求項5に係る発明によれば、上記機能層が最表面層ではない場合に比べ、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象(ゴースト)の発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。
請求項6に係る発明によれば、上記第1化合物として、一分子内に前記連鎖重合性官能基を2つ以上持つ化合物を適用しない場合に比べ、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象(ゴースト)の発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。
請求項7、8に係る発明によれば、上記第1化合物として、上記一般式(I)で表される化合物を適用しない場合に比べ、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象(ゴースト)の発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。
請求項9に係る発明によれば、上記機能層が熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含まない場合に比べ、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象(ゴースト)の発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。
本実施形態に係る電子写真感光体は、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を一分子内に持つ化合物(第1化合物:以下、特定の電荷輸送性材料と称することがある)の重合体と、下記一般式(AA)で表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物、下記一般式(BB)で表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物、フタル酸エステル、トリメリット酸エステル、脂肪酸エステル、多価アルコールエステル、及び多価アルコールエーテルから選択される少なくとも1種の化合物(第2化合物:以下、特定のエステル・エーテル化合物と称することがある)と、を含んで構成される機能層を有する電子写真感光体である。
これを抑制するには、前述の刺激を温和な条件にすれば解決されるが、温和な条件にすると、連鎖重合反応の際の分子運動が制限されるため、重合反応が進行し難く、膜強度が得られないことがある。
また、これらの結果、上記機能層は機械的強度が高く、当該機能層を最表面層として有すると、機械的強度も高く、長期に亘る繰り返し使用による電気特性及び画像特性の劣化が抑制される、つまり、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象(ゴースト)の発生が抑制されると考えられる。
また、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、及び画像形成装置では、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象(ゴースト)の発生を抑制した画像が得られる。そして、安定した画像が得られる。
最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層、及び最表面層として保護層を有し、該保護層が上記機能層で構成される形態が挙げられる。
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層として電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が上記機能層で構成される形態が挙げられる。
なお、上記機能層が最表面層以外の層を構成する場合、導電性基体上に、電荷発生層及び最表面層を含む感光層と共に、感光層上に最表面層として保護層を有し、該電荷輸送層が上記機能層で構成される形態が挙げられる。
図1は、実施形態に係る電子写真用感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図2乃至図3はそれぞれ他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。
また、図3に示す電子写真感光体7Cにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に単層型感光層6、保護層5が順次形成された構造を有するものである。
なお、図1乃至図3に示す電子写真感光体において、下引層1は設けてもよいし、設けなくてもよい。
導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜(例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム(ITO)等の膜)を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させたプラスチックフィルム等が挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。
なお、導電性基体は、例えば体積抵抗率が107Ω・cm未満の導電性を有するものがよい。
下引層は、導電性基体表面における光反射の防止、導電性基体から感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。
下引層に含まれる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが挙げられる。これらの中でも、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが望ましく用いられる。
また、導電性粒子は、疎水化処理剤(例えばカップリング剤)等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。
導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、10質量%以上80質量%以下であることが望ましく、より望ましくは40質量%以上80質量%以下である。
また、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂中とを含んで構成される。かかる電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.4゜、16.6゜、25.5゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.7゜、9.3゜、16.9゜、17.5゜、22.4゜及び28.8゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.5゜、9.9゜、12.5゜、16.3゜、18.6゜、25.1゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも9.6゜、24.1゜及び27.2゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は2種以上を混合して用いてもよい。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、例えば10:1乃至1:10の範囲が望ましい。
電荷輸送層は、電荷輸送性材料と、必要に応じて結着樹脂と、を含んで構成される。
なお、電荷輸送性材料と上記結着樹脂との配合比は、例えば10:1乃至1:5が望ましい。
電荷輸送層の膜厚は、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上40μm以下の範囲に設定される。
保護層は、特定の電荷輸送性材料の重合体、特定のエステル・エーテル化合物と、の重合体を含んで構成された機能層である。
具体的には、保護層(機能層)は、例えば、少なくとも特定の電荷輸送性材料と特定のエステル・エーテル化合物とを含む電荷輸送性組成物を塗布した後、特定の電荷輸送性材料を重合することで、硬化させた硬化膜からなる機能層である。
特定のエステル・エーテル化合物は、下記一般式(AA)で表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物(以下一般式(AA)の化合物と称することがある)、下記一般式(BB)で表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物(以下一般式(BB)の化合物)、フタル酸エステル、トリメリット酸エステル、脂肪酸エステル、多価アルコールエステル、及び多価アルコールエーテルから選択される少なくとも1種の化合物が適用される。
一般式(BB)中、A及びBは、それぞれ独立に炭素数1以上20以下のアルキレン基を表す。
一般式(AA)中、Rbが表すアルキル基、又はアリール基は、望ましくは炭素数が1以上50、より望ましくは炭素数が2以上以下20のものである。
アリール基としては、具体的には、例えば、置換、もしくは未置換のフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
一般式(AA)の化合物は、一般式(AA)で表される繰り返し単位単独の重合体であってもよく、当該繰り返し単位と他の繰り返し単位との共重合体であってもよい。
但し、一般式(AA)の化合物が一般式(AA)で表される繰り返し単位と他の繰り返し単位との共重合体の場合、一般式(AA)で表される繰り返し単位は、少なくとも5質量%以上(望ましくは10質量%以上)含むことがよい。
無論、一般式(AA)の化合物は、種類の異なる一般式(AA)で表される繰り返し単位の共重合体であってもよい。
なお、重量平均分子量Mwは、測定対象物のTHF(テトラヒドロフラン)可溶物を、東ソー(株)製GPC・HLC−8120、東ソー製カラム・TSKgel SuperHM−M(15cm)を使用し、THF溶媒で測定し、単分散ポリスチレン標準試料により作成した分子量校正曲線を使用して算出したものである。以下同様である。
当該単量体(モノマー)としては、例えば。イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等が挙げられる。
一般式(BB)の化合物は、一般式(BB)で表される繰り返し単位単独の重合体であってもよく、当該繰り返し単位と他の繰り返し単位との共重合体であってもよい。
但し、一般式(BB)の化合物が一般式(BB)で表される繰り返し単位と他の繰り返し単位との共重合体の場合、一般式(BB)で表される繰り返し単位は、少なくとも5質量%以上(望ましくは10質量%以上)含むことがよい。
無論、一般式(BB)の化合物は、種類の異なる一般式(BB)で表される繰り返し単位の共重合体であってもよい。
当該単量体(モノマー)としては、例えば、フタル酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が挙げられる。
なお、一般式(BB)の化合物の末端基としては、例えば、アリール基等が挙げられる。
フタル酸エステルとして、例えば、ベンジル2−エチルヘキシルフタレート、ベンジルブチルフタレート、ベンジルイソノニルフタレート、ビス(2−エチルヘキシル)フタレート、ジーn−オクチルフタレート、ジアミルフタレート、ジブチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジエチルフタレート、ジヘキシルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジイソプロピルフタレート、ジメチルイソフタレート、ジメチルフタレート、ジノニルフタレート、ジフェニルフタレート、ジプロピルフタレート、ジトリデシルフタレート、ジウンデシルフタレート(以上東京化成社製)等が挙げられる。
これらの中でも、ゴースト発生抑制の観点から、ジブチルフタレートがよい。
トリメリット酸エステルとしてはトリス(2−エチルヘキシル)トリメリット酸、トリメリット酸トリノルマルオクチル等が挙げられる。
脂肪酸エステルとしては、例えば、アジピン酸エステル、アゼライン酸エステル、フマル酸エステル、マレイン酸エステル、セバシン酸エステル、こはく酸エステル、オレイン酸エステル、クエン酸エステルが挙げられる。
脂肪酸エステルとしては、具体的には、例えば、二価のエステル(例えば、アジピン酸ビス(2−ブトキシエチル)、アジピン酸ビス(2−エチルヘキシル)、アゼライン酸ビス(2−エチルヘキシル)、アゼライン酸ビス(2−エチルヘキシル)、フマル酸ビス(2−エチルヘキシル)、マレイン酸ビス(2−エチルヘキシル)、セバシン酸ビス(2−エチルヘキシル)、アジピン酸ジ−n−アルキル(混合物)、セバシン酸ジ−n−オクチル、アジピン酸ジブチル、フマル酸ジブチル、マレイン酸ジブチル、セバシン酸ジブチル、アジピン酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、セバシン酸ジエチル、こはく酸ジエチル、アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジイソノニル、アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、マレイン酸ジメチル、セバシン酸ジメチル、アジピン酸ジプロピル、オレイン酸エチル、オレイン酸エチル、アジピン酸ヘプチルノニル、オレイン酸メチル(以上東京化成社製)等)、多価のエステル(例えば、ブチルフタリルブチルグリコラート、エチルフタリルエチルグリコラート、O−アセチルクエン酸トリエチル、O−アセチルリシノール酸メチル、クエン酸トリアミル、クエン酸トリブチル、O−アセチルクエン酸トリブチル、クエン酸トリエチル、クエン酸トリプロピル等)が挙げられる。
これらの中でも、ゴースト発生抑制の観点から、アジピン酸ビス(2−エチルヘキシルがよい。
多価アルコールエステル及び多価アルコールエーテルとしては、ジエチレン グリコール ジアセタート、ジエチレングリコールジベンゾアート、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、モノオレイン、トリアセチン、トリブチリン、トリエチレングリコールジアセタート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。
これらの中でも、ゴースト発生抑制の観点から、ジエチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールジブチルエーテルがよい。
特定の電荷輸送性材料は、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を一分子内に持つ化合物である。
一方、特定の電荷輸送性材料における電荷輸送性骨格としては、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が電荷輸送性骨格であるものが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格がよい。
この連鎖重合性官能基の数は、電荷輸送性組成物(塗布液)の安定性、電気特性の点から、20以下の範囲、10以下の範囲が挙げられる。
下記一般式(I)で表される化合物を適用すると、硬化膜の電気特性(電荷輸送性や、帯電性、残留電位等)が向上すると共に、これら特性が繰り返し使用によっても維持され易くなり、繰り返し使用によるゴーストの発生が抑制され易くなる。
特に、一般式(I)で表される化合物としては、Dが−(CH2)d−(O−CH2−CH2)e−O−CO−C(R’)=CH2(但し、R’は水素原子、又はメチル基を表し、dは1以上5以下の整数、eは0又は1を表す)を表し、Dの総数が4以上を表す化合物がよい。
本化合物を適用すると、硬化膜の電気特性(電荷輸送性や、帯電性、残留電位等)が向上すると共に、これら特性が繰り返し使用によっても維持され易くなり、繰り返し使用によるゴーストの発生が抑制され易くなる。また、架橋密度が上がり、より機械的強度の高い硬化膜が得られ易くなる。
なお、クリロイル基、メタクロイル基、ビニルフェニル基は、反応性が高く、得られる硬化膜の機械的強度が高まる傾向があり、好適である。
ここで、置換アリール基における置換基としては、Dで表される基以外のものとして、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数6以上10以下の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。
Ar1乃至Ar4としては、下記式(1)乃至(7)のうちのいずれか一つであることがよい。なお、下記式(1)乃至(7)は、Ar1乃至Ar4の各々に連結され得る「−(D)C1」乃至「−(D)C4」を総括的に表した「−(D)C」と共に表す。
即ち、特定の電荷輸送性材料は、例えば、前駆体であるアルコールを、対応するメタクリル酸、又はメタクリル酸ハロゲン化物と縮合させて合成する。特定の電荷輸送性材料は、例えば、前駆体であるアルコールがベンジルアルコール構造の場合、アルコールと、ヒドロキシエチルメタクリレート等の水酸基を有するメタクリル酸誘導体と、の脱水エーテル化などにより合成してもよい。
また、特定の電荷輸送性材料として、連鎖重合性官能基を4つ以上である化合物と、連鎖重合性官能基を1乃至3つ含む化合物と、を併用してもよい。この併用により、電荷輸送性能の低下を抑制しつつ、硬化膜の強度が調整される。
特定の電荷輸送性材料として、連鎖重合性官能基を4つ以上である化合物と、連鎖重合性官能基を1乃至3つ含む化合物と、を併用する場合、特定の電荷輸送性材料の総含有量に対して、連鎖重合性官能基を4つ以上である化合物の含有量を5質量%以上とすることがよく、特に20質量%以上とすることがよい。
この範囲とすることで、電気特性に優れ、硬化膜の厚膜化が実現される。
この公知の電荷輸送性材料としては、前述の電荷輸送層を構成する電荷輸送性材料として挙げられたものが用いられる。
保護層(機能層)を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、製膜性を確保する観点から、下記界面活性剤を含んでいてもよい。
この界面活性剤は、分子内に、(A)乃至(D)の構造を1種以上含有していればよく、2種以上を含有していてもよい。
(A)フッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造としては、特に制限されないが、フルオロアルキル基を有するアクリルモノマーを重合してなる構造であることが望ましく、パーフルオロアルキル基を有するアクリルモノマーを重合してなる構造であることがより望ましい。
(B)炭素−炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造としては、特に制限されないが、下記構造式(B1)及び(B2)の少なくとも一方で示される基であることが望ましい。
(B)の構造を有する界面活性剤がアクリル重合体の側鎖に構造式(B1)及び(B2)の少なくとも一方を有する化合物である場合には、アクリル構造が組成物中の他の成分となじみやすい性質を有しているため、均一な最表面層を形成しうる。
また、(B)の構造を有する界面活性剤が、構造式(B3)乃至(B5)のいずれかで示される化合物である場合には、塗布の際のはじきを防止する傾向にあり、塗膜欠陥を抑制しうる。
構造式(B3)乃至(B5)中、R’が表す1価の有機基としては、例えば、炭素数1以上30以下のアルキル基、炭素数1以上30以下のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
例えば、構造式(B3)乃至(B5)のいずれかで示される化合物として、フタージェント100、100C、110、140A、150、150CH、A−K、501、250、251、222F、FTX−218、300、310、400SW、212M、245M、290M、FTX−207S、FTX−211S、FTX−220S、FTX−230S、FTX−209F、FTX−213F、FTX−222F、FTX−233F、FTX−245F、FTX−208G、FTX−218G、FTX−230G、FTX−240G、FTX−204D、FTX−280D、FTX−212D、FTX−216D、FTX−218D、FTX−220D、FTX−222D(ネオス株式会社製)等が挙げられる。
また、アクリル重合体の側鎖に構造式(B1)及び(B2)の少なくとも一方を有する化合物としては、KB−L82、KB−L85、KB−L97、KB−L109、KB−L110、KB−F2L、KB−F2M、KB−F2S、KB−F3M、KB−FaM(ネオス株式会社製)等が挙げられる。
(C)アルキレンオキサイド構造としては、アルキレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイドを含む。具体的には、アルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどがあり、これらのアルキレンオキサイドの繰り返し数が2以上10000以下であるポリアルキレンオキサイドであってもよい。
(C)アルキレンオキサイド構造を有する界面活性剤としては、ポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。
ポリエチレングリコールとしては、平均分子量が2000以下のものが好ましく、平均分子量が2000以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール2000(平均分子量2000)、ポリエチレングリコール600(平均分子量600)、ポリエチレングリコール400(平均分子量400)、ポリエチレングリコール200(平均分子量200)等が挙げられる。
また、PE−M、PE−L(以上、和光純薬工業社製)、消泡剤No.1、消泡剤No.5(以上、花王社製)等のポリエーテル消泡剤も好適な例として挙げられる。
(C)アルキレンオキサイド構造の他に分子内にフッ素原子を含む界面活性剤として具体的には、例えば、メガファックF−443、F−444、F−445、F−446(以上、大日本インキ化学工業株式会社製)、フタージェント250、251、222F(以上、ネオス社製)、POLY FOX PF636、PF6320、PF6520、PF656(以上、北村化学社製)などが挙げられる。
(D)炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造としては特に制限はなく、この構造を有する界面活性剤としては、以下に示す化合物が挙げられる。
(D)炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造を有する界面活性剤としては、分子中に三重結合及び水酸基を有する化合物が挙げられ、具体的には、例えば、2−プロピン−1−オール、1−ブチン−3−オール、2−ブチン−1−オール、3−ブチン−1−オール、1−ペンチン−3−オール、2−ペンチン−1−オール、3−ペンチン−1−オール、4−ペンチン−1−オール、4−ペンチン−2−オール、1−ヘキシン−3−オール、2−ヘキシン−1−オール、3−ヘキシン−1−オール、5−ヘキシン−1−オール、5−ヘキシン−3−オール、1−ヘプチン−3−オール、2−ヘプチン−1−オール、3−ヘプチン−1−オール、4−ヘプチン−2−オール、5−ヘプチン−3−オール、1−オクチン−3−オール、1−オクチン−3−オール、3−オクチン−1−オール、3−ノニン−1−オール、2−デシン−1−オール、3−デシン−1−オール、10−ウンデシン−1−オール、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3−メチル−1−ペンテン−4−イン−3−オール、3−メチル−1−ペンチン−3−オール、5−メチル−1−ヘキシン−3−オール、3−エチル−1−ペンチン−3−オール、3−エチル−1−ヘプチン−3−オール、4−エチル−1−オクチン−3−オール、3,4−ジメチル−1−ペンチン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、3,6−ジメチル−1−ヘプチン−3−オール、2,2,8,8−テトラメチル−3,6−ノナジイン−5−オール、4,6−ノナデカジイン−1−オール、10,12−ペンタコサジイン−1−オール、2−ブチン−1,4−ジオール、3−ヘキシン−2,5−ジオール、2,4−ヘキサジイン−1,6−ジオール、2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオール、3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオール、2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール、(+)−1,6−ビス(2−クロロフェニル)−1,6−ジフェニル−2,4−ヘキサジイン−1,6−ジオール、(−)−1,6−ビス(2−クロロフェニル)−1,6−ジフェニル−2,4−ヘキサジイン−1,6−ジオール、2−ブチン−1,4−ジオール ビス(2−ヒロドキシエチル)、1,4−ジアセトキシ−2−ブチン、4−ジエチルアミノ−2−ブチン−1−オール、1,1−ジフェニル−2−プロピン−1−オール、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、9−エチニル−9−フルオレノール、2,4−ヘキサジインジイル−1,6−ビス(4−フェニルアゾベンゼンスルフォネート)、2−ヒドロキシ−3−ブチン酸、2−ヒドロキシ−3−ブチン酸 エチルエステル、2−メチル−4−フェニル−3−ブチン−2−オール、メチル プロパラギル エーテル、5−フェニル−4−ペンチン−1−オール、1−フェニル−1−プロピン−3−オール、1−フェニル−2−プロピン−1−オール、4−トリメチルシリル−3−ブチン−2−オール、3−トリメチルシリル−2−プロピン−1−ol等が挙げられる。
また、上記の化合物の水酸基の一部又は全部にエチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドが付加した化合物(例えば、サーフィノール400シリーズ(信越化学社製))等が挙げられる。
上記一般式(D1)又は(D2)で示される化合物の中でも、Ra、Rb、Rc、Rdが、アルキル基であるものが望ましい。また、Ra及びRbの少なくとも一方、Rc及びRdの少なくとも一方が分岐アルキル基であるものがより望ましい。更に、zは1以上10以下であることが望ましい。x及びyは、それぞれ1以上500以下であることが望ましい。
併用しうる界面活性剤としては、以下に挙げるフッ素原子を有する界面活性剤やシリコーン構造を有する界面活性剤が挙げられる。
即ち、(A)乃至(D)の構造を有する界面活性剤と併用しうるフッ素原子を有する界面活性剤としては、パーフルオロアルキルスルホン酸類(例えば、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸など)、パーフルオロアルキルカルボン酸類(例えば、パーフルオロブタンカルボン酸、パーフルオロオクタンカルボン酸など)、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルが好適に挙げられる。パーフルオロアルキルスルホン酸類、及びパーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩及びそのアミド変性体であってもよい。
パーフルオロアルキルスルホン酸類の市販品としては、例えば、メガファックF−114(大日本インキ化学工業株式会社製)、エフトップEF−101、EF102、EF−103、EF−104、EF−105、EF−112、EF−121、EF−122A、EF−122B、EF−122C、EF−123A(以上、JEMCO社製)、フタージェント 100、100C、110、140A、150、150CH、A−K、501(以上、ネオス社製)などが挙げられる。
パーフルオロアルキルカルボン酸類の市販品としては、例えば、メガファックF−410(大日本インキ化学工業株式会社製)、エフトップ EF−201、EF−204(以上、JEMCO社製)などが挙げられる。
パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルの市販品としては、メガファックF−493、F−494(以上、大日本インキ化学工業株式会社製)エフトップ EF−123A、EF−123B、EF−125M、EF−132、(以上、JEMCO社製)などが挙げられる。
また、全界面活性剤中、(A)乃至(D)の構造を有する界面活性剤は、1質量%以上含まれることが望ましい、10質量%以上含まれることがより望ましい。
1官能のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等が挙げられる。
ここで、保護層(機能層)を構成する硬化膜(架橋膜)は、上記各成分を含む電荷輸送性組成物を、熱、光、電子線など様々な方法にて硬化することで得られるが、硬化膜の電気特性、機械的強度等の特性のバランスを取るためには熱硬化が望ましい。通常、一般的なアクリル塗料などを硬化する際には無触媒で硬化が可能な電子線、短時間で硬化が可能な光重合が好適に用いられる。しかしながら、電子写真感光体は最表面層の被形成面となる感光層が感光材料を含むため、この感光材料にダメージを与え難くするため、また、得られる硬化膜の表面性状を高めるため、穏やかに反応を進められる熱硬化が望ましい。
したがって、熱硬化は無触媒で行ってもよいが、上記熱ラジカル発生剤又はその誘導体を触媒として用いることが望ましい。これにより、繰り返し使用による、ゴーストの発生が抑制され易くなる。
熱ラジカル発生剤又はその誘導体は特に限定されないが、保護層(機能層)の形成時における感光層中の感光材料のダメージを抑制するために、10時間半減期温度が40℃以上110℃以下のものが望ましい。
パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH,パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイルIB、パーロイル355、パーロイルL、パーロイルSA、ナイパーBW、ナイパーBMT−K40/M、パーロイルIPP、パーロイルNPP、パーロイルTCP、パーロイルOPP、パーロイルSBP、パークミルND、パーオクタND、パーヘキシルND、パーブチルND、パーブチルNHP、パーヘキシルPV、パーブチルPV、パーヘキサ250、パーオクタO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーブチルA、パーへヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ(以上、日油化学社製)、カヤケタールAM−C55、トリゴノックス36−C75、ラウロックス、パーカドックスL−W75、パーカドックスCH−50L、トリゴノックスTMBH、カヤクメンH、カヤブチルH−70、ペルカドックスBC−FF、カヤヘキサAD、パーカドックス14、カヤブチルC、カヤブチルD、カヤヘキサYD−E85、パーカドックス12−XL25、パーカドックス12−EB20、トリゴノックス22−N70、トリゴノックス22−70E、トリゴノックスD−T50、トリゴノックス423−C70、カヤエステルCND−C70、カヤエステルCND−W50、トリゴノックス23−C70、トリゴノックス23−W50N、トリゴノックス257−C70、カヤエステルP−70、カヤエステルTMPO−70、トリゴノックス121、カヤエステルO、カヤエステルHTP−65W、カヤエステルAN、トリゴノックス42、トリゴノックスF−C50、カヤブチルB、カヤカルボンEH−C70、カヤカルボンEH−W60、カヤカルボンI−20、カヤカルボンBIC−75、トリゴノックス117、カヤレン6−70(以上、化薬アクゾ社製)、ルペロックス LP(同:64℃)、ルペロックス 610(同:37℃)、ルペロックス 188(同:38℃)、ルペロックス 844(同:44℃)、ルペロックス 259(同:46℃)、ルペロックス 10(同:48℃)、ルペロックス 701(同:53℃)、ルペロックス 11(同:58℃)、ルペロックス 26(同:77℃)、ルペロックス 80(同:82℃)、ルペロックス 7(同:102℃)、ルペロックス 270(同:102℃)、ルペロックス P(同:104℃)、ルペロックス 546(同:46℃)、ルペロックス 554(同:55℃)、ルペロックス 575(同:75℃)、ルペロックス TANPO(同:96℃)、ルペロックス 555(同:100℃)、ルペロックス 570(同:96℃)、ルペロックス TAP(同:100℃)、ルペロックス TBIC(同:99℃)、ルペロックス TBEC(同:100℃)、ルペロックス JW(同:100℃)、ルペロックス TAIC(同:96℃)、ルペロックス TAEC(同:99℃)、ルペロックス DC(同:117℃)、ルペロックス 101(同:120℃)、ルペロックス F(同:116℃)、ルペロックス DI(同:129℃)、ルペロックス 130(同:131℃)、ルペロックス 220(同:107℃)、ルペロックス 230(同:109℃)、ルペロックス 233(同:114℃)、ルペロックス 531(同:93℃)(以上、アルケマ吉富社製)などが挙げられる。
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が用いられる。
また、市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−8239(以上、信越シリコーン社製)、AY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等が用いられる。
更に、撥水性等の付与のために、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の含フッ素化合物を加えてもよい。
シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で0.25倍以下とすることが望ましい。この使用量を超えると、架橋膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂(たとえば積水化学社製エスレックB、K等)、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などがあげられる。特に、電気特性の点でポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が望ましい。当該樹脂の重量平均分子量は2,000以上100,000以下が望ましく、5,000以上50,000以下がより望ましい。樹脂の分子量が2,000未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、100,000を超えると溶解度が低下して添加量が制限され、更には塗布時に製膜不良を招く傾向にある。また、当該樹脂の添加量は1質量%以上40質量%以下が望ましく、1質量%以上30質量%以下がより望ましく、5質量%以上20質量%以下が更に望ましい。当該樹脂の添加量が1質量%未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、40質量%を超えると高温高湿下(例えば28℃、85%RH)での画像ボケが発生しやすくなる。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては20質量%以下が望ましく、10質量%以下がより望ましい。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナマイド、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−o−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,5−ジ−t−アミルヒドロキノン、2−t−ブチル−6−(3−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)等が挙げられる。
粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径1nm以上100nm以下、望ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、又はエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。保護層(機能層)中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、電荷輸送性組成物(溶媒の除く全固形分質量)に対して、0.1質量%以上50質量%以下、望ましくは0.1質量%以上30質量%以下の範囲で用いられる。
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは1nm以上500nm以下、より望ましくは10nm以上100nm以下である。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、更に十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状が改善される。すなわち、強固な架橋構造中にバラツキが生じることなくに取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性が維持される。
保護層(機能層)中のシリコーン粒子の含有量は、電荷輸送性組成物(溶媒の除く全固形分質量)に対して、望ましくは0.1質量%以上30質量%以下、より望ましくは0.5質量%以上10質量%以下である。
かかる溶剤は1種を単独で又は2種以上を混合して使用可能であるが、望ましくは沸点が100度以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも1種以上の水酸基を持つ溶剤(例えば、アルコール類等)を用いることが望ましい。
なお、保護層形成用塗布液の重合(硬化)中の酸素濃度は1%以下が望ましく、1000ppm以下がより望ましく、500ppm以下が更に望ましい。
また、保護層があっても、その下層の電荷輸送層として上記機能層を適用してもよい。
図4は、実施形態に係る画像形成装置100を示す概略構成図である。
図4に示される画像形成装置100は、電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置(静電潜像形成手段)9と、転写装置(転写手段)40と、中間転写体50と、を備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光可能な位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。
なお、プロセスカートリッジ300は、電子写真感光体7を備え、画像形成装置に着脱される構成であれば、特に制限はなく、必要に応じて電子写真感光体7以外の装置(例えば、帯電装置(帯電手段)8、現像装置(現像手段)11、及びクリーニング装置13から選択される一つ)を電子写真感光体7と共に一体に支持した構成であってもよい。
図5に示される画像形成装置120は、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式のカラー画像形成装置である。
画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。
(電子写真感光体の作製)
−下引層の作製−
酸化亜鉛:(平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m2/g)100質量部をトルエン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM503:信越化学社製)1.3質量部を添加し、2時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤で表面処理を施した酸化亜鉛を得た。
表面処理を施した酸化亜鉛110質量部を500質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン0.6質量部を50質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50℃にて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、更に60℃で減圧乾燥を行い、アリザリンを付与させた酸化亜鉛を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート:0.005質量部、及びシリコーン樹脂粒子(トスパール145、GE東芝シリコーン社製):40質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基材上に塗布し、170℃、40分の乾燥硬化を行い、厚さ20μmの下引層を得た。
電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3゜,16.0゜,24.9゜,28.0゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニカー社製)10質量部、及びn−酢酸ブチル200質量部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液にn−酢酸ブチル175質量部、及びメチルエチルケトン180質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温(25℃)で乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン(以下、「TPD」と標記)48質量部、及びビスフェノールZポリカーボネート樹脂(以下、「PCZ500」と標記、粘度平均分子量:5万)52質量部をクロルベンゼン800質量部に加えて溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、130℃、45分の乾燥を行って膜厚が20μmの電荷輸送層を形成した。
一般式(I)で表される化合物(上記化合物i−10)30質量部、一般式(I)で表される化合物(上記化合物ii−18)70質量部、電荷輸送能を有さないモノマー(「BEP−500」新中村化学工業社製)20質量部をテトラヒドロフラン(THF)200質量部に溶解し、更に開始剤VE−73(和光純薬社製)2.4質量部、及びポリマー(4) 10質量部を溶解させ保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で145℃、40分加熱し、厚み7μmの保護層を形成した。
以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体1とする。
作製した電子写真感光体を富士ゼロックス社製「Color 1000 Plus」に装着し、10℃、15%RHの環境下において、15%ハーフトーン画像を連続して5万枚印刷した。
5万枚印刷後、同環境下で画像評価テスト(1)を行った。また、画像評価テスト(1)の後、画像形成装置を28℃、80%RHで24時間放置し、その後印刷した1枚目の画像の画質について同環境下で画質評価テスト(2)を行った。
ここで、画像評価テスト(1)及び画像評価テスト(2)では、以下に示す濃度ムラ、スジ、画像流れ、及び前画像の履歴が残ることで生じる残像現象(「ゴースト」と標記)について評価した。
なお、画像形成テストには、富士ゼロックスオフィスサプライ製 P紙(A4サイズ、横送り)を用いた。
評価結果は、表4に示す。
濃度ムラ評価は20%ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
A:濃度ムラの発生なし。
B:部分的に濃度ムラの発生あり。
C:画質上問題となる濃度ムラ発生。
スジ評価は20%ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
A:スジの発生なし。
B:部分的にスジの発生あり。
C:画質上問題となるスジ発生。
また、上記テストとともに画像流れの評価も以下のような要領で行った。
画像流れは20%ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
A:画像流れの発生なし。
B:連続的にプリントテストしている時は問題ないが、24時間放置後に発生。
C:連続的にプリントテストしている時にも発生。
ゴーストは、図6(A)に示したGと黒領域を有するパターンのチャートをプリントし、黒領域部分にGの文字の現れ具合を目視にて評価した。
A:図6(A)のように良好乃至軽微である。
B:図6(B)のように若干目立つ程度である
C:図6(C)のようにはっきり確認されることを示す。
また、画質評価テスト(1)、(2)時において電子写真感光体表面を観察し、以下のように評価した。
A:20倍に拡大しても傷、付着ともに見らせず良好。
B:20倍に拡大するとわずかな傷、若しくは付着物が見られる
C:肉眼でも傷、若しくは付着物が見られる。
(電子写真感光体の作製)
電荷輸送層までは実施例1と同様に作製し、保護層の組成を表1〜表3のように変更して、保護層形成用塗布液を得た。それぞれの塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で145℃、40分加熱し、7μmの保護層を形成した。
以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体2〜20、23〜24、比較感光体1〜3とする。
得られた感光体について、実施例1と同様な評価を行った。結果を表4〜表6に示す。
(電子写真感光体の作製)
電荷輸送層までは実施例1と同様に作製し、保護層の組成を表3のように変更して、保護層形成用塗布液を得た。その塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で、メタルハライドランプ(ウシオ電機社製)を用いて、照度700mW/cm2(365nm基準)、照射時間60秒にてUV照射を行った。150℃、40分加熱し、7μmの保護層を形成した。
以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体21とする。
得られた感光体について、実施例1と同様な評価を行った。結果を表6に示す。
(電子写真感光体の作製)
電荷発生層までは実施例1と同様に作製し、電荷輸送層の組成を表3に示すように変更し、使用溶剤量を250質量部に変更して、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で145℃、40分加熱し、20μmの電荷輸送層を形成した。
以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体22とする。
得られた感光体について、実施例1と同様な評価を行った。結果を表6に示す。
・BEP−100(新中村化学工業社製)
・PCZ−400: 三菱ガス化学社製のビスフェノールZポリカーボネート樹脂(粘度平均分子量4万)
・VE−73: 和光純薬工業製の開始剤(熱ラジカル発生剤)
・Iracure819: チバ スペシャリティ ケミカルズ社製の開始剤(光ラジカル発生剤)
・ジブチルフタレート:東京化成社製
・アジピン酸ビス(2−エチルヘキシル):東京化成工業株式会社社製(25℃、1気圧下で液状)
・ジエチレングリコールジアセテート:東京化成工業株式会社社製(25℃、1気圧下で液状)
・ジエチレングリコールジブチルエーテル: 東京化成工業株式会社社製(25℃、1気圧下で液状)
・ARUFON UP−1000: 一般式(AA)で表される繰り返し単位(Ra=水素原子(H)、Rb=ブチル基)からなる化合物、東亜合成社製、重量平均分子量Mw3000(25℃、1気圧下で液状)
・ARUFON UP−1170: 一般式(AA)で表される繰り返し単位(Ra=水素原子、Rb=ブチル基)からなる化合物、東亜合成社製、重量平均分子量Mw8000(25℃、1気圧下で液状)
・D643: 一般式(BB)で表される繰り返し単位(A=ブチレン基、B=ブチレン基)からなる化合物、株式会社 ジェイ・プラス社製、重量平均分子量Mw1800(25℃、1気圧下で液状)
・BA−2グリコール:日本乳化剤株式会社製(25℃、1気圧下で固体)
−合成例1−
窒素導入管、コンデンサーを装着した二口フラスコに、ブチルメタクリレート30質量部、トルエン50質量部、及びアゾビスイソブチロニトリル0.7質量部を採取し、窒素置換をした。その後攪拌しながら温度を徐々に90℃に上げ、3時間反応させた。その後減圧下溶剤を留去し、さらに空気を流しながら温度を140℃に上げ1時間攪拌し、25℃、1気圧下で液状のポリマー(1)を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Mwは9700(ポリスチレン換算)であった。
本ポリマー(1)は、一般式(AA)で表される繰り返し単位(Ra=メチル基、Rb=ブチル基)からなる化合物である。
−合成例2−
アゾビスイソブチロニトリル0.4質量部を用いた以外は、合成例1と同様にして、25℃、1気圧下で液状のポリマー(2)を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Mwは19000(ポリスチレン換算)であった。
−合成例3−
アゾビスイソブチロニトリル0.6質量部を用いた以外は、合成例1と同様にして、25℃、1気圧下で液状のポリマー(3)を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Mwは11000(ポリスチレン換算)であった。
−合成例4−
アゾビスイソブチロニトリル0.75質量部を用いた以外は、合成例1と同様にして、25℃、1気圧下で液状のポリマー(4)を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Mwは8000(ポリスチレン換算)であった。
Claims (11)
- 連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を一分子内に持つ第1化合物の重合体と、
下記一般式(AA)で表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物から選択される少なくとも1種の第2化合物と、
を含んで構成される機能層を有する電子写真感光体。
(一般式(AA)中、Raは、水素原子、又はアルキル基を表す。Rbは、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。) - 前記機能層に含有される前記第2化合物の含有量が1質量%以上30質量%以下である、請求項1に記載の電子写真感光体。
- 前記一般式(AA)中、Raは水素原子又はメチル基を表し、Rbは炭素数1以上6以下のアルキル基を表す、請求項1又は請求項2に記載の電子写真感光体。
- 前記第2化合物は、25℃、1気圧下において液状の化合物である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記機能層が、最表面層である請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記第1化合物が、一分子内に前記連鎖重合性官能基を2つ以上持つ化合物である請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記第1化合物が、下記一般式(I)で表される化合物である請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
(一般式(I)中、Ar1乃至Ar4は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Dは、炭素二重結合を持つ官能基を有する基を表し、c1乃至c5はそれぞれ独立に0、1又は2を表し、kは0又は1を表し、Dの総数は1以上である。) - 前記一般式(I)で表される化合物において、Dが、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基を表す請求項7に記載の電子写真感光体。
- 前記機能層が、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含む請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。 - 請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
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