JPS59164771A - 塩素化アゼチジノン誘導体の製造方法 - Google Patents
塩素化アゼチジノン誘導体の製造方法Info
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- JPS59164771A JPS59164771A JP58040179A JP4017983A JPS59164771A JP S59164771 A JPS59164771 A JP S59164771A JP 58040179 A JP58040179 A JP 58040179A JP 4017983 A JP4017983 A JP 4017983A JP S59164771 A JPS59164771 A JP S59164771A
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- solvent
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/09—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、塩素化アセチジノン誘導体の製造方法、更に
詳しくは一般式 〔式中Ｒ１はアリール基、アリールメチル基又はアリー
ルオ士ジメチル基を示す。′Ｒ２は水素原子又はカルポ
ジ酸保護基を示す。Ｒ３はＣ□〜Ｃ□。
詳しくは一般式 〔式中Ｒ１はアリール基、アリールメチル基又はアリー
ルオ士ジメチル基を示す。′Ｒ２は水素原子又はカルポ
ジ酸保護基を示す。Ｒ３はＣ□〜Ｃ□。
のアル＋ル基又は置換基を有しもしくは有しないアリー
ル基を示す。〕で表わされる塩素化アセチジノン誘導体
の新規製造法に関する。
ル基を示す。〕で表わされる塩素化アセチジノン誘導体
の新規製造法に関する。
本発明で製造される塩素化アセチジノン誘導体（１）は
、例えばＴｔｔｒａｈｔｄｒｏｎ Ｌｔｔｔ、、 ２３
．２１８７（１９８２）に記載の方法で３−り００メチ
ルｔフア０スポリンに変換でき、ｔファロスボリン系抗
生剤合成の重要な中間体として有用である。
、例えばＴｔｔｒａｈｔｄｒｏｎ Ｌｔｔｔ、、 ２３
．２１８７（１９８２）に記載の方法で３−り００メチ
ルｔフア０スポリンに変換でき、ｔファロスボリン系抗
生剤合成の重要な中間体として有用である。
本発明の目的は、上記一般式（１）で表わされる塩素化
アセチジノン誘導体を簡便な操作で高純度且つ高収率で
製造し得る方法を提供することにある。
アセチジノン誘導体を簡便な操作で高純度且つ高収率で
製造し得る方法を提供することにある。
即ち本発明は一般式
〔式中Ｂ３−． Ｂ２及びＲ３は前記に同じ。〕で表わ
されるアセチジノン誘導体を溶媒中塩素化剤と反応させ
ることを特徴とする一般式 〔式中Ｂ１． Ｂ２及びＲ３は前記に同じ。〕で表わさ
れる塩素化アぜチジノン誘導体の製造方法に係る。
されるアセチジノン誘導体を溶媒中塩素化剤と反応させ
ることを特徴とする一般式 〔式中Ｂ１． Ｂ２及びＲ３は前記に同じ。〕で表わさ
れる塩素化アぜチジノン誘導体の製造方法に係る。
本発明の方法によれば、副生物の生成は殆んどないので
、簡便な操作で反応混合物から単離、精製することがで
きる。そのため純度がほぼ１００％の一般式（１）で表
わされる塩素化アセチジノン誘導体を８０％以上の好収
率で製造することができる。
、簡便な操作で反応混合物から単離、精製することがで
きる。そのため純度がほぼ１００％の一般式（１）で表
わされる塩素化アセチジノン誘導体を８０％以上の好収
率で製造することができる。
本明細書において、Ｒ１の具体例としては、例えばフェ
ニル、トリル、ノー９００フエニル、戸−プ〇七フェニ
ル、ｐ−二ト０フェニル、戸−メト士ジフェニル、ベン
ジル１トリルメチル、＋シリルメチル、ナフチルメチル
、ｊ−メト士ジベンジル、ｐ−ニトロベンジル１フエノ
＋ジメチル）トリルオ士ジメチル、牛シリルオ士ジメチ
ル、ｐ−クロ０フ工ノ士ジメチル、ｔ−二ト０フェノ＋
シメチル−フェニルクロロメチル、フェニルジクＯＯメ
チル等を挙げることができる。
ニル、トリル、ノー９００フエニル、戸−プ〇七フェニ
ル、ｐ−二ト０フェニル、戸−メト士ジフェニル、ベン
ジル１トリルメチル、＋シリルメチル、ナフチルメチル
、ｊ−メト士ジベンジル、ｐ−ニトロベンジル１フエノ
＋ジメチル）トリルオ士ジメチル、牛シリルオ士ジメチ
ル、ｐ−クロ０フ工ノ士ジメチル、ｔ−二ト０フェノ＋
シメチル−フェニルクロロメチル、フェニルジクＯＯメ
チル等を挙げることができる。
Ｒ２のカルボン酸保護基としては、例えばメチル、エチ
ル、プ０じル、ブチル、ｔｔｒｔ −づチル・２、２
．２−トリクＤＯエチル、２，２−ジグ００エチル、２
−り００エチル、２−プ〇七エチル、２−づ０ベニル、
３−フェニル−２−づ０ベニル、べ７− ル、Ｏ−二ト０ベシジル、σ９戸−ジニド０ベンジル、
ｐ−メト士ジベンジル、３．４．５−トリメト士ジベン
ジル、３，５−ジブ〇七−４−メト士ジベンジル）ジフ
ェニルメチル、フェニル、ｐ−メチルチオフェニル、ｔ
−メト士ジフェニル等を挙げることができる。
ル、プ０じル、ブチル、ｔｔｒｔ −づチル・２、２
．２−トリクＤＯエチル、２，２−ジグ００エチル、２
−り００エチル、２−プ〇七エチル、２−づ０ベニル、
３−フェニル−２−づ０ベニル、べ７− ル、Ｏ−二ト０ベシジル、σ９戸−ジニド０ベンジル、
ｐ−メト士ジベンジル、３．４．５−トリメト士ジベン
ジル、３，５−ジブ〇七−４−メト士ジベンジル）ジフ
ェニルメチル、フェニル、ｐ−メチルチオフェニル、ｔ
−メト士ジフェニル等を挙げることができる。
Ｒ３の具体例としては、例えばＣ１〜Ｃ□。の直鎖ある
いは分校のアル＋ル、フェニル、トリル、士シリル、ｐ
−メト＋ジフェニル１戸−二トロフェニル、θ−ニド０
フェニル、戸−ハロフェニル等を挙げることができる。
いは分校のアル＋ル、フェニル、トリル、士シリル、ｐ
−メト＋ジフェニル１戸−二トロフェニル、θ−ニド０
フェニル、戸−ハロフェニル等を挙げることができる。
本発明において出発原料として用いられる一般式（ＩＩ
）のアセチジノン誘導体は、既報の方法、例えば特開昭
５０−１２９５９０号公報に記載されている方法に従い
容易に合成される。
）のアセチジノン誘導体は、既報の方法、例えば特開昭
５０−１２９５９０号公報に記載されている方法に従い
容易に合成される。
本発明の目的化合物（１）は、上記一般式（ＩＩ）のア
セチジノン誘導体を適当な溶媒中塩素化剤と反応さ８− せることにより製造される。本発明で使用される溶媒と
しては、例えば低級ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水
素、ジ低級アル牛ルエーテル蔦環状エーテル、低級ジア
ルコ士シエタン１低級カルボン酸エステル等が挙げられ
、これらの中から選ばれる一種類の単独溶媒又は２種以
上の混合溶媒として用いられる。特に好ましい溶媒とし
ては、り００ホルム１ジクロルメタン１ジクＯルエタン
、四塩化炭素、ベンゼン、り０ルベンゼン、ジエチルエ
ーテル、テトラしドロフランＸ、；オ牛サシ１１．２−
ジメト牛シエタン、ｌ、２−シェド牛シエタン、１．２
−ジプト牛シエタン、１．２− ＝、ｚベンジルオ十シ
エタン、ｌ、２−ジアセト士シエタン、−ｆ酸エチル、
酢酸エチル、エト牛ジエチルアセテートが挙げられ、こ
れらの中から選ばれる一種類の単独溶媒又は２種以上の
混合溶媒として用いられる。
セチジノン誘導体を適当な溶媒中塩素化剤と反応さ８− せることにより製造される。本発明で使用される溶媒と
しては、例えば低級ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水
素、ジ低級アル牛ルエーテル蔦環状エーテル、低級ジア
ルコ士シエタン１低級カルボン酸エステル等が挙げられ
、これらの中から選ばれる一種類の単独溶媒又は２種以
上の混合溶媒として用いられる。特に好ましい溶媒とし
ては、り００ホルム１ジクロルメタン１ジクＯルエタン
、四塩化炭素、ベンゼン、り０ルベンゼン、ジエチルエ
ーテル、テトラしドロフランＸ、；オ牛サシ１１．２−
ジメト牛シエタン、ｌ、２−シェド牛シエタン、１．２
−ジプト牛シエタン、１．２− ＝、ｚベンジルオ十シ
エタン、ｌ、２−ジアセト士シエタン、−ｆ酸エチル、
酢酸エチル、エト牛ジエチルアセテートが挙げられ、こ
れらの中から選ばれる一種類の単独溶媒又は２種以上の
混合溶媒として用いられる。
本発明で用いられる塩素化剤としては、従来蓋ｔ −Ｂ
ｕ ＯＣＪ １ＨＯＣＪ １ＣＪ ａ Ｏ等を挙げる
ことができる。分子状塩素は塩素ガスとして反応させる
こともでき、また不活性有機溶媒、例えば四塩化炭素、
ジクロルメタン、ジグ０ルエタン、り００ホルム等の低
級ハロゲン化炭化水素の溶液として反応させることもで
きる。ＨＯＣｌは不活性有機溶媒、例えばＣｋｔｍ、Ｂ
ａｒ、、 ８８．８８３（１９５５）に記載されている
方法により製造されるジ低級アル牛ル工−テル溶液とし
て反応させるのがよい。Ｃｌ２Ｏはそのまま反応させて
もよいが、好ましくは不活性有機溶媒、例えば四塩化炭
素溶液として反応させる。これら塩素化剤の使用量とし
ては特に制限されず広い範囲内から適宜選択することが
できるが、通常化合物（ＩＩ）に対して１〜７当量、好
ましくは１〜３当量使用するのがよい。
ｕ ＯＣＪ １ＨＯＣＪ １ＣＪ ａ Ｏ等を挙げる
ことができる。分子状塩素は塩素ガスとして反応させる
こともでき、また不活性有機溶媒、例えば四塩化炭素、
ジクロルメタン、ジグ０ルエタン、り００ホルム等の低
級ハロゲン化炭化水素の溶液として反応させることもで
きる。ＨＯＣｌは不活性有機溶媒、例えばＣｋｔｍ、Ｂ
ａｒ、、 ８８．８８３（１９５５）に記載されている
方法により製造されるジ低級アル牛ル工−テル溶液とし
て反応させるのがよい。Ｃｌ２Ｏはそのまま反応させて
もよいが、好ましくは不活性有機溶媒、例えば四塩化炭
素溶液として反応させる。これら塩素化剤の使用量とし
ては特に制限されず広い範囲内から適宜選択することが
できるが、通常化合物（ＩＩ）に対して１〜７当量、好
ましくは１〜３当量使用するのがよい。
本発明は塩化水素トラップ剤の存在下反応を行なうこと
ができる。塩化水素トラップ剤としては、どのエポ牛シ
ト類が挙げられる。また塩化水素トラップ剤としてカリ
ウム、ナトリウム、リチウムなどアルカリ金属の水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩又は分子ふゐい、ポリビニルじリ
ジンなどが挙げられ、これらは固体のママでも用いるこ
とができる。これらは化合物（Ｉｔ）に対して一般に１
−１００当量用いられ、通常１〜３０当量使用される。
ができる。塩化水素トラップ剤としては、どのエポ牛シ
ト類が挙げられる。また塩化水素トラップ剤としてカリ
ウム、ナトリウム、リチウムなどアルカリ金属の水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩又は分子ふゐい、ポリビニルじリ
ジンなどが挙げられ、これらは固体のママでも用いるこ
とができる。これらは化合物（Ｉｔ）に対して一般に１
−１００当量用いられ、通常１〜３０当量使用される。
塩素化剤として分子状塩素を用いる場合、疎水性有機溶
媒と水との混合物中反応を行なうことができる。用いる
疎水性有機溶媒としては例えば低級ハロゲン化炭化水素
、芳香族炭化水素、低級カルボニア酸エステル等が用い
られるが、通常クロロホルム、ジクロルメタン１ジクＯ
ルエタン、ベンゼン、り０ルベンゼン、酢酸エチルが用
いられる。
媒と水との混合物中反応を行なうことができる。用いる
疎水性有機溶媒としては例えば低級ハロゲン化炭化水素
、芳香族炭化水素、低級カルボニア酸エステル等が用い
られるが、通常クロロホルム、ジクロルメタン１ジクＯ
ルエタン、ベンゼン、り０ルベンゼン、酢酸エチルが用
いられる。
本発明において化合物（ＩＩ）の使用有機溶媒に対する
濃度は、一般に０．１〜５ Ｑ ｔｎ ｔ％程度、通常
１〜３Ｑｗｔ％とするのがよい。また本発明は、通常反
応温度−７０〜７０°Ｃの範囲で行なわれ、好反応終了
後は抽出、水洗等の通常の後処理の後、溶媒を留去する
ことにより化合物（１）を得ることができる。このよう
にして得られる化合物（１）は？”！ ｆ了純品で次の
反応、例えばｔファロスポリンへの環化反応にそのまま
用いても差支えないが、さらに精製するためには再結晶
あるいはカラムクロマトクラフィーを行なうのがよい。
濃度は、一般に０．１〜５ Ｑ ｔｎ ｔ％程度、通常
１〜３Ｑｗｔ％とするのがよい。また本発明は、通常反
応温度−７０〜７０°Ｃの範囲で行なわれ、好反応終了
後は抽出、水洗等の通常の後処理の後、溶媒を留去する
ことにより化合物（１）を得ることができる。このよう
にして得られる化合物（１）は？”！ ｆ了純品で次の
反応、例えばｔファロスポリンへの環化反応にそのまま
用いても差支えないが、さらに精製するためには再結晶
あるいはカラムクロマトクラフィーを行なうのがよい。
次に実施例をあげて本発明を具体的に説明する。
実施例 １
１
Ｃｏ２ＣＨ２Ｆｉｒ
１
ＣＯ２ＣＨ２Ｐｈ
２−（３−フェノ牛シアｔドアミドー今一ペンセンスル
ホニルチオ−２−アセチジノン−１−イル）−３−メチ
ル−３−づテン酸ベンジル２．０ｇをジクロルメタン１
０ｔｔｌにとかし、水５ゴを加える。これを水浴中冷却
しながらかきまぜ（５，９ｍｍａ ｌの塩素カスの溶け
た塩化メチレン約１０ｗ１を３０分間で滴下する。滴下
終了後有機層を分離し、水層をジグ０ルメタンで抽出す
る。有機層は１つにまとめテＮａＨＣＯ３、Ｈａ２Ｓ２
０． 、’ Ｈａ（４ｔ７）水溶液で洗浄、無水Ｍｆ５
０４で乾燥した後溶媒を減圧下留夫する。このようにし
て得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトクラフィー
を行ない分離精製すると２−（３−フェノ牛シアｔドア
三ドー４−フェニルスルホニルチオ−２−アセチジノン
−１−イＶ−３−り００メチル−３−ブテン醗ベンジル
１．８７ｆ（８８％）を得る。得られた化合物の分析値
は最後に第９表にまとめて示す。
ホニルチオ−２−アセチジノン−１−イル）−３−メチ
ル−３−づテン酸ベンジル２．０ｇをジクロルメタン１
０ｔｔｌにとかし、水５ゴを加える。これを水浴中冷却
しながらかきまぜ（５，９ｍｍａ ｌの塩素カスの溶け
た塩化メチレン約１０ｗ１を３０分間で滴下する。滴下
終了後有機層を分離し、水層をジグ０ルメタンで抽出す
る。有機層は１つにまとめテＮａＨＣＯ３、Ｈａ２Ｓ２
０． 、’ Ｈａ（４ｔ７）水溶液で洗浄、無水Ｍｆ５
０４で乾燥した後溶媒を減圧下留夫する。このようにし
て得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトクラフィー
を行ない分離精製すると２−（３−フェノ牛シアｔドア
三ドー４−フェニルスルホニルチオ−２−アセチジノン
−１−イＶ−３−り００メチル−３−ブテン醗ベンジル
１．８７ｆ（８８％）を得る。得られた化合物の分析値
は最後に第９表にまとめて示す。
実施例 ２
実施例！と同様の操作を、ジグ０ルメタンのかわシに以
下の有機溶媒を用いて行ない下記第１表に示す収率で２
−（３−フェノ士シアセトア三ドー４−フェニルスルホ
ニルチオ−２−アセチジノン−１−イル）−３−クロロ
メチル−３−ブテン実施例 ３ 実施例１と同様にして以下の化合物を得た。結果を第２
表にまとめて示す。
下の有機溶媒を用いて行ない下記第１表に示す収率で２
−（３−フェノ士シアセトア三ドー４−フェニルスルホ
ニルチオ−２−アセチジノン−１−イル）−３−クロロ
メチル−３−ブテン実施例 ３ 実施例１と同様にして以下の化合物を得た。結果を第２
表にまとめて示す。
第 ２ 表
実施例 ４
２−（３−フェノ士シアｔドア三ドー４−ペンセンスル
ホニルチオ−２−アセチジノシーｌ−子をベンゼン−ジ
オ十サン（１：２）１０ｇ／にとかし、ＮａＨｃＯ３３
ｆを加えて室温でかきまぜる。これに塩素２．１ ｍｍ
ａｌ をとかした四塩化炭素１．５ｍを３分間で滴下
し、２時間かきまぜる。これを酢酸エチルを用いて抽出
し、実施例１と同様の後処理を行ない２−（３−フェノ
＋ジアセトアミドー４−ベンセンスルホニルチオ−２−
アセチジノシー１−イル）−３−り００メチル−３−ブ
テン酸ベンジル１．０４ １ （９８％）を得る。
ホニルチオ−２−アセチジノシーｌ−子をベンゼン−ジ
オ十サン（１：２）１０ｇ／にとかし、ＮａＨｃＯ３３
ｆを加えて室温でかきまぜる。これに塩素２．１ ｍｍ
ａｌ をとかした四塩化炭素１．５ｍを３分間で滴下
し、２時間かきまぜる。これを酢酸エチルを用いて抽出
し、実施例１と同様の後処理を行ない２−（３−フェノ
＋ジアセトアミドー４−ベンセンスルホニルチオ−２−
アセチジノシー１−イル）−３−り００メチル−３−ブ
テン酸ベンジル１．０４ １ （９８％）を得る。
実施例 ５
実施例４と同様の操作を以下の有機溶媒を用いて行ない
、第３表に示す収率で２−（３−フェノ牛シアｔドアミ
ドー４−フェニルスルホニルチオ−２−アゼチジノン−
１−イル）−３−２０ロメチル−３−ブテン酸ベニＪジ
ルを得た。
、第３表に示す収率で２−（３−フェノ牛シアｔドアミ
ドー４−フェニルスルホニルチオ−２−アゼチジノン−
１−イル）−３−２０ロメチル−３−ブテン酸ベニＪジ
ルを得た。
第 ３ 表
実施例 ６
実施例４と同様にして以下の化合物を得た。結果を第４
表に示す。
表に示す。
Ｃ０ＯＲ’ ＣＯＯＲ２第 ４
表 実施例 ７ ２−（３−フェノ牛シアセトア三ドー４−ベンゼンスル
ホニルチオ−２−アセチジノン−１−イル）−３−メチ
ル−ブテン酸ベンジル１．Ｏｆをジオ士すｙｌｏＩＩｄ
にとかし、７Ｖ ｔｓ ＨＣＯｓ ３１を加えて室温
でかきまぜる。これに１．５当量の塩素ガスをふき込み
、２時間かきまぜる。実施例４と同様の後処理を行ない
２−（３−フェノ＋シアｔドアミドー４−ベシｔ！ジス
ルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−３−り
ｏｏメチル−３−プテン酸ベンジル１．０ｆ（９５％）
を得る。
表 実施例 ７ ２−（３−フェノ牛シアセトア三ドー４−ベンゼンスル
ホニルチオ−２−アセチジノン−１−イル）−３−メチ
ル−ブテン酸ベンジル１．Ｏｆをジオ士すｙｌｏＩＩｄ
にとかし、７Ｖ ｔｓ ＨＣＯｓ ３１を加えて室温
でかきまぜる。これに１．５当量の塩素ガスをふき込み
、２時間かきまぜる。実施例４と同様の後処理を行ない
２−（３−フェノ＋シアｔドアミドー４−ベシｔ！ジス
ルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−３−り
ｏｏメチル−３−プテン酸ベンジル１．０ｆ（９５％）
を得る。
実施例 ８
２−（３−フェノ牛シアｔドアミドー４−ベシゼンスル
ホニルチオ−２−アセチジノン−１−イル）−３−メチ
ル−３−ブテン酸べ′：Ｊジル２００■をエト士ジエチ
ルアセテート５ ｗｒｌに溶解し、水浴で冷却しながら
かきまぜる。これに濃度０．２８５ＭのＣｌ２Ｏの四塩
化炭素溶液１．２１ ｍｌを１０分間で滴下する。続
いて反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出し、無水Ｍｆ
ＳＯ４で乾燥、減圧下、溶媒を留去する。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトタラフィーを行ない分離精
製すると２−（３−フェノ＋シアセトア三ド−４−べ一
／ぜジスルホニルチオ−２−アセチジノン−１−イル）
−３−り００メチル−３−ブテン酸ベンジル２０２ｑ（
９５％）を得る。
ホニルチオ−２−アセチジノン−１−イル）−３−メチ
ル−３−ブテン酸べ′：Ｊジル２００■をエト士ジエチ
ルアセテート５ ｗｒｌに溶解し、水浴で冷却しながら
かきまぜる。これに濃度０．２８５ＭのＣｌ２Ｏの四塩
化炭素溶液１．２１ ｍｌを１０分間で滴下する。続
いて反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出し、無水Ｍｆ
ＳＯ４で乾燥、減圧下、溶媒を留去する。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトタラフィーを行ない分離精
製すると２−（３−フェノ＋シアセトア三ド−４−べ一
／ぜジスルホニルチオ−２−アセチジノン−１−イル）
−３−り００メチル−３−ブテン酸ベンジル２０２ｑ（
９５％）を得る。
実施例 ９
２−（３−フェノ十゛シアｔドア三ドー４−ベシせジス
ルホニルチオ−２−アセチジノシー１−イル）−３−メ
チル−３−ブテン酸ベンジル２ｇをエト士ジエチルアセ
テート１２ｔｔｔｌにとかし、ＮａＨＣＯ３６Ｆを加え
、室温でかきまぜる。これに濃度０．２３５ ＭのＣｌ
２Ｏの四塩化炭素溶液１２．１ｇ７を１時間かけて滴下
する。続いて反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出し、
無水ＭｆＳＯ４で乾燥、減圧下溶媒を留去する。得られ
た残渣をシリカゲルカラムク０マドクラフイーを行ない
分離精製すると２−（３−フェノ＋シアセトア三ドー４
−ベンゼンスルホニルチオ−２−アぜデジノン−ｌ−イ
ル）−３−りＤロメチル−３−ブテン酸ベンジル２．０
ｆＩ（９４％）を得る。
ルホニルチオ−２−アセチジノシー１−イル）−３−メ
チル−３−ブテン酸ベンジル２ｇをエト士ジエチルアセ
テート１２ｔｔｔｌにとかし、ＮａＨＣＯ３６Ｆを加え
、室温でかきまぜる。これに濃度０．２３５ ＭのＣｌ
２Ｏの四塩化炭素溶液１２．１ｇ７を１時間かけて滴下
する。続いて反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出し、
無水ＭｆＳＯ４で乾燥、減圧下溶媒を留去する。得られ
た残渣をシリカゲルカラムク０マドクラフイーを行ない
分離精製すると２−（３−フェノ＋シアセトア三ドー４
−ベンゼンスルホニルチオ−２−アぜデジノン−ｌ−イ
ル）−３−りＤロメチル−３−ブテン酸ベンジル２．０
ｆＩ（９４％）を得る。
実施例１Ｏ
実施例９と同様の操作を以下の有機溶媒を用いて行ない
、第５表に示す収率で２−（３−フェノ士シアｔドア三
ドー４−ベンセ、スルホニルチオ−２−アセチジノン−
１−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸ベンジル
を得た。
、第５表に示す収率で２−（３−フェノ士シアｔドア三
ドー４−ベンセ、スルホニルチオ−２−アセチジノン−
１−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸ベンジル
を得た。
第 ５ 表
実施例１１
実施例９と同様にして以下の化合物を得た。結果を第６
表に示す。
表に示す。
０ ０第 ６
表 実施例１２ ２〜（３−フェノ＋ジアセトアミドー４−ペシぜジスル
ホニルチオ−２−アセチジノン−１−イル）−３−メチ
ル−３−ブテン酸ベンジル２００ｑをシェド士シエタン
４．３ｍｌに溶かし、水浴で冷却しながらかきまぜる。
表 実施例１２ ２〜（３−フェノ＋ジアセトアミドー４−ペシぜジスル
ホニルチオ−２−アセチジノン−１−イル）−３−メチ
ル−３−ブテン酸ベンジル２００ｑをシェド士シエタン
４．３ｍｌに溶かし、水浴で冷却しながらかきまぜる。
これに濃度０．３ＭのＨＯ（４のジエチルエーテル溶液
１．７３ｍ／を３分間で滴下する。続いて反応溶液に水
を加え酢酸エチルで抽出し、無水ｘｇｓｏ、で乾燥、減
圧下溶媒を留去する。
１．７３ｍ／を３分間で滴下する。続いて反応溶液に水
を加え酢酸エチルで抽出し、無水ｘｇｓｏ、で乾燥、減
圧下溶媒を留去する。
得られた残渣をシリカゲルカラムク０マドクラフイーを
行ない分離精製すると２−（３−フェノ士シアｔドアミ
ドー４−ペンセシスルホニルチオ−２−アゼチジノン−
１−イル）−３−りｎｏメチル−３−ブテン酸ベンジ・
ル１９１４（９０％）を得る。
行ない分離精製すると２−（３−フェノ士シアｔドアミ
ドー４−ペンセシスルホニルチオ−２−アゼチジノン−
１−イル）−３−りｎｏメチル−３−ブテン酸ベンジ・
ル１９１４（９０％）を得る。
実施例１３
実施例１２と同様の操作を以下の有機溶媒上用いて行な
い、第７表に示す収率で２−（３−フェノ＋シアセトア
三ドー４−ベシセンスルホニルチオ−２−アゼチジノン
−１−イル）−３−り０ロメチル−３−ブテン酸ベンジ
ルを得た。
い、第７表に示す収率で２−（３−フェノ＋シアセトア
三ドー４−ベシセンスルホニルチオ−２−アゼチジノン
−１−イル）−３−り０ロメチル−３−ブテン酸ベンジ
ルを得た。
第 ７ 表
実施例１４
２−（３−フェノ＋シアセトア三ドー４−ベシセンスル
ホニル−２−アセチジノン−１−イル）−３−メチル−
３−ブテン酸ベンジル２００１！ｆｉｌをベンセン６
ｍｌに溶かし、室温でかきまぜながらｔ−ＢｕＯＣ４５
１μｌを加え、１時間かきまぜながら反応させる。反応
溶液に水を加えて実施例１２と同様の後処理を行ない２
−（３−フェノ牛シアセトア三ドー４−ペンセンスルホ
ニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−３−りｏｏ
メチル−３−ブテン酸ベンジルＪ９．２ ｑ（９０％）
を得る。
ホニル−２−アセチジノン−１−イル）−３−メチル−
３−ブテン酸ベンジル２００１！ｆｉｌをベンセン６
ｍｌに溶かし、室温でかきまぜながらｔ−ＢｕＯＣ４５
１μｌを加え、１時間かきまぜながら反応させる。反応
溶液に水を加えて実施例１２と同様の後処理を行ない２
−（３−フェノ牛シアセトア三ドー４−ペンセンスルホ
ニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−３−りｏｏ
メチル−３−ブテン酸ベンジルＪ９．２ ｑ（９０％）
を得る。
実施例１５
実施例１４と同様の操作を以下の有機溶媒を用いて行な
い、第８表に示す収率で２−（３−フェノ牛ジアセトア
ミドー４−ベンｔ！ンスルホニルチオ−２−アセチジノ
、：／−１−イル）−３−り００メチル−３−ブテン酸
ベンジルを得た。
い、第８表に示す収率で２−（３−フェノ牛ジアセトア
ミドー４−ベンｔ！ンスルホニルチオ−２−アセチジノ
、：／−１−イル）−３−り００メチル−３−ブテン酸
ベンジルを得た。
第 ８ 表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■ 一般式 素原子又はカルポジ酸保護基を示す。Ｒ３はＣ１〜Ｃ１
゜のアル士ル基又は置換基を有しもしくは有しないアリ
ール基を示す。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体を溶媒中塩素化剤と反
応させることを特徴とする一般式〔式中 Ｂ１． Ｒ２
及びＲ３は前記に同じ。〕で表わされる塩素化アセチジ
ノン誘導体の製造方法。 ■ 溶媒が低級へ〇ゲシ化炭化水素、芳香族炭化水素、
ジ低級アル＋ルエーテル、環状エーテル１低級ジアルコ
牛シエタン及び低級カルポジ酸エステルからなる群から
選ばれる一種類の単独溶媒又は２種以上の混合物である
特許請求の範凹第１項に記載の方法。 ■ 溶媒がり００ホルム、ジグ０ルメタンージク０ルエ
タン、四塩化炭素、ベンゼン、り０ルベンゼン、ジメチ
ルエーテル、ジエチルエーテル、テトラしドロフラン、
ジオ十サン、１１２−、、／メト十シエタン、Ｌ ２−
”ｉエト牛シエタン、１，２−ジプト士シエタン、１
，２−ジベンジルオ十シエタン、１，２−シアｔト士シ
エタン、−ｆＷエチル、西ト酸エチル及びエト牛シエチ
ルア℃テートからなる群から選ばれる一種類の単独溶媒
又はこれら２種以上の混合物である特許請求の範囲第１
項に記載の方法。 ■ 塩素化剤が分子状塩素、ｔ −ＢｕＯＣ４、ＨＯＣ
Ｉ！及びＣｌ２Ｏからなる群から選ばれる少くとも１種
である特許請求の範囲第１項〜第３項に記載の方法。 ■ 分子状塩素を不活性有機溶媒の溶液として使用する
特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ■ 不活性有機溶媒が低級ハロゲン化炭化水素である特
許請求の範囲第５項に記載の方法。 ■ ＨＯＣｌを不活性有機溶媒の溶液として使用する特
許請求の範囲第１項に記載の方法。 ■ 不活性有機溶媒かり低級アル＋ルエーテルである特
許請求の範囲第７項に記載の方法。 ３− ■ Ｃｌ２Ｏを不活性有機溶媒の溶液として使用する特
許請求の範囲第１項に記載の方法。 σΦ 不活性有機溶媒が四塩化炭素である特許請求の範
囲第９項に記載の方法。 ■ 使用する塩素化剤が分子状塩素であシ、使用する溶
媒が疎水性有機溶媒と水との混合物であシ、二層系で反
応を行なう特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ＠ 疎水性有機溶媒がり００ホルム、ジグ０ルメタン、
ジクロルエタン、ベンセン、りＯルベンゼン及び酢酸エ
チルからなる群から選ばれる少なくとも１種である特許
請求の範囲第１１項に記載の方法。 ［相］ 塩化水素トラップ剤の存在下に反応を行なう特
許請求の範囲第１項〜第１２項に記載の方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58040179A JPS59164771A (ja) | 1983-03-10 | 1983-03-10 | 塩素化アゼチジノン誘導体の製造方法 |
| EP84301330A EP0122002B1 (en) | 1983-03-10 | 1984-03-01 | Process for preparing azetidinone derivatives |
| DE8484301330T DE3463140D1 (de) | 1983-03-10 | 1984-03-01 | Process for preparing azetidinone derivatives |
| US07/023,970 US4789740A (en) | 1983-03-10 | 1987-03-09 | Halogenation process for preparing 2-(oxoazetidinyl)-3-chloromethyl-3-butenoate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58040179A JPS59164771A (ja) | 1983-03-10 | 1983-03-10 | 塩素化アゼチジノン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59164771A true JPS59164771A (ja) | 1984-09-17 |
| JPH059425B2 JPH059425B2 (ja) | 1993-02-04 |
Family
ID=12573548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58040179A Granted JPS59164771A (ja) | 1983-03-10 | 1983-03-10 | 塩素化アゼチジノン誘導体の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4789740A (ja) |
| EP (1) | EP0122002B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59164771A (ja) |
| DE (1) | DE3463140D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006507289A (ja) * | 2002-11-01 | 2006-03-02 | オーキッド ケミカルズ アンド ファーマシューティカルズ リミテッド | 改良されたクロロメチルセフェム誘導体調製方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69223663T2 (de) * | 1991-02-20 | 1998-06-04 | Meiji Seika Kaisha | Azetidinonderivate und Verfahren zur Herstellung von Azetidinon- und Cefalosporinderivaten |
| US6248881B1 (en) | 1991-03-08 | 2001-06-19 | Biochemie Gmbh | Intermediates and process for the production of 3-vinyl cephalosporins |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51105051A (ja) * | 1975-02-21 | 1976-09-17 | Shionogi Seiyaku Kk | |
| JPS5283732A (en) * | 1976-01-01 | 1977-07-12 | Shionogi & Co Ltd | Haloazetidinone compounds |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1483526A (en) * | 1974-02-08 | 1977-08-24 | Gist Brocades Nv | Azetidine derivatives |
| CA1136132A (en) * | 1975-02-17 | 1982-11-23 | Teruji Tsuji | Cyclization to form cephem ring and intermediates therefor |
| CA1090806A (en) * | 1977-01-10 | 1980-12-02 | Mitsuru Yoshioka | Oxazolines |
| US4443598A (en) * | 1977-02-15 | 1984-04-17 | Shionogi & Co., Ltd. | 1-Oxadethiacepham compounds |
| US4430268A (en) * | 1979-04-30 | 1984-02-07 | Eli Lilly And Company | Allylic chlorination process |
| JPS5759896A (en) * | 1980-09-30 | 1982-04-10 | Otsuka Chem Co Ltd | Production of thiazolineazetidinone derivative |
| GB2099817B (en) * | 1981-04-10 | 1985-05-15 | Otsuka Kagaku Yakuhin | Azetidinone derivatives and process for the preparation of the same |
| US4482491A (en) * | 1981-05-01 | 1984-11-13 | Otsuka Kagaku Yakuhin Kabushiki Kaisha | Thiazolinoazetidinone derivatives and process for the preparation of the same |
| US4532077A (en) * | 1982-08-25 | 1985-07-30 | Otsuka Kagaku Yakuhin Kabushiki Kaisha | Thiazolineazetidinone-type compounds |
-
1983
- 1983-03-10 JP JP58040179A patent/JPS59164771A/ja active Granted
-
1984
- 1984-03-01 EP EP84301330A patent/EP0122002B1/en not_active Expired
- 1984-03-01 DE DE8484301330T patent/DE3463140D1/de not_active Expired
-
1987
- 1987-03-09 US US07/023,970 patent/US4789740A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51105051A (ja) * | 1975-02-21 | 1976-09-17 | Shionogi Seiyaku Kk | |
| JPS5283732A (en) * | 1976-01-01 | 1977-07-12 | Shionogi & Co Ltd | Haloazetidinone compounds |
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|---|---|---|---|---|
| JP2006507289A (ja) * | 2002-11-01 | 2006-03-02 | オーキッド ケミカルズ アンド ファーマシューティカルズ リミテッド | 改良されたクロロメチルセフェム誘導体調製方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0122002A1 (en) | 1984-10-17 |
| DE3463140D1 (de) | 1987-05-21 |
| EP0122002B1 (en) | 1987-04-15 |
| US4789740A (en) | 1988-12-06 |
| JPH059425B2 (ja) | 1993-02-04 |
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