JPH0872193A - Gas barrier laminated film with transparency - Google Patents
Gas barrier laminated film with transparencyInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は食品、医薬品、精密電子
部品等の包装分野に用いられる包装フィルムに係わり、
特に透明性とガスバリア性に優れた包装フィルムに関す
る。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a packaging film used in the field of packaging foods, pharmaceuticals, precision electronic components, etc.,
Particularly, it relates to a packaging film having excellent transparency and gas barrier properties.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、食品、医薬品、精密電子部品等の
包装に用いられる包装材料は、内容物の変質、特に食品
においては蛋白質や油脂等の酸化、変質を抑制し、さら
に味、鮮度を保持するために、また無菌状態での取扱い
が必要とされる医薬品においては有効成分の変質を抑制
し、効能を維持するために、さらに精密電子部品におい
ては金属部分の腐食、絶縁不良を防湿するために、包装
材料を透過する酸素、水蒸気、その他内容物を変質させ
る気体による影響を防止する必要があり、これら気体
（ガス）を遮断するガスバリア性を備えることが求めら
れている。2. Description of the Related Art In recent years, packaging materials used for packaging foods, pharmaceuticals, precision electronic parts, etc., suppress deterioration of contents, particularly oxidation and deterioration of proteins and fats and oils in foods, and further improve taste and freshness. In order to retain the product, in pharmaceuticals that require aseptic handling, it suppresses the deterioration of the active ingredient, and in order to maintain its efficacy, it also prevents corrosion and poor insulation of metal parts in precision electronic components. Therefore, it is necessary to prevent the influence of oxygen, water vapor, and other gases that change the contents of the packaging material, and it is required to have a gas barrier property for blocking these gases.
【０００３】そのため、従来から塩化ビニリデン樹脂を
コートしたポリプロピレン（ＫＯＰ）やポリエチレンテ
レフタレート（ＫＰＥＴ）あるいはエチレンビニルアル
コール共重合体（ＥＶＯＨ）など一般的にガスバリア性
が比較的に高いと言われる高分子樹脂組成物をガスバリ
ア材として包装材料に用いた包装フィルムやＡｌ等の金
属からなる金属箔、適当な高分子樹脂組成物（単独で
は、高いガスバリア性を有していない樹脂であっても）
にＡｌなどの金属または金属化合物を蒸着した金属蒸着
フィルムを包装材料に用いた包装フィルムが一般的に使
用されてきた。Therefore, polymer resins such as polypropylene (KOP) coated with vinylidene chloride resin, polyethylene terephthalate (KPET), ethylene vinyl alcohol copolymer (EVOH), etc., which are generally said to have relatively high gas barrier properties, have been conventionally used. A packaging film using the composition as a gas barrier material for a packaging material, a metal foil made of a metal such as Al, a suitable polymer resin composition (even by itself, even if the resin does not have a high gas barrier property)
A packaging film using a metal deposition film obtained by depositing a metal such as Al or a metal compound as a packaging material has been generally used.
【０００４】ところが、上述の高分子樹脂組成のみを用
いてなる包装フィルムは、Ａｌなどの金属または金属化
合物をもちいた箔や蒸着膜を形成した金属蒸着フィルム
に比べるとガスバリア性に劣るだけでなく、温度・湿度
の影響を受けやすく、その変化によってはさらにガスバ
リア性が劣化することになる。一方、Ａｌなどの金属ま
たは金属化合物を用いた箔や蒸着膜を形成した金属蒸着
フィルムは、温度・湿度などの影響を受けること少な
く、ガスバリア性に優れるが、包装体の内容物を透視し
て確認することができない、使用後の廃棄の際は不燃物
として処理しなければならないとする欠点を有してい
た。However, the packaging film using only the above-mentioned polymer resin composition is not only inferior in gas barrier property to a foil using a metal or a metal compound such as Al or a metal vapor deposition film formed with a vapor deposition film. However, it is easily affected by temperature and humidity, and depending on the change, the gas barrier property is further deteriorated. On the other hand, a foil using a metal such as Al or a metal compound or a metal vapor-deposited film on which a vapor-deposited film is formed is less affected by temperature and humidity and has excellent gas barrier properties, but the contents of the package can be seen through. It had a drawback that it could not be confirmed and that it must be treated as an incombustible material when it is discarded after use.
【０００５】そこで、これらの欠点を克服した包装材料
として、例えば米国特許第３４４２６８６、特公昭６３
−２８０１７号公報等に記載されているような酸化マグ
ネシウム、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化スズ等の
無機酸化物を高分子フィルム上に、真空蒸着法やスパッ
タリング法等の形成手段により蒸着膜を形成したフィル
ムが開発されている。これらのフィルムは透明性及び酸
素、水蒸気等のガス遮断性を有していることが知られ、
金属蒸着フィルムでは得ることのできない透明性、ガス
バリア性の両者を有する包装材料として好適とされてい
る。Therefore, as a packaging material that overcomes these drawbacks, for example, US Pat.
No. 28017, etc., an inorganic oxide such as magnesium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, tin oxide, etc. is formed on a polymer film by a forming means such as a vacuum vapor deposition method or a sputtering method. Film has been developed. It is known that these films have transparency and gas barrier properties against oxygen and water vapor,
It is suitable as a packaging material having both transparency and gas barrier properties that cannot be obtained with a metal vapor deposition film.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た包装用材料に適するフィルムであっても、包装容器ま
たは包装材として、蒸着フィルム単体で用いられること
はほとんどなく、蒸着後の後加工として蒸着フィルム表
面に文字・絵柄等を印刷加工またはフィルム等の他の基
材との貼り合わせ、容器等の包装体への形状加工などさ
まざまな工程を経て包装体を完成させている。そのた
め、蒸着フィルム固有の透明性・ガスバリア性を十分保
持するとともに直接印刷インキをコーティングするため
の最適な印刷条件を設定する必要があり、また形状加工
を施す場合に、例えば袋状とするには製袋機にかける必
要がある。However, even a film suitable for the above-mentioned packaging material is hardly used as a packaging container or a packaging material by itself as a vapor deposition film, and the vapor deposition film is used as a post-process after vapor deposition. The packaging is completed through various processes such as printing processing of letters and patterns on the surface or pasting with other base materials such as films, and shaping of packaging such as containers. Therefore, it is necessary to maintain the transparency and gas barrier properties peculiar to the vapor-deposited film, and to set the optimum printing conditions for directly coating the printing ink. It is necessary to put it on the bag making machine.
【０００７】そのため、蒸着フィルムの蒸着面に直接印
刷インキがコーティングされると、乾燥による印刷イン
キの収縮が蒸着膜に伝わり、クラックや傷等の損傷が発
生し、また製袋機にかけるとセーラ部に於けるしごきに
よって、蒸着膜にクラックや傷等の損傷が発生する。こ
の損傷部分から酸素、水蒸気などの気体が浸透するなど
して本来有しているはずの高いガスバリア性が低下して
しまうという問題を有している。Therefore, when the printing ink is directly coated on the vapor deposition surface of the vapor deposition film, the shrinkage of the printing ink due to drying is transmitted to the vapor deposition film, causing damage such as cracks and scratches. The ironing in the part causes damage such as cracks and scratches on the deposited film. There is a problem in that a gas such as oxygen and water vapor permeates from the damaged portion, and the high gas barrier property originally possessed is deteriorated.
【０００８】すなわち、包装袋として用いられる条件と
して、内容物自体を透視することが可能なだけの透明
性、内容物に対して影響を与える気体等を遮断する高い
ガスバリア性、包装袋への加工等のによる物理的、機械
的なストレスに対して機能を低下させない機械的強度
（若しくはフレキシビリティ）を有するものが求められ
ており、現在のところこれらを全て満たす包装材料は見
いだされていない。That is, the conditions for use as a packaging bag are such that the contents themselves can be seen through, a high gas barrier property for blocking gas or the like that affects the contents, and processing into packaging bags. A material having mechanical strength (or flexibility) that does not deteriorate the function against physical and mechanical stress due to the above is demanded, and at present, a packaging material satisfying all of these has not been found.
【０００９】そこで、本発明は無色透明であり、かつ高
いガスバリア性を有するとともに後加工による外部から
の折り曲げや引っ張り等の作用に対して、ガスバリア性
の低下することのない機械的強度を有する実用性の高い
透明ガスバリアフィルムを提供することを目的とする。Therefore, the present invention is colorless and transparent, and has a high gas barrier property as well as a mechanical strength that does not deteriorate the gas barrier property against external bending or pulling due to post-processing. An object of the present invention is to provide a transparent gas barrier film having high properties.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
すべくなされたものであり、請求項１に記載される発明
は、透明性を有する高分子材料からなる基材の片面に無
機化合物からなる透明ガスバリア層を積層した積層フィ
ルムにおいて、透明ガスバリア層が金属酸化物薄膜層と
炭素を含む酸化珪素薄膜層を順次形成した積層構成であ
ることを特徴とする透明性を有するガスバリア性積層フ
ィルムである。The present invention has been made to solve the above problems, and the invention described in claim 1 is an inorganic compound on one surface of a substrate made of a polymer material having transparency. A transparent gas barrier layer, wherein the transparent gas barrier layer has a laminated structure in which a metal oxide thin film layer and a silicon oxide thin film layer containing carbon are sequentially formed. Is.
【００１１】また請求項２に記載される発明は、請求項
１記載の発明に基づき、炭素を含む酸化珪素層が有機珪
素化合物ガスおよび酸素ガスを主原料ガスとして、ＰＥ
ＣＶＤによって形成されたことを特徴とする透明性を有
するガスバリア性積層フィルムである。According to a second aspect of the present invention, based on the first aspect of the invention, the silicon oxide layer containing carbon uses PE gas as the main raw material gas and PE as the main raw material gas.
A gas barrier laminated film having transparency, which is formed by CVD.
【００１２】請求項３に記載される発明は、請求項１、
２記載の発明に基づき、炭素を含む酸化珪素層におい
て、炭素の量が５〜４０ａｔ％の範囲内であることを特
徴とする透明性を有するガスバリア性積層フィルムであ
る。The invention described in claim 3 is the same as claim 1,
According to the invention described in 2 above, in a silicon oxide layer containing carbon, the amount of carbon is within a range of 5 to 40 at%, which is a gas barrier laminate film having transparency.
【００１３】請求項４に記載される発明は、請求項１、
２記載の発明に基づき、炭素を含む酸化珪素層がテトラ
メチレンジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、ヘキサメチレン
ジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）のうち一つまたは両者の混
合物からなることを特徴とする透明性を有するガスバリ
ア性積層フィルムである。The invention described in claim 4 is the invention according to claim 1,
A gas barrier property having transparency, characterized in that the silicon oxide layer containing carbon is made of one or a mixture of tetramethylenedisiloxane (TMDSO) and hexamethylenedisiloxane (HMDSO) based on the invention described in 2. It is a laminated film.
【００１４】[0014]
【作用】本発明の透明性を有するガスバリア性積層フィ
ルムによれば、透明性を有する高分子材料からなる基材
に設けられた無色透明でガスバリア性に優れる金属酸化
物薄膜層上に、更に引張りや屈曲に強くて寸法安定性に
優れる炭素を含む酸化珪素層を積層することにより、印
刷インキ乾燥時における引張り・収縮や製袋におけるセ
ーラ部のしごき等の機械的なストレスを炭素を含む酸化
珪素層により防止できるため、物理的、機械的なストレ
スを受けた後でも高い光透過性を示すとともに薄膜を透
過するガスを低く抑えることができる。According to the transparent gas-barrier laminated film of the present invention, the film is further stretched on a colorless and transparent metal oxide thin film layer excellent in gas barrier property provided on a substrate made of a polymer material having transparency. By stacking a carbon oxide-containing silicon oxide layer that is highly resistant to bending and excellent in dimensional stability, mechanical stress such as tensile / shrinkage during printing ink drying and ironing of the sailor sack during bag making can be avoided. Since it can be prevented by the layer, it exhibits high light transmittance even after being subjected to physical and mechanical stress, and can suppress the gas passing through the thin film to be low.
【００１５】[0015]
【実施例】本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明す
る。図１は本発明の透明性を有するガスバリア性積層フ
ィルムを説明する断面図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a transparent gas barrier laminate film of the present invention.
【００１６】まず、本発明の透明性を有するガスバリア
性積層フィルム１の構成について図１を参照し説明す
る。１は透明性を有するガスバリア性積層フィルムであ
り、基材２の表面に金属酸化物からなる薄膜層３、炭素
を含む酸化珪素層４が順次形成されている。First, the structure of the transparent gas barrier laminate film 1 of the present invention will be described with reference to FIG. Reference numeral 1 is a gas barrier laminated film having transparency, and a thin film layer 3 made of a metal oxide and a silicon oxide layer 4 containing carbon are sequentially formed on a surface of a base material 2.
【００１７】上述した基材２は透明を有する高分子材料
であり、蒸着薄膜層の無色透明を生かすために透明なフ
ィルムが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエ
ステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレンなどの
ポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ
アミドフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリカーボ
ネートフィルム、ポリアクリルニトリルフィルム、ポリ
イミドフィルム等が用いられ、延伸、未延伸のどちらで
も良く、また機械的強度や寸法安定性を有するものが良
い。これらをフィルム状に加工して用いられる。特に二
軸方向に任意に延伸されたポリエチレンテレフタレート
が好ましく用いられる。またこの基材２の表面に、周知
の種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、紫外線防
止剤、可塑剤、滑剤などが使用されていても良く、薄膜
との密着性を良くするために、前処理としてコロナ処
理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理を施して
おいても良く、さらに薬品処理、溶剤処理などを施して
も良い。The above-mentioned substrate 2 is a polymer material having transparency, and a transparent film is preferable in order to make use of the colorless transparency of the vapor-deposited thin film layer. For example, polyethylene terephthalate (PET), polyester films such as polyethylene naphthalate, polyolefin films such as polyethylene and polypropylene, polystyrene films, polyamide films, polyvinyl chloride films, polycarbonate films, polyacrylonitrile films, polyimide films, etc. are used, It may be stretched or unstretched, and one having mechanical strength and dimensional stability is preferable. These are processed into a film and used. In particular, polyethylene terephthalate arbitrarily stretched biaxially is preferably used. In addition, various well-known additives and stabilizers such as antistatic agents, anti-UV agents, plasticizers and lubricants may be used on the surface of the base material 2 in order to improve the adhesion to the thin film. In addition, corona treatment, low temperature plasma treatment, ion bombardment treatment may be performed as pretreatment, and chemical treatment, solvent treatment and the like may be further performed.
【００１８】基材２の厚さはとくに制限を受けるもので
はないが、包装材料としての適性、他の層を積層する場
合も在ること、金属酸化物薄膜層３及び炭素を含む酸化
珪素４を形成する場合の加工性を考慮すると、実用的に
は３〜２００μｍの範囲で、用途によって６〜３０μｍ
とすることが好ましいと言える。The thickness of the substrate 2 is not particularly limited, but it is suitable as a packaging material, may be laminated with other layers, the metal oxide thin film layer 3 and the silicon oxide 4 containing carbon 4 may be laminated. Considering the workability in the case of forming a film, it is practically in the range of 3 to 200 μm, and 6 to 30 μm depending on the application.
Can be said to be preferable.
【００１９】また、量産性を考慮すれば、連続的に薄膜
を形成できるように長尺フィルムとすることが望まし
い。In consideration of mass productivity, it is desirable to use a long film so that a thin film can be continuously formed.
【００２０】金属酸化物薄膜層３は、酸化マグネシウ
ム、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化スズなどの金属
酸化物の蒸着膜からなり、透明性を有しかつ酸素、水蒸
気等のガスバリア性を有するものであればよい。中でも
酸化マグネシウムは、透明性、ガスバリア性が、特に優
れるものである。ただし本発明の薄膜層３は、酸化マグ
ネシウム、酸化珪素、酸化アルミニウム酸化スズなどの
金属酸化物に限定されることなく上記条件に適合する材
料であれば用いることができる。The metal oxide thin film layer 3 is a vapor-deposited film of a metal oxide such as magnesium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, tin oxide, etc., and is transparent and has a gas barrier property against oxygen, water vapor and the like. I wish I had it. Among them, magnesium oxide is particularly excellent in transparency and gas barrier property. However, the thin film layer 3 of the present invention is not limited to metal oxides such as magnesium oxide, silicon oxide, and aluminum oxide tin oxide, and any material that meets the above conditions can be used.
【００２１】薄膜層３の厚さは、用いられる金属酸化物
の種類・構成により最適条件が異なるが、一般的には３
０〜３００ｎｍの範囲内であることが望ましく、その値
は適宜選択される。ただし膜厚が３０ｎｍ未満であると
基材２の全面が膜にならないことや膜厚が十分ではない
ことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たす
ことができない場合がある。また膜厚が３００ｎｍを越
える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることが
できず、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外的要因に
より、薄膜に亀裂を生じるおそれがあるためである。好
ましくは、４０〜１５０ｎｍの範囲にあることである。The thickness of the thin film layer 3 varies depending on the type and composition of the metal oxide used, but is generally 3
It is desirable to be in the range of 0 to 300 nm, and the value is appropriately selected. However, if the film thickness is less than 30 nm, the entire surface of the substrate 2 may not be a film or the film thickness may not be sufficient, and the gas barrier material may not be able to sufficiently function. Further, if the film thickness exceeds 300 nm, the thin film cannot retain flexibility, and cracks may occur in the thin film due to external factors such as bending and pulling after the film formation. It is preferably in the range of 40 to 150 nm.
【００２２】金属酸化物からなる薄膜層３を透明高分子
基材２上に形成する方法としては種々在り、通常の真空
蒸着法により形成することができるが、その他の薄膜形
成方法であるスパッタリング法やイオンプレーティング
法などを用いることもできる。但し生産性を考慮すれ
ば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。真空蒸着
法による真空蒸着装置の加熱手段としては電子線加熱方
式や抵抗加熱方式とすることが好ましく、薄膜と基材の
密着成及び薄膜の緻密性を向上させるために、プラズマ
アシスト法やイオンビームアシスト法を用いることも可
能である。There are various methods for forming the thin film layer 3 made of a metal oxide on the transparent polymer substrate 2, and the thin film layer 3 can be formed by a usual vacuum deposition method, but another thin film forming method is a sputtering method. Alternatively, the ion plating method or the like can be used. However, in view of productivity, the vacuum vapor deposition method is the best at the present time. It is preferable to use an electron beam heating method or a resistance heating method as the heating means of the vacuum evaporation apparatus by the vacuum evaporation method. In order to improve the adhesion between the thin film and the base material and the denseness of the thin film, a plasma assist method or an ion beam method is used. It is also possible to use the assist method.
【００２３】炭素を含む酸化珪素薄膜層４は、金属酸化
物薄膜層３上に積層され、印刷インキ乾燥時における引
張り・収縮等や製袋におけるセーラ部のしごき等の機械
的なストレスを防止でき、特に金属酸化物薄膜層３が４
０〜１５０ｎｍと比較的に薄い時には必要不可欠であ
る。The carbon-containing silicon oxide thin film layer 4 is laminated on the metal oxide thin film layer 3 to prevent mechanical stress such as pulling and shrinking when the printing ink is dried and ironing of the sailor part during bag making. , Especially the metal oxide thin film layer 3 is 4
It is indispensable when the thickness is relatively thin, from 0 to 150 nm.
【００２４】この炭素を含む酸化珪素薄膜層４を設ける
手段としては、有機珪素化合物ガスおよび酸素ガスを主
原料ガスとするＰＥＣＶＤが適当である。すなわち成膜
条件（原料ガス、排気量、プラズマパワー等）を適当に
選ぶことによって、原料ガス中の炭素や炭化水素が膜中
に取り込まれるようにするのが好ましい。ここで言う有
機珪素化合物ガスとは、テトラメチレンジシロキサン
（ＴＭＤＳＯ）、ヘキサメチレンジシロキサン（ＨＭＤ
ＳＯ）等のことであるが、これらのうち単独または任意
に配合したものが用いられる。またＰＥＣＶＤにおける
プラズマ励起源としては、高周波（ＨＦ）、ラジオ波
（ＲＦ：１３．５６ＭＨｚ）、マイクロ波（ＭＷ：２．
４５ＧＨｚ）等が用いられる。As a means for providing the silicon oxide thin film layer 4 containing carbon, PECVD using an organosilicon compound gas and an oxygen gas as main raw material gases is suitable. That is, it is preferable that carbon and hydrocarbon in the raw material gas be taken into the film by appropriately selecting the film forming conditions (raw material gas, exhaust gas amount, plasma power, etc.). The organosilicon compound gas referred to here is tetramethylenedisiloxane (TMDSO) or hexamethylenedisiloxane (HMD).
SO) and the like, but these may be used alone or in any combination. Further, as a plasma excitation source in PECVD, high frequency (HF), radio wave (RF: 13.56 MHz), microwave (MW: 2.
45 GHz) or the like is used.
【００２５】前記膜中に含まれる炭素の形態としては、
炭素単独でも炭化水素としてもでも構わない。しかし、
その量としては５〜４０ａｔ％の範囲内にあることが重
要である。この炭素を含む酸化珪素層は含まれる炭素量
とともに着色が増し、柔軟性も大きくなる。そのため５
ａｔ％以下であると十分な柔軟性が発揮されず、逆に４
０ａｔ％以上であると黄色の着色が目立ってくる。The form of carbon contained in the film is as follows.
Carbon may be used alone or as a hydrocarbon. But,
It is important that the amount is within the range of 5 to 40 at%. The silicon oxide layer containing carbon increases in coloring and flexibility as the amount of carbon contained increases. Therefore 5
If it is at% or less, sufficient flexibility is not exhibited, and conversely 4
When it is 0 at% or more, yellow coloring becomes noticeable.
【００２６】上記薄膜の厚さは、原料ガスの種類や作製
条件によって最適条件が異なるが、一般的には５〜１０
０ｎｍの範囲内であることが好ましい。５ｎｍ以下であ
ると一般的には膜にはならず島状の構造になるため薄膜
として機能しないためで、逆に１００ｎｍ以上の場合は
柔軟性、経済性の点で問題がある。好ましくは１０〜１
００ｎｍの範囲である。The optimum thickness of the thin film varies depending on the type of raw material gas and the manufacturing conditions, but is generally 5 to 10.
It is preferably within the range of 0 nm. If it is 5 nm or less, it does not function as a thin film because it generally does not form a film and has an island structure. On the contrary, if it is 100 nm or more, there is a problem in terms of flexibility and economy. Preferably 10 to 1
The range is 00 nm.
【００２７】さらに、炭素を含む酸化珪素薄膜層４上に
他の層を積層することも可能である。例えば印刷層、ヒ
ートシール層である。印刷層は包装袋などとして実用的
に用いるために形成されるものであり、ウレタン系、ア
クリル系、ニトロセルロース系、ゴム系、塩化ビニル系
等の従来から用いられているインキバインダー樹脂に各
種顔料、体質顔料及び可塑剤、乾燥剤、安定剤等の添加
剤などが添加されてなるインキにより構成される層であ
り、文字、絵柄等が形成されている。形成方法として
は、例えばオフセット印刷法、グラビア印刷法、シルク
スクリーン印刷法等の周知の印刷方式や、ロールコー
ト、ナイフエッジコート、グラビアーコート等の周知の
塗布方式を用いることができる。厚さは０．１〜２．０
μｍで良い。Further, another layer may be laminated on the silicon oxide thin film layer 4 containing carbon. For example, a print layer and a heat seal layer. The printing layer is formed for practical use as a packaging bag, and various pigments are used for ink binder resins that have been conventionally used such as urethane-based, acrylic-based, nitrocellulose-based, rubber-based, and vinyl chloride-based. Is a layer composed of an ink to which an extender pigment and additives such as a plasticizer, a desiccant, a stabilizer are added, and characters, pictures, etc. are formed. As a forming method, for example, a known printing method such as an offset printing method, a gravure printing method, a silk screen printing method or the like, or a known coating method such as a roll coating, a knife edge coating or a gravure coating can be used. Thickness is 0.1-2.0
μm is sufficient.
【００２８】またヒートシール層は、袋状包装体などを
形成する際の接着部に利用されるものであり、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタ
クリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重
合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体及びそれ
らの金属架橋物等の樹脂が用いられる。厚さは目的に応
じて決められるが、一般的には１５〜２００μｍの範囲
である。形成方法としては、上記樹脂からなるフィルム
状のものをドライラミネート法、ノンソルベントラミネ
ート法により積層する方法、上記樹脂を加熱溶融させカ
ーテン状に押し出し、貼合わせるエキストルーションラ
ミネート法等いずれも公知の方法により積層することが
できる。The heat-sealing layer is used for an adhesive portion when forming a bag-like package, and includes polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene. A resin such as a methacrylic acid ester copolymer, an ethylene-acrylic acid copolymer, an ethylene-acrylic acid ester copolymer and a metal cross-linked product thereof is used. Although the thickness is determined according to the purpose, it is generally in the range of 15 to 200 μm. As a forming method, any of known methods such as a dry laminating method of laminating a film made of the above resin by a non-solvent laminating method, an extrusion laminating method in which the above resin is melted by heating and extruded in a curtain shape, and laminated Can be laminated by.
【００２９】本発明の透明性を有するガスバリア性積層
フィルムを具体的な実施例を挙げて更に説明する。The transparent gas-barrier laminated film of the present invention will be further described with reference to specific examples.
【００３０】〈実施例１〉基材２として厚さ１２μｍの
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの片面
に図示しない電子線加熱方式による真空蒸着装置によ
り、酸化マグネシウムを約５０ｎｍの厚さに蒸着し金属
酸化物薄膜層３を形成した。次いでその上にＴＭＤＳ
Ｏ、Ｏ2 及びＨｅの混合ガスを原料として誘導結合式の
ＲＦプラズマによるＰＥＣＶＤによって約３０ｎｍの炭
素を含む酸化珪素層４を形成し、本発明の積層フィルム
を得た。このフィルムの組成を光電子分光法によって調
べたところ、約２５ａｔ％の炭素が含まれていることが
わかった。Example 1 As a substrate 2, magnesium oxide was vapor-deposited to a thickness of about 50 nm on one surface of a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 12 μm by an electron beam heating system (not shown) to oxidize metal. The thin film layer 3 was formed. Then TMDS on it
A silicon oxide layer 4 containing carbon having a thickness of about 30 nm was formed by PECVD using an inductively coupled RF plasma using a mixed gas of O, O 2 and He as a raw material to obtain a laminated film of the present invention. The composition of this film was examined by photoelectron spectroscopy and found to contain about 25 at% carbon.
【００３１】このフィルムの酸化珪素薄膜上に、ウレタ
ン系印刷インキ４色（墨、紅、黄、白）を用いてグラビ
ア印刷を行った。Gravure printing was carried out on the silicon oxide thin film of this film using four colors of urethane-based printing inks (black, red, yellow and white).
【００３２】またこのフィルムの酸化珪素薄膜上に、２
液硬化型のウレタン系接着剤を介して厚さ３０μｍの無
延伸ポリプロピレンをドライラミネートし、その後縦ピ
ロー製袋機に製袋し包装袋を得た。On the silicon oxide thin film of this film, 2
A non-stretched polypropylene having a thickness of 30 μm was dry-laminated via a liquid-curable urethane-based adhesive, and then made into bags in a vertical pillow bag making machine to obtain packaging bags.
【００３３】得られた積層フィルムを評価するため、フ
ィルム単体の酸素透過率（ｃｃ／ｍ 2 ／ｄａｙ）、光線
透過率（％−３５０ｎｍ）及び印刷後、製袋後の酸素透
過率（ｃｃ／ｍ2 ／ｄａｙ）を測定した。その結果を表
１に示す。In order to evaluate the obtained laminated film,
Oxygen transmission rate of film (cc / m 2 / Day), rays
Transmittance (% -350 nm) and oxygen permeability after bag making after printing
Excessive rate (cc / m2 / Day) was measured. Show the result
Shown in 1.
【００３４】〈実施例２〉実施例１においてＨＭＤＳ
Ｏ、Ｏ2 及びＨｅの混合ガスを原料として誘導結合式の
ＲＦプラズマによるＰＥＣＶＤによって約５０ｎｍ（炭
素量：３５ａｔ％）の炭素を含む酸化珪素層４を形成し
た以外は、全く同様に作製し評価した。その結果を表１
に示す。Example 2 HMDS in Example 1
Except that the silicon oxide layer 4 containing carbon of about 50 nm (carbon amount: 35 at%) was formed by PECVD using inductively coupled RF plasma using a mixed gas of O, O 2 and He as a raw material, and was prepared and evaluated in exactly the same manner. did. The results are shown in Table 1.
Shown in
【００３５】〈実施例３〉実施例１において抵抗加熱方
式による真空蒸着装置により、酸化珪素を約４０ｎｍの
厚さに蒸着し金属酸化物薄膜層３を形成した以外は、全
く同様に作製し評価した。その結果を表１に示す。Example 3 Except that the metal oxide thin film layer 3 was formed by vapor-depositing silicon oxide to a thickness of about 40 nm by the vacuum vapor deposition apparatus of the resistance heating system in Example 1, the same preparation and evaluation were carried out. did. The results are shown in Table 1.
【００３６】〈比較例１〉実施例１において炭素を含む
酸化珪素層を形成しなかった以外は、全く同様に作製し
評価した。その結果を表１に示す。<Comparative Example 1> Except that the silicon oxide layer containing carbon was not formed in Example 1, it was prepared and evaluated in exactly the same manner. The results are shown in Table 1.
【００３７】〈比較例２〉実施例３において炭素を含む
酸化珪素層を形成しなかった以外は、全く同様に作製し
評価した。その結果を表１に示す。<Comparative Example 2> Except that the silicon oxide layer containing carbon was not formed in Example 3, it was prepared and evaluated in exactly the same manner. The results are shown in Table 1.
【００３８】〈比較例３〉比較例１において、ガスバリ
ア層として酸化マグネシウム薄膜のかわりの厚さ７μｍ
のアルミ箔を基材に２液硬化型ウレタン系接着剤を介し
てドライラミネートした以外は、全く同様に作製し評価
した。その結果を表１に示す。<Comparative Example 3> In Comparative Example 1, a thickness of 7 μm instead of a magnesium oxide thin film as a gas barrier layer.
Was manufactured and evaluated in exactly the same manner as above except that the aluminum foil was dry-laminated on the base material via a two-component curing type urethane adhesive. The results are shown in Table 1.
【００３９】[0039]
【表１】 [Table 1]
【００４０】比較例に対して実施例は上述した包装材と
して用いられる条件とした、内容物自体を直視すること
が可能なだけの透明性、内容物に対して影響を与える気
体などを遮断する高いガスバリア性、包装体への加工な
どによる物理的、機械的なストレスに対して機能を低下
させない機械的強度（若しくはフレキシビリティ）を全
て満たすものであることが言える。In contrast to the comparative example, the example is used under the condition of being used as the above-mentioned packaging material, and the transparency is such that the contents themselves can be directly seen, and the gas that affects the contents is blocked. It can be said that it satisfies all the requirements of high gas barrier property and mechanical strength (or flexibility) that does not deteriorate the function against physical and mechanical stress due to processing into a package.
【００４１】[0041]
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、成膜
後の透明性、ガスバリア性に優れ、かつ後加工の工程に
おいて、印刷インキの収縮や製袋機による外部からの折
曲げや引張り、しごき等の作用に対して、薄膜に膜割れ
等の損傷を生じることがなく、上述した包装材として用
いられる条件である透明性、ガスバリア性、機械的強
度、フレキシビリティ性を有するものであって、本来、
金属酸化物のもつ透明性、ガスバリア性を維持するとと
もに十分に実用性を発揮することが可能な積層フィルム
が得られる。As described above, according to the present invention, the transparency and gas barrier property after film formation are excellent, and in the process of post-processing, shrinkage of printing ink or bending from the outside by a bag-making machine It does not cause damage such as film cracking on the thin film against the action of pulling, ironing, etc., and has the transparency, gas barrier property, mechanical strength, flexibility that are the conditions used as the packaging material described above. There is originally
It is possible to obtain a laminated film capable of maintaining the transparency and gas barrier properties of the metal oxide and sufficiently exhibiting practicality.
【００４２】[0042]
【図１】本発明の透明性を有するガスバリア性積層フィ
ルムの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a transparent gas-barrier laminated film of the present invention.
１ 透明性を有するガスバリア性積層フィルム ２ 基材 ３ 金属酸化物薄膜層 ４ 炭素を含む酸化珪素層 1 Transparent Gas Barrier Laminated Film 2 Base Material 3 Metal Oxide Thin Film Layer 4 Silicon Oxide Layer Containing Carbon
Claims (4)
片面に無機化合物からなる透明ガスバリア層を積層した
積層フィルムにおいて、透明ガスバリア層が金属酸化物
薄膜層と炭素を含む酸化珪素薄膜層を順次形成した積層
構成であることを特徴とする透明性を有するガスバリア
性積層フィルム。1. A laminated film in which a transparent gas barrier layer made of an inorganic compound is laminated on one surface of a substrate made of a polymer material having transparency, the transparent gas barrier layer being a metal oxide thin film layer and a silicon oxide thin film layer containing carbon. A gas barrier laminated film having transparency, which has a laminated structure in which
素化合物ガスおよび酸素ガスを主原料ガスとして、プラ
ズマ活性化化学反応蒸着（以下ＰＥＣＶＤと略す）によ
って形成されたことを特徴とする請求項１記載の透明性
を有するガスバリア性積層フィルム。2. A silicon oxide thin film layer containing carbon is formed by plasma activated chemical reaction deposition (hereinafter abbreviated as PECVD) using an organosilicon compound gas and an oxygen gas as main raw material gases. Item 1. A transparent gas barrier laminate film according to item 1.
炭素の量が５〜４０ａｔ％の範囲内であることを特徴と
する請求項１、２記載の透明性を有するガスバリア性積
層フィルム。3. In the silicon oxide thin film layer containing carbon,
The gas barrier laminate film having transparency according to claim 1 or 2, wherein the amount of carbon is in the range of 5 to 40 at%.
メチレンジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、ヘキサメチレン
ジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）のうち一つまたは両者の混
合物からなることを特徴とする請求項１、２記載の透明
性を有するガスバリア性積層フィルム。4. The silicon oxide thin film layer containing carbon is formed of one or a mixture of tetramethylenedisiloxane (TMDSO) and hexamethylenedisiloxane (HMDSO). A gas barrier laminate film having the described transparency.
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| JP6214591A JP3070404B2 (en) | 1994-09-08 | 1994-09-08 | Gas barrier laminate film having a transparent printed layer |
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Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0798401A2 (en) * | 1996-02-16 | 1997-10-01 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Laminate and method for preparing same |
| WO1998040208A1 (en) * | 1997-03-12 | 1998-09-17 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Packaging material |
| WO1999019229A1 (en) * | 1997-10-09 | 1999-04-22 | Tetra Laval Holdings & Finance, S.A. | Packaging laminate with gas and aroma barrier properties |
| JP2003104352A (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Toppan Printing Co Ltd | Plastic container with barrier properties |
| WO2006043464A1 (en) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Toray Industries, Inc. | Method for producing film, and, film |
| JP2007284690A (en) * | 2007-06-26 | 2007-11-01 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for producing transparent barrier polypropylene film |
| WO2008056577A1 (en) | 2006-11-10 | 2008-05-15 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Si-O CONTAINING HYDROGENATED CARBON FILM, OPTICAL DEVICE INCLUDING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE Si-O CONTAINING HYDROGENATED FILM AND THE OPTICAL DEVICE |
| WO2010106866A1 (en) * | 2009-03-18 | 2010-09-23 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | Dielectric film laminate and method for producing same |
| JP2011519318A (en) * | 2008-04-18 | 2011-07-07 | フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ | Transparent barrier layer system |
| US10840413B2 (en) | 2016-08-26 | 2020-11-17 | Osram Oled Gmbh | Optoelectronic device and method of producing an optoelectronic device |
-
1994
- 1994-09-08 JP JP6214591A patent/JP3070404B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0798401A3 (en) * | 1996-02-16 | 1999-12-22 | Mitsui Chemicals, Inc. | Laminate and method for preparing same |
| EP0798401A2 (en) * | 1996-02-16 | 1997-10-01 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Laminate and method for preparing same |
| WO1998040208A1 (en) * | 1997-03-12 | 1998-09-17 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Packaging material |
| WO1999019229A1 (en) * | 1997-10-09 | 1999-04-22 | Tetra Laval Holdings & Finance, S.A. | Packaging laminate with gas and aroma barrier properties |
| JP2003104352A (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Toppan Printing Co Ltd | Plastic container with barrier properties |
| US7947330B2 (en) | 2004-10-19 | 2011-05-24 | Toray Industries, Inc. | Production method of film, and film |
| WO2006043464A1 (en) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Toray Industries, Inc. | Method for producing film, and, film |
| JPWO2006043464A1 (en) * | 2004-10-19 | 2008-05-22 | 東レ株式会社 | Film manufacturing method and film |
| WO2008056577A1 (en) | 2006-11-10 | 2008-05-15 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Si-O CONTAINING HYDROGENATED CARBON FILM, OPTICAL DEVICE INCLUDING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE Si-O CONTAINING HYDROGENATED FILM AND THE OPTICAL DEVICE |
| US8047653B2 (en) | 2006-11-10 | 2011-11-01 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Si-O containing hydrogenated carbon film, optical device including the same, and method for manufacturing the Si-O containing hydrogenated carbon film and the optical device |
| JP2007284690A (en) * | 2007-06-26 | 2007-11-01 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for producing transparent barrier polypropylene film |
| JP2011519318A (en) * | 2008-04-18 | 2011-07-07 | フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ | Transparent barrier layer system |
| WO2010106866A1 (en) * | 2009-03-18 | 2010-09-23 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | Dielectric film laminate and method for producing same |
| JPWO2010106866A1 (en) * | 2009-03-18 | 2012-09-20 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | Dielectric film laminate and method for producing dielectric film laminate |
| US10840413B2 (en) | 2016-08-26 | 2020-11-17 | Osram Oled Gmbh | Optoelectronic device and method of producing an optoelectronic device |
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| Publication number | Publication date |
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