JPH0822115A - Method for producing plotting data for plotting device - Google Patents
Method for producing plotting data for plotting deviceInfo
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- JPH0822115A JPH0822115A JP17615094A JP17615094A JPH0822115A JP H0822115 A JPH0822115 A JP H0822115A JP 17615094 A JP17615094 A JP 17615094A JP 17615094 A JP17615094 A JP 17615094A JP H0822115 A JPH0822115 A JP H0822115A
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、フオトマスク等のパタ
ーン作成等に用いられる描画装置用の描画データを作成
する方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of creating drawing data for a drawing apparatus used for creating patterns such as photomasks.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、半導体装置は、LSIのASIC
に代表されるように、ますます高集積化、高機能化して
きたが、このようなLSIの大規模集積化(高集積化)
はウエーハプロセスでの微細加工技術の進歩の上に成り
立っており、より多くのゲートを1チップに収容し、さ
らにチップサイズを小さくすることが要求されている。
これに伴い、上記ウエーハプロセスでの微細加工をする
際、ウエーハ上感光剤に投影露光ないし転写露光してウ
エーハのパターニングするフオトマスクにおいても、パ
ターンの高集積化、微細化が求められるようになってき
た。2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor devices have become LSI ASICs.
As shown in (1), higher integration and higher functionality have been achieved, but large-scale integration (high integration) of such LSI
Is based on the progress of fine processing technology in the wafer process, and it is required to accommodate more gates in one chip and further reduce the chip size.
Along with this, when performing microfabrication in the above-mentioned wafer process, even in a photomask for patterning the wafer by projection exposure or transfer exposure on the photosensitizer on the wafer, high integration and miniaturization of the pattern are required. It was
【0003】ところで、フオトマスク自体のパターニン
グは、通常、電子ビーム描画装置を用いて行うが、各電
子ビーム装置に合った台形データ等の所定の図形データ
を用いることが必要で、汎用の図形データ作成装置によ
り作成された汎用図形データを各電子ビーム描画装置に
合った台形データ等の所定フオーマットの図形データに
フオーマット変換する必要がある。この際、電子ビーム
描画装置用の描画データは階層構造を持たないフラット
なデータであるので、階層セル構造を持ったパターンデ
ータを用い、電子ビーム描画装置用描画データを作成す
る際には、階層構造を持った図形データを単にフラット
に展開して、電子ビーム描画装置用の描画データにフオ
ーマット変換を行っていた。この為、このフオーマット
変換は、扱う汎用図形データが多くなるに従い、フオー
マット変換の為の処理時間が多くなる。この為、LSI
の大規模集積化(高集積化)、高機能化に伴い、この処
理時間の占める割合が次第に多くなり、問題視されるよ
うになってきた。By the way, the patterning of the photomask itself is usually carried out by using an electron beam drawing apparatus, but it is necessary to use predetermined graphic data such as trapezoidal data suitable for each electron beam apparatus, and general purpose graphic data creation. It is necessary to perform format conversion of general-purpose graphic data created by the apparatus into graphic data of a predetermined format such as trapezoidal data suitable for each electron beam drawing apparatus. At this time, since the drawing data for the electron beam drawing apparatus is flat data without a hierarchical structure, pattern data having a hierarchical cell structure is used to create the drawing data for the electron beam drawing apparatus with a hierarchical structure. The structured graphic data was simply expanded into flat data, and the format conversion was performed on the drawing data for the electron beam drawing device. Therefore, in this format conversion, the processing time for the format conversion increases as the number of general-purpose graphic data handled increases. Therefore, LSI
Due to the large-scale integration (high integration) and high functionality of, the proportion of this processing time has gradually increased, and has become a problem.
【0004】[0004]
【解決しようとする課題】このように、半導体素子の高
集積化、高機能に伴い、半導体素子用のフオトマスクに
おいても、高集積化、微細化が求められ、フオトマスク
作製に用いられる、汎用の図形データ作成装置により作
成された汎用図形データの量も、一層増大化している。
汎用図形データの量の増大化に対しては、階層化した階
層セル構造にすることにより、扱うデーター量を少なく
することができるが、電子ビーム描画装置にて使用する
際には、階層構造を持った図形データをフラットに展開
して、電子ビーム描画装置用の描画データにフオーマッ
ト変換する必要があり、フオーマット変換処理において
は、階層化された図形データの特性をうまく利用できて
いないのが実情で、階層化された図形データから各電子
ビーム描画装置の固有のフオーマット変換に要する時間
をできるだけ少なくする処理方法が求められていた。本
発明は、このような状況のもと、フオーマット変換に要
する時間を少なくして、各電子ビーム描画装置用の固有
のフオーマットからなる描画データを作成できる処理方
法を提供しようとするものである。As described above, with the high integration and high functionality of semiconductor elements, photomasks for semiconductor elements are also required to have high integration and miniaturization, and are used for general-purpose graphics used for photomask fabrication. The amount of general-purpose graphic data created by the data creation device is also increasing.
To increase the amount of general-purpose graphic data, it is possible to reduce the amount of data handled by using a hierarchical cell structure, but when using it in an electron beam lithography system, the hierarchical structure It is necessary to expand the graphic data that they have into a flat pattern and perform format conversion into the drawing data for the electron beam lithography system.The fact is that the characteristics of layered graphic data cannot be used well in the format conversion process. Therefore, there has been a demand for a processing method for minimizing the time required for the format conversion peculiar to each electron beam drawing apparatus from hierarchical figure data. Under such circumstances, it is an object of the present invention to provide a processing method capable of reducing the time required for format conversion and creating drawing data having a unique format for each electron beam drawing apparatus.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明の電子ビーム描画
装置用の描画データの作成方法は、階層セル構造をもっ
たパターンデータから電子ビーム描画装置用の描画デー
タを作製する方法であって、少なくとも、順に(A)階
層構造をもったデータを入力し、ボトムセルからトップ
セルに向かって、セル境界に接するデータを上位セルの
座標系に変換して上位セルに展開した後、セル単位で図
形の合成及び分離を行う工程、(B)セル引用情報か
ら、引用セル、セルの配置、回転、繰り返し等を表す一
覧情報であるマトリクス情報を作成し、この情報に基づ
く全てのルートセル内の図形データを、この情報と前記
セル単位で図形の合成及び分離を行い得られた図形デー
タとから、該図形データをルートセルの座標系へ変換し
てルートセル内の図形データとして作成する工程、
(C)前記変換され作成されたルートセル内の図形デー
タを含めたルートセルの全ての図形データについて、描
画装置用の描画データにフオーマット変換する工程、と
を有することを特徴とするものである。そして、上記の
マトリクス情報を作成し、この情報に基づいて、全ての
図形データをルートセルの座標系へ変換し、ルートセル
内の図形データとする工程が、マトリクス情報に基づい
て、台形図形データと接していない矩形図形データに関
しては全てルートセルの座標系に変換してルートセル図
形データを得る第一の工程、台形図形データないし台形
図形データに接した矩形図形データについては0°、1
80°系で引用されているもののみルートセルの座標系
に変換してルートセルの図形データを得る第二の工程、
それ以外の90°、270°系については、セル枠及び
セル内図形を90°回転させたセルを対応して作成し、
得られたセルについてセル毎に図形データについて図形
の合成及び分離を行い、台形図形データと接していない
矩形図形データと、台形図形データないし台形図形デー
タに接した矩形図形データとに分離した図形データを作
成し、且つ、セル引用情報から作製されたマトリクス情
報に引用セルの引用する角度についての補正情報を付与
しておき、前記90°、270°系のデータが、−90
°回転された図形データを0°、180°系で引用して
いるものとして、ルートセルの座標系に変換してルート
セル図形データを得る第三の工程とからなることを特徴
とするものである。又、上記における描画装置の描画デ
ータが、上底と下底をXないしYの一方向にのみもつ4
頂点台形フオーマットで全ての図形を表すものであるこ
とを特徴とするものであり、特に、描画装置が電子ビー
ム描画装置ないし光露光装置であることを特徴とするA method for creating drawing data for an electron beam drawing apparatus according to the present invention is a method for creating drawing data for an electron beam drawing apparatus from pattern data having a hierarchical cell structure. At least, input data with hierarchical structure (A) in order, convert the data that touches the cell boundary from the bottom cell to the top cell to the coordinate system of the upper cell, expand it to the upper cell, and then draw the figure in cell units. Step (B) of synthesizing and separating cells, and (B) cell citation information is used to create matrix information that is list information indicating citation cells, cell placement, rotation, repetition, etc., and graphic data in all root cells based on this information. From this information and the figure data obtained by combining and separating figures in cell units, the figure data is converted into the coordinate system of the root cell to obtain a diagram in the root cell. The step of creating as data,
(C) converting all the graphic data of the root cell including the graphic data in the converted and created root cell into the drawing data for the drawing apparatus, according to the format conversion. Then, the process of creating the above matrix information, converting all the figure data into the coordinate system of the root cell based on this information, and making it the figure data in the root cell, the trapezoid figure data is contacted based on the matrix information. For the rectangular figure data that is not included, the first step of obtaining all the root cell figure data by converting into the coordinate system of the root cell, 0 °, 1 for the trapezoid figure data or the rectangular figure data in contact with the trapezoid figure data.
The second step of obtaining only the graphic data of the root cell by converting into the coordinate system of the root cell only the ones quoted in the 80 ° system,
For other 90 ° and 270 ° systems, create the corresponding cells by rotating the cell frame and the in-cell figure by 90 °,
For each cell obtained, the figures are combined and separated for each figure, and the figure data is separated into rectangular figure data that is not in contact with trapezoidal figure data and trapezoidal figure data or rectangular figure data that is in contact with trapezoidal figure data. And the correction information about the angle quoted by the quoted cell is added to the matrix information created from the cell quoted information, and the 90 ° and 270 ° data is -90.
The third step is to obtain the root cell graphic data by converting the rotated graphic data in the 0 ° and 180 ° system and converting it into the coordinate system of the root cell. Further, the drawing data of the drawing device described above has the upper bottom and the lower bottom only in one direction of X or Y.
The apex trapezoidal format is used to represent all figures, and in particular, the drawing apparatus is an electron beam drawing apparatus or an optical exposure apparatus.
【0006】尚、ここでは、上位セルに展開するとは、
下位のセルを引用している上位のセルへ、下位の図形デ
ータを組入れ、下位のセルからはその図形データを取り
除く処理を言っている。又、0°、180°系とは、セ
ルが上位のセルに引用される際に、0°回転(回転無
し)、180°回転で引用されることを意味し、90
°、270°系とは、セルが上位のセルに引用される際
に、90°回転、270°回転で引用されることを意味
しており、上位セルが下位のセルを引用する場合、0
°、90°、180°、270°の4種のみが普通であ
る。[0006] In this case, expansion to the upper cell means
This is a process of incorporating lower-order graphic data into a higher-order cell that is citing a lower-order cell, and removing the graphic data from the lower-order cell. Further, the 0 ° and 180 ° systems mean that when a cell is referred to as a higher-order cell, it is referred to as 0 ° rotation (no rotation) or 180 ° rotation.
The term “270 ° system” means that when a cell is quoted by an upper cell, it is quoted by 90 ° rotation and 270 ° rotation.
Only the four types, °, 90 °, 180 ° and 270 ° are common.
【0007】マトリクス情報とは、セル引用情報から、
引用セル、セルの配置、回転、繰り返し等を表す一覧情
報であり、各図形データがルートセルにどのように配置
されるか、どれだけ配置されるかを情報としてもってお
り、これにより、各図形データを直接ルートセルの座標
系に変換してルートセル内図形として得ることができ
る。[0007] Matrix information is, from cell citation information,
It is a list of information that indicates quoted cells, cell placement, rotation, repetition, etc., and has information about how each figure data is placed in the root cell and how much it is placed. Can be directly converted into the coordinate system of the root cell to obtain the figure in the root cell.
【0008】[0008]
【作用】本発明の電子ビーム描画装置用の描画データの
作成方法は、上記のような構成にすることにより、階層
構造のパターンデータを階層構造を利用して、効率良
く、確実に描画装置用の描画データにフオーマット変換
できるものとしている。詳しくは、入力データのセル境
界(セル枠)に接する図形データを上位セルの座標系に
変換し、その後セル単位で図形の合成と分離を行うこと
により、セル境界の微小図形の数を減少させ、処理する
図形データ数を減らしている。ルートセルの座標系に変
換する際に、セルが0°、180°系回転で引用されて
いる場合は、図形データをそのままルートセルの座標系
に変換し、セルが90°、270°系回転で引用されて
いる場合は、セル枠及びセル内の図形を、一旦、90°
回転させたデータを作成し、図形合成、分離を行った
上、マトリックス情報に90°補正を加えて、ルートセ
ルの座標系に変換を行うことにより、引用セルが0°、
180°系、90°、270°系のいずれであっても、
又、そのセルが複数回使用されていても、各セルについ
て最大2回しか、合成、分離の演算処理をしない為、効
率の良い変換ができる。そして、フラットな状態になっ
た場合にX乃至Y方向の一方向の台形と、矩形しか存在
しないため、描画装置の描画データが、上底と下底をX
ないしYの一方向にのみもつ4頂点台形フオーマットで
全ての図形を表すものである場合には、フオーマット変
換処理による図形数の増加を抑えることが可能である。According to the method of creating drawing data for an electron beam drawing apparatus of the present invention, the pattern data having a hierarchical structure can be efficiently and surely used for the drawing apparatus by utilizing the hierarchical structure. It is assumed that the drawing data can be converted to format. For details, reduce the number of minute figures at the cell boundary by converting the figure data that touches the cell boundary (cell frame) of the input data to the coordinate system of the upper cell and then combining and separating the figures in cell units. , The number of graphic data to be processed is reduced. When converting to the coordinate system of the root cell, if the cell is quoted with a rotation of 0 ° or 180 °, the graphic data is converted to the coordinate system of the root cell as it is, and the cell is quoted with a rotation of 90 ° or 270 °. If the cell frame and the figure in the cell are
By creating rotated data, performing figure composition and separation, adding 90 ° correction to the matrix information, and converting to the coordinate system of the root cell, the quoted cell is 0 °,
Whether it is a 180 ° system, a 90 ° system, or a 270 ° system,
Further, even if the cell is used a plurality of times, efficient conversion can be performed because the synthesizing and separating arithmetic processing is performed only twice for each cell. In the flat state, since there are only trapezoids in one direction in the X to Y directions and rectangles, the drawing data of the drawing apparatus draws X and X in the upper and lower bases.
In the case where all the figures are represented by the four-vertex trapezoidal format having only one direction of Y, it is possible to suppress an increase in the number of figures due to the format conversion processing.
【0009】[0009]
【実施例】本発明の描画装置用の描画データの作成方法
の実施例を挙げる。簡単の為、図2に示すセル構造を持
つパターンデータを描画データに変換する場合につい
て、図1の本実施例のフローチャートに沿って説明す
る。図2(a)に示すように、ルートセル(セルTO
P)にセルA、セルBが引用されており、セルAは1
回、セルBは2回引用されている。セルBについては、
一方は回転無しで引用され、もう一方は+90°回転さ
せて引用されている。図3に示すように、ルートセル
(セルTOP)は、セルA、セルBの他に図形31、3
2、33、34、35を持っている。EXAMPLE An example of a method of creating drawing data for a drawing apparatus according to the present invention will be described. For simplification, the case of converting the pattern data having the cell structure shown in FIG. 2 into the drawing data will be described with reference to the flowchart of the present embodiment of FIG. As shown in FIG. 2A, the root cell (cell TO
P) refers to cells A and B, and cell A has 1
Times, cell B is quoted twice. For cell B,
One is quoted without rotation, the other is rotated + 90 °. As shown in FIG. 3, the root cell (cell TOP) includes the figures 31, 3 in addition to the cells A, B.
I have 2, 33, 34, 35.
【0010】先ず、セルAに着目すると、図2(b)に
示すように、このセル内にはセル境界20Aに接してい
る図形21、22が存在する。そこでこの図形21、2
2をセルAを引用している上位セル(セルTOP)の座
標系に変換、展開して上位セルとして図4に示すものを
得た(図1の(a))。図形41、42がセルAからセ
ルTOPに展開された図形である。次いで展開後のセル
Aについて図形の合成、分離を行い(図1の(b))、
台形図形データに接しない矩形図形データと、台形図形
データないし台形図形データに接した矩形図形データと
に分類して出力する(図1の(c))。この段階でセル
Aは図5(a)に示すようになる。図5(a)におい
て、図形は台形図形データに接しない矩形図形データ
に、図形、、は台形図形データないし台形図形デ
ータに接した矩形図形データの方に分類される。次に、
セルBに着目すると、図2(c)に示すように、セルB
についてはセル境界20Bに接している図形がないの
で、上位セルの座標系への変換処理は行わない。セルB
についても図形の合成、分離は行われ、図5(b)に示
すようになり、図形、は台形図形データないし台形
図形データに接した矩形図と分類して出力する。セルT
OPについてはルートセルであるので、セル内の図形の
合成のみ行われるが、ここでは、セルAから上位セルの
座標系に変換された図形とセルTOPにあった図形の合
成が行われて、図形6に示すようになる。図形61はセ
ルAから展開された図4における図形41とセルTOP
にもともとある図3に示す図形31とから合成されてい
ることを示しており、図形62はセルAから展開された
図4における図形42とセルTOPにもともある図3に
示す図形32と33とから合成されていることを示して
いる。ルートセルであるセルTOPの図形は全て、台形
図形データに接しない矩形図形データに分類される。First, focusing on the cell A, as shown in FIG. 2B, there are figures 21 and 22 in contact with the cell boundary 20A in this cell. So these figures 21, 2
2 was converted into the coordinate system of the upper cell (cell TOP) quoting the cell A and expanded to obtain the upper cell shown in FIG. 4 ((a) in FIG. 1). Figures 41 and 42 are figures expanded from the cell A to the cell TOP. Then, for the expanded cell A, figures are combined and separated ((b) in FIG. 1).
The rectangular graphic data not in contact with the trapezoidal graphic data and the trapezoidal graphic data or the rectangular graphic data in contact with the trapezoidal graphic data are classified and output ((c) of FIG. 1). At this stage, the cell A becomes as shown in FIG. In FIG. 5A, the figures are classified into rectangular figure data not in contact with the trapezoidal figure data, and figures are classified into trapezoidal figure data or rectangular figure data in contact with the trapezoidal figure data. next,
Focusing on the cell B, as shown in FIG.
For, there is no figure in contact with the cell boundary 20B, so conversion processing to the coordinate system of the upper cell is not performed. Cell B
5B, the figures are combined and separated as shown in FIG. 5B, and the figures are classified as trapezoidal figure data or a rectangular figure in contact with the trapezoidal figure data and output. Cell T
Since the OP is the root cell, only the figures in the cell are combined, but here, the figure converted from the coordinate system of the cell A to the coordinate system of the upper cell and the figure in the cell TOP are combined to form the figure. As shown in 6. The graphic 61 is the graphic 41 expanded from the cell A and the cell TOP in FIG.
It is shown that the graphic 62 is originally combined with the graphic 31 shown in FIG. 3, and the graphic 62 is expanded from the cell A in FIG. 4 and the graphic 32 and 33 shown in FIG. It is shown that they are synthesized from. All the figures of the cell TOP, which is the root cell, are classified into rectangular figure data that do not contact the trapezoidal figure data.
【0011】次に、引用セルの図形データをルートセル
座標系へ変換して、ルートセルの図形データを作成する
処理を説明する。各セルをルートセルの座標系に変換す
る場合、図1に示す引用情報から得られた、引用セル、
配置、回転等の情報の一覧表であるマトリクス情報Mを
参照にして、変換を行う。セルAをルートセルの座標系
に変換する場合、マトリクス情報Mより、このセルは引
用されるとき回転がかかっていないので、矩形図形デー
タ、台形図形データともにこのままルートセルの座標系
に変換し(図1の(d))、ルートセルの図形データと
する。この時点ではルートセルは、図7に示すようにな
る。白ぬきの図形がセルAからの変換された図形であ
る。セルBをルートセルの座標系に変換する場合、マト
リクス情報より、0°回転されて(回転無しで)引用さ
ているものと+90°回転されて引用されるものとが有
ることが分るが、図8に示すように、回転無しの方は、
このままルートセルの座標系に変換され(図1の
(e))、ルートセルの図形データとする。セルBの9
0°回転されて引用される方に関しては、このままルー
トセルの座標系に変換されずに、対応するセルAのセル
枠とセル内図形を、一旦、−90°回転させ、図9
(a)に示すようなデータを作成する。(図1の
(f)) 次いで、この−90°回転させたデータに対し、セル単
位で図形の合成、分割を行った(図1の(g))後に、
図9(b)に示すようになるが、この図形データを、台
形データに接しない矩形図形データと、台形図形データ
ないし台形データに接した矩形図形データとに分類す
る。(図1の(h)) 分類された図形データについては、別に、セル引用情報
フアイルより求めたマトリクス情報Mに+90°補正情
報を付与したもの(M1)に基づき、先に−90°回転
したセルを、0°、180°系で引用するものと判断
し、ルートセル単位系に変換し(図1の(i))ルート
セルの図形データとする。以上より、引用される各セル
の図形を用い、マトリクス情報に基づくルートセル内の
全図形データを、引用される各セルの図形データをルー
トセル座標系に変換することにより得ることができる。
結果、ルートセルを図形データだけで表すと、図10に
示すようなる。上記においては、−90°回転させてた
ため、マトリクス情報Mに+90°補正情報を付与した
もの(M1)を用いたが、+90°回転させてもよく、
この場合はマトリクス情報Mに−90°補正情報を付与
したものを用いる。Next, the process of converting the graphic data of the quoted cell into the root cell coordinate system and creating the graphic data of the root cell will be described. When converting each cell to the coordinate system of the root cell, the quoted cell obtained from the quoted information shown in FIG.
The conversion is performed with reference to the matrix information M, which is a list of information such as arrangement and rotation. When the cell A is converted into the coordinate system of the root cell, since this cell is not rotated when being quoted from the matrix information M, both the rectangular figure data and the trapezoid figure data are converted into the coordinate system of the root cell as they are (see FIG. 1). (D)), the graphic data of the root cell. At this point, the root cell is as shown in FIG. The white shape is the converted shape from cell A. When transforming cell B into the coordinate system of the root cell, it can be seen from the matrix information that there are those quoted after being rotated by 0 ° (without rotation) and those quoted after being rotated by + 90 °. As shown in 8, if there is no rotation,
As it is, it is converted into the coordinate system of the root cell ((e) in FIG. 1) and used as the graphic data of the root cell. Cell B 9
Regarding the one which is referred to by being rotated by 0 °, the cell frame and the in-cell graphic of the corresponding cell A are once rotated by −90 ° without being converted to the coordinate system of the root cell as they are, and the result is shown in FIG.
Data as shown in (a) is created. ((F) of FIG. 1) Next, with respect to the data rotated by −90 °, figures are synthesized and divided in cell units ((g) of FIG. 1).
As shown in FIG. 9B, this graphic data is classified into rectangular graphic data not in contact with the trapezoidal data and trapezoidal graphic data or rectangular graphic data in contact with the trapezoidal data. ((H) of FIG. 1) Regarding the classified graphic data, based on the matrix information M obtained from the cell citation information file with + 90 ° correction information (M1), it is rotated by −90 ° previously. It is determined that the cell is quoted in the 0 °, 180 ° system, and converted into the root cell unit system ((i) in FIG. 1) to be used as the root cell graphic data. As described above, by using the figure of each cell to be quoted, all the figure data in the root cell based on the matrix information can be obtained by converting the figure data of each cell to be cited into the root cell coordinate system.
As a result, the root cell is represented by only the graphic data as shown in FIG. In the above, since the matrix information M is rotated by −90 °, the matrix information M to which + 90 ° correction information is added (M1) is used, but it may be rotated by + 90 °.
In this case, matrix information M to which −90 ° correction information is added is used.
【0012】以上の説明によれば、ルートセルから見
て、引用セルが0、180°系、90°、270°系の
どちらであっても、且つ、そのセルが複数回使用されて
いても、各セルについて最大2回しか、合成、分割の演
算処理しない為、効率の良い変換が可能である。According to the above description, whether the quoted cell is 0, 180 ° system, 90 °, 270 ° system as viewed from the root cell and the cell is used a plurality of times, Since the combining and dividing operations are performed only twice at maximum for each cell, efficient conversion is possible.
【0013】そして、図形データだけで表されたルート
セルの、図形データ全てを電子ビーム描画装置用の描画
データにフオーマット変換する。(図1の(j)) 次いで、このフオーマット変換された描画データを用い
フオトマスクの描画を行う。(図1の(k))Then, all of the graphic data of the root cell represented only by the graphic data is converted into the drawing data for the electron beam drawing apparatus. ((J) of FIG. 1) Next, the drawing of the photomask is performed using the drawing data subjected to the format conversion. ((K) in Figure 1)
【0014】[0014]
【発明の効果】本発明の電子ビーム描画装置用の描画デ
ータの作成方法は、上記のように、描画データの作成時
間の短縮、及び処理する図形データ数の減少を可能とし
ており、結局、半導体素子の高集積化、高機能化に対応
した、高集積度の、微細なパターンを持つフオトマスク
の描画データ作成作業を実用レベルで行えるものとして
いる。As described above, the method for creating drawing data for an electron beam drawing apparatus of the present invention can shorten the time for creating drawing data and the number of graphic data to be processed, and as a result, a semiconductor. It is said that it will be possible to perform drawing data creation work of a photomask with a high degree of integration and a fine pattern, which corresponds to high integration and high functionality of the device, at a practical level.
【図1】本発明の電子ビーム描画装置用の描画データの
作成方法実施例のフローチャートFIG. 1 is a flowchart of an embodiment of a method of creating drawing data for an electron beam drawing apparatus of the present invention.
【図2】本実施例を説明するための階層化セルの階層構
造およびセルない図形データを説明するための図FIG. 2 is a diagram for explaining a hierarchical structure of hierarchical cells and cell-free graphic data for explaining the present embodiment.
【図3】本実施例を説明するための階層化セルのセルT
OPを説明するための図FIG. 3 is a cell T of a layered cell for explaining the present embodiment.
Diagram for explaining OP
【図4】セルA内のセル境界に接する図形を上位セルに
展開した図FIG. 4 is a diagram in which a figure in contact with a cell boundary in cell A is expanded in a higher-level cell.
【図5】セルA内の合成後の分割図形の分類を説明する
ための図FIG. 5 is a diagram for explaining the classification of divided figures in cell A after composition.
【図6】セルTOPにおける図形合成を説明するための
図FIG. 6 is a diagram for explaining graphic composition in cell TOP.
【図7】セルAの図形データを上位セル(セルTOP)
の座標系に変換した図FIG. 7 shows the graphic data of cell A as an upper cell (cell TOP)
Figure converted to the coordinate system of
【図8】回転なしで引用されるセルBの図形データを上
位セル(セルTOP)の座標系に変換した図FIG. 8 is a diagram in which the graphic data of the cell B quoted without rotation is converted into the coordinate system of the upper cell (cell TOP).
【図9】セルBを−90°回転させた図及び合成後の分
割図FIG. 9 is a diagram in which cell B is rotated by −90 ° and a division diagram after combination.
【図10】全図形データをルートセル座標系に変換した
図FIG. 10 is a diagram in which all figure data is converted into a root cell coordinate system.
TOP、A、B セル 20A、20B、30 セル境界 21、22 図形 31、32、33、34、35 図形 41、42 図形 61、62 図形 、、、、、 図形 TOP, A, B cells 20A, 20B, 30 cell boundaries 21, 22 figures 31, 32, 33, 34, 35 figures 41, 42 figures 61, 62 figures ,,, figures
Claims (4)
ら描画装置の描画データを作製する方法であって、少な
くとも、順に (A)階層構造をもったデータを入力し、ボトムセルか
らトップセルに向かって、セル境界に接するデータを上
位セルの座標系に変換して上位セルに展開した後、セル
単位で図形の合成及び分離を行う工程、 (B)セル引用情報から、引用セル、セルの配置、回
転、繰り返し等を表す一覧情報であるマトリクス情報を
作成し、この情報に基づく全てのルートセル内の図形デ
ータを、この情報と前記セル単位で図形の合成及び分離
を行い得られた図形データとから、該図形データをルー
トセルの座標系へ変換してルートセル内の図形データと
して作成する工程、 (C)前記変換され作成されたルートセル内の図形デー
タを含めたルートセルの全ての図形データについて、描
画装置用の描画データにフオーマット変換する工程、 とを有することを特徴とする描画装置用の描画データの
作成方法。1. A method of producing drawing data of a drawing apparatus from pattern data having a hierarchical cell structure, wherein at least (A) data having a hierarchical structure is input in order from a bottom cell to a top cell. , A step of converting the data in contact with the cell boundary into the coordinate system of the upper cell and expanding it into the upper cell, and then synthesizing and separating the figures in cell units, (B) from the cell citation information, the citation cell, the cell arrangement, Matrix information, which is list information indicating rotation, repetition, etc., is created, and the graphic data in all root cells based on this information is calculated from this information and graphic data obtained by synthesizing and separating graphics in cell units. A step of converting the graphic data into a coordinate system of the root cell and creating it as graphic data in the root cell, (C) the graphic data in the root cell created by the conversion A method for creating drawing data for a drawing device, comprising the step of performing format conversion for all the graphic data of the root cell including the drawing data into drawing data for the drawing device.
の情報に基づいて、セル単位で図形の合成及び分離を行
い得られた図形データに対し、全てをルートセルの単位
系へ変換し、ルートセル内の図形データとする工程が、
マトリクス情報に基づいて、該セル単位で図形の合成及
び分離を行い得られた図形データに対し、台形図形デー
タと接していない矩形図形データに関しては全てルート
セルの座標系に変換してルートセル図形データを得る第
一の工程、台形図形データないし台形図形データに接し
た矩形図形データについては0°、180°系で引用さ
れているもののみルートセルの座標系に変換してルート
セルの図形データを得る第二の工程、それ以外の90
°、270°系については、セル枠及びセル内図形を9
0°回転させたセルを対応して作成し、得られたセルに
ついてセル毎に図形データについて図形の合成及び分離
を行い、台形図形データと接していない矩形図形データ
と、台形図形データないし台形図形データに接した矩形
図形データとに分離した図形データを作成し、且つ、セ
ル引用情報から作製されたマトリクス情報に引用セルの
引用する角度についての補正情報を付与しておき、前記
90°、270°系のデータが、90°回転された図形
データを0°、180°系で引用しているものとして、
ルートセルの座標系に変換してルートセル図形データを
得る第三の工程とからなることを特徴とする描画装置用
の描画データの作成方法。2. The matrix information of claim 1 is created, and on the basis of this information, all the graphic data obtained by synthesizing and separating graphics on a cell-by-cell basis are converted into a root cell unit system, and the root cell is converted. The process of making the figure data in
Based on the matrix information, the figure data obtained by synthesizing and separating figures on a cell-by-cell basis are converted into root cell coordinate data by converting all the rectangular figure data not in contact with the trapezoidal figure data into the coordinate system of the root cell. Regarding the first step of obtaining, trapezoidal figure data or rectangular figure data in contact with the trapezoidal figure data, only those quoted in the 0 ° and 180 ° systems are converted into the coordinate system of the root cell to obtain the figure data of the root cell. Process, other 90
For 270 ° and 270 ° systems, use 9
A cell rotated by 0 ° is created correspondingly, and for each cell, the figures are combined and separated for the figure data, and the rectangular figure data not in contact with the trapezoidal figure data and the trapezoidal figure data or trapezoidal figure The graphic data separated from the rectangular graphic data in contact with the data is created, and the correction information about the quoted angle of the quoted cell is added to the matrix information created from the cell quoted information. As for the data of ° system, the figure data rotated by 90 ° is referred to as 0 ° and 180 ° system.
A method of creating drawing data for a drawing device, comprising the step of converting to a coordinate system of a root cell to obtain root cell graphic data.
画データが、上底と下底をXないしYの一方向にのみも
つ4頂点台形フオーマットで全ての図形を表すものであ
ることを特徴とする描画装置用の描画データの作成方
法。3. The drawing data of the drawing device according to claim 1 or 2, wherein all the figures are represented by a four-vertex trapezoidal format having an upper bottom and a lower bottom only in one direction of X or Y. Method of creating drawing data for a drawing device.
子ビーム描画装置ないし光露光装置であることを特徴と
する描画装置用の描画データの作成方法。4. A drawing data creating method for a drawing apparatus, wherein the drawing apparatus according to claim 1 is an electron beam drawing apparatus or an optical exposure apparatus.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17615094A JPH0822115A (en) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | Method for producing plotting data for plotting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP17615094A JPH0822115A (en) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | Method for producing plotting data for plotting device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0822115A true JPH0822115A (en) | 1996-01-23 |
Family
ID=16008540
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17615094A Pending JPH0822115A (en) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | Method for producing plotting data for plotting device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0822115A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007517247A (en) * | 2003-12-17 | 2007-06-28 | メンター・グラフィクス・コーポレーション | Creating masks with hierarchical management using cover cells |
JP2009516876A (en) * | 2005-11-21 | 2009-04-23 | ソフトジン・テクノロジーズ・プライヴェイト・リミテッド | Method and system for developing post-layout EDA applications |
-
1994
- 1994-07-06 JP JP17615094A patent/JPH0822115A/en active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9292643B2 (en) | 2003-12-17 | 2016-03-22 | Mentor Graphics Corporation | Mask creation with hierarchy management using cover cells |
US9996651B2 (en) | 2003-12-17 | 2018-06-12 | Mentor Graphics Corporation | Mask creation with hierarchy management using cover cells |
JP2009516876A (en) * | 2005-11-21 | 2009-04-23 | ソフトジン・テクノロジーズ・プライヴェイト・リミテッド | Method and system for developing post-layout EDA applications |
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