SE443788B - Anvendning av en substituerad hydroxialkylfenon som fotosensibilisator - Google Patents

Anvendning av en substituerad hydroxialkylfenon som fotosensibilisator

Info

Publication number
SE443788B
SE443788B SE7805579A SE7805579A SE443788B SE 443788 B SE443788 B SE 443788B SE 7805579 A SE7805579 A SE 7805579A SE 7805579 A SE7805579 A SE 7805579A SE 443788 B SE443788 B SE 443788B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
methyl
hydroxy
propanone
carbon atoms
group
Prior art date
Application number
SE7805579A
Other languages
English (en)
Other versions
SE7805579L (sv
Inventor
J Gehlhaus
M Kieser
Original Assignee
Merck Patent Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Merck Patent Gmbh filed Critical Merck Patent Gmbh
Publication of SE7805579L publication Critical patent/SE7805579L/sv
Publication of SE443788B publication Critical patent/SE443788B/sv

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/004—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with organometalhalides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/45—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation
    • C07C45/46—Friedel-Crafts reactions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/63—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by introduction of halogen; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/64—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by introduction of functional groups containing oxygen only in singly bound form
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C45/673—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by change of size of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C45/68—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
    • C07C45/70—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by reaction with functional groups containing oxygen only in singly bound form
    • C07C45/71—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by reaction with functional groups containing oxygen only in singly bound form being hydroxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/80—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/82—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/82—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
    • C07C49/83—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups polycyclic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/84—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing ether groups, groups, groups, or groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
    • C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
    • C08F299/04—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyesters
    • C08F299/0407—Processes of polymerisation
    • C08F299/0421—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F299/0428—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F299/0435—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/07—Aldehydes; Ketones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/10—Esters; Ether-esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/17—Amines; Quaternary ammonium compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/124—Carbonyl compound containing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)

Description

15 20 25 30 35 40 __aa7so5s79-5 ' 2 slaget av reaktion, som skall genomföras, förhållandet av sensibi- lisatorns absorptionsspektrum till den spektrala enerigfördelningen hos den tillgängliga stralningskällan, sensibilisatorns löslighet i reaktionsblandningen samt påverkan av slutprodukten genom däri kvarvarande rester av sensibilisatorn och/eller av de därur under den fotokemiska reaktionen bildade produkterna.
Såsom sensibilisatorer för fotopolymerisationen av omättade föreningar har hittills huvudsakligen bensofenonderivat, bensoinet- rar, bensilmonoacetaler och &-halogenacetofenonderivat använts. Dessa substanser har dock olika nackdelar genom vilka deras tc'niska an- vändbarhet tydligt inskränkes. Härtill hör speciellt egenskapen att polymerisera av med föreningar av dessa grupper försatta mono- merer eller förpolymerer redan utan bestiñlning -i mörker-, dvs. många reaktionsblandningar med sådana sensibilisatorer äger endast en ringa mörkerstabilitet. Andra föreningar från denna klass äger endast en ringa kemisk stabilitet; så spjälkas exempelvis många bensilmonoaeetaler redan av mycket små vattenmängder, t.ex. genom luftfuktigheten, till bensil och alkohol. Andra av dessa kända sensibilisatorerna astadkommer slutligen ett gulnande av de med dessa framställda pelymerisaten, vilket är speciellt högst oönskat vid vanligtvis färglösa plaster eller speciellt vid UV-härdade tryckfärger. För detta sist nämnda användningsområde spelar även den ofta lösligheten av de kända stabilisatorerna i monome- rerna eller fürpnlymerurna en viktig roll. Dä tryckfärger i regel innehåller ansenliga mängder färgade pigment, som absorberar en stor del av den ínstralade energin utan att den är fotokemiskt verksam, måste här en större mängd sensibilisator tillsättas. Den utgör här ofta 5 till 10 viktprocent av reaktionsblandníngen, dvs. av tryckfärgen, under det att annars i plastíndustrin i frånvaro av färgande tillsatser ofta 1 till 2 víktprocent är fullständigt tillräckligt. Denna koncentration kan för det mesta även dessutom uppnås med de ringa lösliga kända sensibilisatorerna. Vid de i tryckfärger erforderliga koncentrationerna utkristalliserar ofta delvis de kända sensibilisatorerna; frånsett att de utkrisalliserade andelarna inte längre blir verksamma sensibiliserande, skadar de bildade kristalliterna även dessutom efter någon tid de av rela- ringa tivt mjuka material bestående tryckplattorna.
Uppgiften med föreliggande uppfinning var anskaffandet av fotosensibilisatorer, speciellt för fotopolymerisationen av omät- tade föreningar, vilka sensibilisatorer är lagerstabila i mörker 10 15 20 25 30 “ 7805579-s i blandning med de andra reaktionsdeltagarna och själva och genom sina följdprodukter inte förorsakar något gulnandc av reaktions- produkterna och som har en om möjligt hög löslighet i monomercrna och förpolymererna, som på vanligt sätt underkastas en fotopolymeri- sation. Därutöver skall de i våglängdsomrâdet från 250 till S00 nm, företrädesvis mellan 300 och 400 nm ha en största möjliga foto- sensibiliserande verkan.
Enligt föreliggande uppfinning löses denna uppgift genom anskaffandet av föreningar med den allmänna formeln I till använd- ning såsom fotosensíbilisatorer, vari R1 betecknar väte, en fenylgrupp, en dialkylaminogrupp med 2-4 kolatomer, en alkyl- eller alkoxígrupp med vid varje tillfälle upp till 18 kolatomer, R2 betecknar väte, klor, brom, en alkyl- eller alkoxigrupp med vid varje tillfälle ända till 4 kolatomer, R3 och R4, som kan vara lika eller olika, betecknar vardera en alkylgrupp med ända till 6, tillsammans 2 till 10 kolatomer, R5 betecknar väte, en alkyl- eller alkanoylgrupp med vid varje tillfälle ända till 4 kolatomer och R6 betecknar väte eller, när R1 betecknar väte och R2 betecknar en 2-metylgrupp även en metylgrupp.
Det visade sig, att föreningarna med den allmänna formeln I har en god fotosensibiliserande verkan för strålning i váglängds- området från 250 till S00 nm och är tydligt bättre lösliga i de flesta för fotopolymerisationer använda monomererna resp. förpoly- mererna, t.ex. på basis av omättade estrar, såsom akrylsyraestrar, metakrylsyraestrar eller maleínsyraestrar, eller styren, än de flesta hittills använda sensibilisatorerna. Lösningarna av foto- sensibilisatorerna med den allmänna formeln I i dessa monomerer och förpolymcrer har därutöver i regel en bättre lagerstabilítet i mör- ker än exempelvis analoga lösningar av bensoinetrar. Slutligen iakttages vid fotopolymerisationer med sensibilisatorerna med den allmänna formeln I inte eller endast väsentligen ringa utsträck- ning gulnande av polymerisaten än med de hittills brukliga sensi- bílisatorerna. 10 15 20 25 30 7805579-5 Förclàggandc.uppf3nning avse: íeäjaisâigen enwâædmäwgeæ av föreningarna med den allmänna fetmmln 3 såsen äwfloseæsšbâlâsaäotet, speciell: för fotopolymcrisatáener av enâizzde íöreæfingaz sann šñs UV-härdningen av xryckíärgcr.
Föreliggande uppfinning avse: vidare de nya íëtßaângarna meë den allmänna formeln ll R- ...ut . J R' i/ \,.co-c-ai ana» f: 'q ris-z.
J R» vari R1 betecknar väte, fcnyl, dialkylamàno ned 2-4 kolatomer eller alkyl eller alkoxi med vid varje tillfälle upp till IS kolatoner, R, betecknar väte, klor, brom, alkyl eller alkoxi ned vid varje tillfälle upp till 4 kolatomer, RS och R¿, som kan vara lika eller olika, betecknar vardera alkyl med upp till 6, tillsaannns 2 till 10 kolatomer, och RS betecknar väte, alkyl eller alkanoyl med vid varje tillfälle upp till 4 kolatomer, varvid inte R] och R2 samt R3 och R4 samti- digt betecknar väteatomer, varvid inte R] betecknar metyl, netoxi eller fenyl, när R2 betecknar väte samt RS och R¿ betecknar netyl, och varvid inte R, betecknar metyl, när R1 betecknar väte samt R och R4 Med hänsyn till de gemensamma strukturkännetecknen hos de 3 betecknar metyl. hittills brukliga fotosensibilisatorerna, som i regel innehåller två eventuellt substituerade fenylkärnor, vilka aromatiska system är korskonjugerade över en eller tvâ kolatomer, är det överraskande, att hydroxialkylketonerna, som änvändes enligt föreliggande uppfin- ning och med endast en aromatisk ring har en så god fotosensibíli- satorverkan. Visserligen har även acetofenon och derivat av aceto- fenon redan föreslagits och använts såsom fotosensibilisatorer, speciellt för fotokemiska cykloadditioner. De med föreningarna från denna klass erhållna resultaten, speciellt kvantutbytena av de där- med sensibiliserade fotokemiska reaktionerna var dock mestadels tydligt sämre än de exempelvis med bensofenon erhållna resultaten.
I den allmänna formeln I betyder gruppen R] företrädesvis alkyl eller alkoxí med upp till 18 kolatomer, dífllkïï' amíno med 2-4 kolatomer eller fenyl. Speciellt lämpliga grupper R] är alkylgrupper med upp till 12 kolatomer eller dimetylamínogruppen. 10 15 20 25 30 35 40 7805579-5 Gruppen R2 betecknar företrädesvis väte. Den kan emellertid även vara en klor- eller bromatom eller en metyl- eller metoxigrupp, som befinner sig i 2-ställning, företrädesvis dock i 3-ställning av fenylkärnan.
Speciellt lämpliga är föreningar, i vilka båda grupperna R3 och R4 betecknar alkylgrupper, som tillsammans innehåller 2 till 10, företrädesvis 2 till 8 kolatomer.
Gruppen RS betecknar företrädesvis väte; när den betecknar en alkyl- eller alkanoylgrupp, är av dessa metyl, etyl och acetyl lämpliga.
Gruppen RO är slutligen lämpligen väte; den betecknar endast då en metylgrupp, om R1 betecknar väte och R2 betecknar en 2-metyl- QTUPP- I överensstämmelse därmed användes enligt föreliggande upp- finning speciellt de föreningar med den allmänna formeln I såsom fotosensibilisatorer, i vilka minst en av grupperna RI till R6 har en av de ovan nämnda_lämpliga betydelserna. Några grupper av före- ningar, som lämpligen användes enligt föreliggande uppfinning, kan uttryckas genom de följande delformlerna Ia till Ip, som motsvarar den allmänna formeln I och vari de inte närmare betecknade grupperna har den vid den allmänna formeln I angivna betydelsen, vari dock i Ia R1 betecknar alkyl med 1-12 kolatomer; i Ib R1 betecknar alkyl med 3-12 kolatomer; i Ic R1 betecknar dimetylamino; i Id R2 betecknar väte; i le R2 betecknar 3-kloro-, 3-bromo-, 3-metyl- eller 3-metoxi-j i If R1 betecknar alkyl med 1-4 kolatomer och R2 har en av de i le angivna betydelserna; i lg R3 och R4 betecknar metylgrupper; i Ih R3 betecknar etyl och R4 betecknar n-butyl; i li R3 betecknar metyl och R4 betecknar etyl; i lj RS betecknar väte; i Ik Rs betecknar metyl, etyl eller acetyl; i 11 R] betecknar alkyl med 3-12 kolatomer och R2 och RS betecknar väte; i Im R] betecknar alkyl med 3-12 kolatomer, R2 betecknar väte och RS och Ra betecknar metyl; i ln R] betecknar alkyl med 1-12 kolatomer, R2 betecknar väte, R, betecknar etyl och R4 betecknar n-butyl; i lo R O betecknar väte; 7805579-5 i Ip R1 betecknar väte, R2 betecknar 2-metyl och RÖ betecknar metyl.
Framställningen av några av föreningarna med den allmänna formeln I, som användes enligt föreliggande uppfinning , är känd S från Bull. Soc, Chimï France 1967, 1047-1052, J. Amer. Chem. Soc. 75 (1953), 5975-5978 och Zh. Obshch. Khim 34 (1964), 24-28. Deras utmärkta fotosensibiliserande verkan är dock varken beskriven i dessa litteraturstüllen eller ligger den därigenom nära till hands.
De nya föreningarna med den allmänna formeln I kan framställas ana- 10 logt till de i de angivna litteraturställena beskrivna föreningarna enligt standardförfaranden inom den organiska kemin.
I ett lämpligt framställningsförfarande bringas ett bensen- derivat med den allmänna formeln III a] \';..e-x1 (111) \.,<~.». a, vari HI, R, nrh RU har ovan angiven betydelse, att i närvaro en VW Lrwvr-f»«yz.|, :.<~i. ;rl\nnl:\in\nkl<»rirl, rrw\g\~ra nnerl ellt;-luxl011- »yraklnrrd mvd din Jilwanna :nrmvln il H3 nn »ii-ÄJ-a, (lv) Hal vari RS den RÅ har »van lngxvvn hvzydvlwe nrh Hal betecknar en halo-M gonatom, fnxvfrndvnvlw lin: eller brom, nuhiam Rh1vahn'pa:m san ts l'l\íl I l xfill lien l «i3;«-|\l\«* I :>:r n@\~~l «lc^I| .x l I nsià 1\|x;x l°«i x'n11' I ll \/ R ' b\»~v“\ R3 A5 \g .._._ _, R,~\\ I. LO L R4 (V) "¿' Hal Rj 3” var: RI, R,. Rï, R4, RU och Hal har ovan angiven betydelse, pa i och för sig vanligt sätt till hydroxialkylfenon med den allmänna formeln l(R5=H). Om Rx och R¿ betecknar alkylgrupper, lyckas denna 7805579-5 s: förtválning genom enkel uppvärmning avC<-halogenketonen V med en koncentrerad lösning av en alkalihydroxid i ett med vatten bland- bart lösningsmedel, såsom metanol, etanol, isopropanol, aceton eller dimetylsulfoxid.
Alkanoyloxialkylfenoner med den allmänna formeln I (R5= alka- noyl) kan framställas genom acylering av hydroxialkylfenonerna (I,R5=H) med lämpliga karbonsyraderivat, exempelvis karbonsyraan- hydrider ellero-halogenider.
Alkoxialkylfenonerna med den allmänna formeln l1(R5#flkvUkan exempelvis framställas genom reaktion av<1-halogenketonerna V med ett alkoholat, t.ex. natriumetylat, i ett vattenfritt organiskt lösningsmedel, såsom etanol.
Utom genom Friedel-Crafts-reaktionen av III med IV kan &-ha- logenketonerza V aven på i och för sig vanligt sätt framställas ge- nom halogonering, företrädesvis kloreríng eller bromering av en fenon med den allmänna formeln V1 Ro 4* R3 ß1~ / _j>-co-ca"” (VI) v « “4 R2 vari RI, R2, RS, R4 och Ro har ovan angiven betydelse.
Detta förfarande användes lämpligen då, när fenon VI är lätt tillgänglig och vid halogcneringen inte några bíreaktíoner, t.ex. hulogonering av kolatomer i bcnsylställning i R1, R2 och/eller R6 uppträder.
Vidare kan hydroxialkylfenonerna med den allmänna formeln I framställas, i det att en Grígnardförening med den allmänna formeln Vll -Mg-nal (V11) 10 15 20 25 30 35 7805579-5 3 vari R1, RZ, RÖ och Hal har ovaiznunven betydelse, bringas att rea- gera med en vid syret skyddad cyanhyhydrin med den allmänna formeln VIII Ne RS _ (v111) Sch-O" R4 vari Sch-0- betecknar en mot Grignardföreningar beständig skyddad hydroxylgrupp, L ex. en tetrahydropyranyletergrupp, och R3 och R4 har ovan angiven betydelse, och därefter reaktionsblandningen pà i och för sig vanligt sätt hydrolyseras i närvaro av en syra. Detta framställningsförfarande användes lämpligen för syntesen av före- ningarna med den allmänna formeln l, i vilka R] betecknar en dial- kylaminogrupp.
Användingen av föreliggande fotosensibilisatorer sker pá i för sådana produkter vanligt sätt. Exempelvis löses för fotopoly- merisationen omättade föreningar i dessa material, vars förpolymerer eller försampolymerer innehåller 0,05 till 15 viktprocent, före- trädesvis 0,1 till 12 viktprocent av en eller flera föreningar med den allmänna formeln I, eventuellt tillsammans med andra, redan kända fotosensibilisatorer och dessa lösningar bestrålas med ljus eller UV-strålning i våglängdsområdet från 250 till S00 nm, före- trädesvis 300 till 400 nm. Såsom omättade föreningar, som kan foto- polymeriseras med föreliggande sensibilisatorer, ifrågakommer alla de, vars C=C-dubbelbindningar är aktiverade genom exempelvis halogen- atomer, karbonyl-, cyano-,karboxi-, ester-, amid-, eter- eller aryl- grupper eller genom konjugerade ytterligare dubbel- eller trippel- bindningar. Exempel på sådana föreningar är vinylklorid, vinyliden- klorid, akrylsyrametylester, akrylnit“il, hydroxietylakrylat, cyklo- hexylakrylat, hydroxipropylakrylat, hydroxietylmetakrylat, bensyl- akrylut, 2-etylhexylakrylut, fenyloxietylakrylag lägre alkoxietyl- akrylat, terrnhydrofurfurylakrylat, N-vinylpyrrolidon, N-vinylkarba- zol, vinylacetut, styren, divinylbensen och substituerade styrener. Även flerfaldigt omüttade föreningar, såsom trimetylolpropandiakrylat, propoxilerad bisfenol-A-diakrylat och -dimetakrylat och 1,6-hexan- diol-diakrylat och pentaerytrittriakrylat kan fotopolymeriseras med scnsibilisatorcrna enligt föreliggande uppfinning. Såsom förpolymerer och för-sampolymerer ifrågakommer exempelvis omättade polyestrar, akrylmaterinl, epoximaterial, uretaner, silikoner aminopoly- amidhartser och speciellt akrylerade hartser, såsom akry- - lerad kiselolja, akrylerud polyester, akrylerade uretaner, akrylerade 10 15 25 35 40 9 7805579-s polyamider, akrylerad sojabönolja, akrylerat epoxihnrts och akry- lerat akrylharts.
De fotopolymeriserbara föreningarna eller blandningarna kan vara stabiliserade genom tillsats av kända inhibitorcr i vanliga mängder, utan att därigenom sensibilisatorverkan av fërelzggnnde fotosensibilísatorer nämnvärt inkräktas pà. Vidare kan de innehålla pigment eller färgämnen, såsom de som är vanliga i fotokeniskt härdade tryckfärger. I detta fall väljes sensibilisatormängdcn högre, exempelvis 6 till 12 viktprocent, under det att färglösa fotopolymeriserbara produkter 0,1 till 3 fall fullständigt räcker. Såsom eventuellt ti lsammans med förelig- gande sensibilisatorer användbara kända fotosensibilisatorer ifråga- kommer exempelvis Michlers keton (4,4'-bis¿dimetylaminqjbcnsofenon) 4,4'-bis(diety1amino)benscfenon,1*UifiwQ¶3mífl0h0fl$31d0hF¿. ¿.¿' viktprocent i de flesta bis(dimetylamino)bensil, p-dimetylamínobensofenon,pflümeulamhwbenxfln, Q p-dimetylaminobensil, N~suhstitucrade 9-akrídanoner, de i amerikanska patentskrií- ten 3631 588 beskrivna amino- (eller fenyl-3karbonylföreningarna, de i amerikanska patentskriften 3 552 9T5 beskrivna p-aminofenyl- karbonylföreningarna, acetofenon, propiofenon, xanton, bensaldehyd, bensofenon, p-klorobensofenon, biacetyl, bensil, fluorenon, 3-nitro- 4-klorobensofenon-2-karbonsyra, fenantrenkinon,bensoin; och aflqletrar av bonsoin, 2-klorotíoxanton, 10-tioxantenon, 1-fenyl-I,2-propandionoxim och estrarna och etrarna därav, isatin, antron, hydroxipropylbensoat, bensoylbensoat- muylat,2,4«hmeQlben¶ñhnon, bensoylbifenyl, acenaftenokinon eller dibensosuberon. Såsom strâlningskällor för genomförandet av foto- polymerisationen kan solljus eller artificiella strálningsapparater användas. Fördelaktiga är kvicksilverånghög- eller làgtryckslampor, xenon- och wolframlampor; laserljuskällor kan dock likaledes an- vändas.
Följande exempel skall belysa uppfinningen utan att begränsa den. I dessa exempel är temperaturerna angivna i grader Celcius; Koncentrations- och procentangivelserna är, såvida inte annat an- gives, räknade på vikten; tryckangivelserna vid kokpunkterna är i Pa.
Exemepel 1 till 6 avser framställningen av föreningarna med den allmänna formeln I, som skall användas enligt föreliggande upp- finning. . ÉXEMPEL 1 I en suspension av 665 g aluminiumklorid i 2000 ml 1,Z-di- kloroetan iföres vid 00 740 g Q-kloroisobutyrylklorid (framställd genom klorering av isobutyrylklorid i närvaro av katalytiska mängder p-ww x-.q-J-.sçf 7805579-5 1” klorosulfonsyra och kloranil). Till denna blandning sättes dropp- ' vis under kraftig omröring vid 0 till 50 1230 g handelsmässig tek- nisk dodecylbensen (MarlicanR från Chemischen Werke Hüls AG, Marl.) Efter avslutad droppvis tillsats omröres reaktionsblandníngcn vid 5 denna temperatur i ytterligare 45 minuter och iröres därefter i en blandning av 1000 g is och 400 ml koncentrerad saltsyra. Det or- ganiska skíktet frñnskiljes, tvättas tva gånger med var gång 300 ml utspädd saltsyra, torkas över kalciumklorid och indunstas. Åter- stående 1-(4'-dodecylfenyl)-2-kloro-2-metyl-propanon-(1) löses 10 under omrörning och lätt uppvärmning i 2000 ml isopropylalkohol.
Denna lösning upphettas med 550 ml 32-procentig vattenhaltig nat- ronlut under omröring i 1,5 timmar till kokning och hälles därefter i 2000 ml vatten. Den vattenhaltiga reaktionsblandningen extraheras med 1000 ml toluen, extraktet tvättas med 1000 ml 10-procentig vatten- 15 haltig natriumkloridlösning, torkas över natriumsulfat och induns- tas. Återstâende 1-(4'-dodecylfenyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1) destilleras under förminskat tryck. Kp1,33 180-1830.
Atalogt framställes; 1-(4'-hexylfenyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(I), 20 1-(4'-oktylfenyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1), 1-(4'-nonylïenyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1), 1-(4'-hcxvdccylfenyll-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1), 1-Il'-oktaducylfenyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1), 1-(4'-hexyloxifenyl)-2-hydroxí-2-metyl-propanon-(1), 1-(4'-oktyloxifenyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1), 1-(4'-dodecylfenyl)-2-hydroxi-2-etyl-hexanon-(1), 1-(4'-dodccylfenylJ-2-hydroxí-2-metyl-butanon-(1), f v LW 1-(4'-klorofenyll-2-hydroxi-2-mctyl-propanon-(1), Kp. _ _ 117-11x°, 13,3 30 1-fenyl-2-hydroxi-2-metyl-prnpnnnn-(1), Kp. 39,9 so-srfi”.
EXHMPEL 2 Analogt med exempel 1 framställes med 133 g alumíniumklorid i S00 ml diklnrouzan ur lll g Q-klornisohnryrylklorid och 92 g toluen 35 1-(4'-metylfunyl1-2-kloro-2-metyl-propanon-(1) och råprodukten löses i S00 ml vattenfri metanol. Under omröring tillsättes droppvis en lösning av S4 g natriummetylat i 1500 ml metanol, reaktionsbland- ningen värmes till 600 öch får sedan stå i 16 timmar. Därefter av- fíltreras utfallen natriumkloríd och filtratet indunstas. Återstäende 10 25 SU ll 7805579-5 1-(4'-metylfcnyl)-2-metoxi-2-metyl-propanon destílleras under för- minskat tryck; man erhåller 95,4 g med Kp.3,99 75-770.
Analogt framställes: l-(4'-metylfenyll-2-ctoxi-2-metyl-propanon-(1), l~(4'-metylfenyl)-2-butoxi-2-metyl-propanon-(1), 1-(4'-ísopropylfenyl)-2-etoxi-2-metyl-propanon-(1), l-(4'-pcntylfenyl)-2-metoxí-2-metyl-propanon-(1), 1-(4'-metylfenyll-Z-metoxi-2-etyl-hexanon-(1), I-(4'-dodecylfenyl)-2-etoxí-2-mety1-propanon-(1).
EXEMPEL 3 Analogt med exempel 1 framställes med 335 g alumíníumkleríd i l000 ml díkloroetan ur 300 g toluen och 455 g klorid 550 g 1-(4'-mefylfenyll-2-kloropropanon-(1). Råmateríalet löses i 3000 ml etanol och upphettas med 392 g vattenfritt kalium- acctat i 15 timmar till kokning. Därefter indunstas reaktions- hlandningen under förminskar tryck, återstoden upptages 1 2500 ml dietyleter och filtreras. Filtratet indunstas och återstående I-(4'-metylfeuyl)-2-aeetoxi-propanon-(1) destílleras under för- tis-1220. minskat tryck; utbyte: Sol g. Kp.3q Q ..,.
Analogt framstalles: 0 4-tert.hutyl- -acetoxi-acetufenon, Kp.¿q Q 140-1430, .. p I-(4'-tert.hutylfenyll-3-acetoxi~2-metyl~propanon-(I), xp." 144-tas”.
Ju,u kfiïßïkfl En lösning av 371 g I-(4'-metylfenyl)-2-acetoxi-propanon-(1) i 3000 ml rlumvütekarheuat i isuprupylalkohul försattes med en lösning av 151 g nat- llU0 ml timmar under umrörlng till aingsmedlet under förminskat tryck, återstoden upptages i 500 ml vatten och extraheras tre gånger med var gång 300 ml díetyleter.
De förenade eterextrakten torkas över natriumsulfat och índunstas. vatten och blandningen upphottas i 15 kokning. Därefter avdestillcras lös- Aterstaende 1-(4'-metylfenyl)-2-hydroxi-propanon-(1) destíllcras under förminskat tryck; utbyte, 224 g. Kpsg 9 85-900.
Analogt framställes: I-(3H4'wUmeUdfmnd )-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1), xp.79,8 ss-9o°; 1-(4'-metoxifenyl)-2-hydroxí-2-metyl-propanon-(1), Kp.13,3 izs-1z9°; 10 15 20 25 30 35 7805579-5 -W 12 1-(4'-bifenylyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1), smp. 850; 1-(4'-ísopropylfenyl)-2-hydroxi-butanon-(1), 1-(4'-nonylfcnyl)-2-hydroxi-hexanon-(1).
EXEMPEL s Till en lösning av 0,1 mol acetoncyanhydrin-tetrahydropyra- nyleter i 50 ml vattenfri tetrahydrofuran tillsättes droppvis under loppet av 40 minuter under omröring en lösning av 0,075 mol 4-di- metyl-aminofenyl-magnesiumbromid i 100 ml vattenfri tetrahydrofuran och reaktionsblandningen upphettas i ytterligare 1,5 timmar till kokning. Därefter tillsättes 100 ml 10-procentig vattenhaltig svavel- syra, blandningen upphettas kort ännu en gång till kokning och ínställes sedan med 10-procentig vattenhaltig natronlut på ett pH-värde av ca 10. Den svagt alkaliska reaktíonsblandningen urskakas tre gånger med var gång 150 ml dietyleter, de förenade eterextrakten urtvüttas med 100 ml vatten, filtreras och torkas över natriumsul- fat. Efter avdestillering av etern kvarblir 12 g 1-(4'-dímetyl- aminofenyl)-2-hydroxí-2-metyl-propanon-(1), som omkristallíseras ur etanol; smültpunkt 1150.
Analolgt framställes: 1-(4'-dietylaminofenyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1), 1-(4'-etoxífenyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1), 1-(4'-butyloxifeny1)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1), 1-(4'-dimetylamínofenyl)-2-hydroxi-2-metyl-butanon-(1), 1-(4'-dimetylaminofenyl)-2-hydroxi-2-etyl-butanon-(1). lïXliMlllšl, 6 i a) Till en suspension av 1038 g vattenfri alumíniumklorid i 3000 ml dikloroetan sattes droppvis vid 6-10° under iskylning först 750 g isobutyrylklorid och därefter 900 g tert. butylbensen. Reak- tionsblandningen får stå i ytterligare 1 timme vid 60 och sedan i 15 timmar vid rumstemperatur. Därefter íröres långsamt i en lös- ning av 600 ml koncentrerad saltsyra i 2400 ml isvatten, den or- ganiska fasen avskiljes och den vattenhaltiga lösningen urtvättas en gång med 000 ml dikloroetan. De förenade organiska faserna tvättas vardera en gång med var gång 500 ml 5-procentig saltsyra och vatten. torkas över kalciumklorid och indunstas. Återstående 1-(4'-tert. butylfenyl)-2-metyl-propanon-(1) destilleras under för”inskat tryck; utbyte: 1085 g. Kp.13,3 98-1020. _ ” 7805579-s b) I en lösning av 1007 g 1-(4f-tert.butylfeny1)-2~metyl-propa- non-(1) i 3000 ml metanol inledes i närvaro av 2 ml koncentrerad saltsyra och 2 g jod vid 500 under omröring inom loppet av 1,5 timmar 550 g klor. Därefter omröres reaktionsblandningen i ytterligare 30 minuter vid S00 och sedan avdestilleras lösningsmedlet. Åter- stoden upptages i 1000 ml toluen och tvättas neutral och klorfrí med vattenhaltig natriumvätekarbonatlösníng och vattenhaltíg natrium- tíosulfatlösning. Därefter avdestilleras toluen och återstående rå 1-(4'-tert.butylfenyl)-2-kloro-2-metyl-propanon-(1) löses i 2000 ml isopropylalkohol. Till denna lösning sattes 420 ml 32-procentíg vattenhaltig natronlut och reaktionsblandningen upphettas i 1,5 timmar till kokning. Efter avkylning urskakas reaktionsblandningen med 1000ml toluen, toluenextraktet tvättas med 1000 ml 10-procentíg vattenhaltig natriumkloridlösníng, torkas över kalciumklorid och indunstas. Återstâende 1-(4'-tert.butylfenyl)-Z-hydroxi-2-metyl- propanon-(1) destilleras under förminskat tryck; utbyte 839 g.
Kp. 13_3 132-135°.
Analogt framställes: 1-(4'~metylfenyl)-2-hydroxi-2-mety1-propanon-(1), xp. 66,5 120-122°; 1-(4'-etylfenyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1) kp.39,9 104-1o9°; 1-(4'-isopropylfenyl)~2-hydroxí-2-metyl-propanon-(1), Kp. 53,2 108-1o9°; 1-(3'-klorofd'-metoxifenyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1), smp. 92-930; 1-(3'-brom-4'-metoxifenyl)-2-hydroxi-Z~metyl-propanon-(1), smp. 104-1060; ' I-(3'-klor-4'-metylfenyl)-2-hydroxí-2-metylpropanon-(1), kp.93,] 130-13s°; ' 1- (2',5'-dímetylfenyl)-2-hydroxi-Z-metyl-propanon-(1); 1-(2',4'-dímetylfenyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1), 1-(4'-metylfenyl)-2-hydroxí-2-etyl-hexanon-(1), Kp. 39_9 155-1ss°; 1-(4'-tert.butylfeny1)-2-hydroxi-2-ety1-hexanon-(1), Kp.2ó,6 162-1oo°; 1-(4'-isopentylfcnyl)-2-hydroxí-2-metyl-propanon-(1), 1-(4'-metylfcnyl)-2-hydroxi-Z-metyl-butanon-(1), Q 1-(4'-Isopropylfenyl)-2-hydroxi-2-metyl-butanon-(1), 1-(4'-tert.buty1fenyl))-2-hydroxi-2-metyl-butanon-(1)_ 1-(3',4'-dímetylfcnyl)-2-hydroxí-2-metyl-butanon-(1). 10 15 7805579-5 14 Följande exempel 7 till 14 avser ænänàüngml av föreliggande fotosensibilisatorer vid fotopolymerisation av omättade föreningar.
EXEMPEL 7 Var gång försattes 20 g av ett handelsmässigt gjutharts på basis av delvis polymeriserad metylmetakrylat och allylmetakrylat (PlexítB“MU S1 från firma Röhm GmbH, Darmstadt) med vid varje tillfälle 0,4 g av en föreliggande sensibilisator resp. en handels- mässíg jämförelseprodukt. Efter fullständig upplösning av sensi- bilisatorn och jämn genomblandning lagras proven i slutna glas- flaskor vid 600 i mörker. I regelmässiga tidsavstånd provas proven på begynnande gelning. De i den följande tabellen sammanställda resultaten är ett mått för lagerstabiliteten i mörker av fotopoly- meriserbara blandningar under användning av de olika sensibilisa- torerna.
Tabell B 7 AFörsök Scnsibilisator Lagerstabilitet nr i mörker [dagar] 1 1,2-dif@ny1-2,z- ' 4 dimetoxi-etanon-(1). 2 bensoinbutyleter Q 0,5 ; 3 1-(4'-dodecylfenyl)- 5 1 -Z-hydroxi-2-metyl-§ propanon-(1) Resultaten visar, att fotopolymeriserbara blandningar med föreliggande sensibilisator (försök 3) har en tydligt bättre lager- stabilitet i mörker än blandningarna med de kända sensibilisatorerna (försök 1 och 2).
EXEMPEL 8 Analogt med exempel 7 bestämmes lagerstabilíteten i mörker hos fotopolymcriserbara blandningar av var gång 20 g av ett handels- mässigt gjutharts på basis av omättade polyestrar och styren {"P8lflï81 P 70" fran.firma BASF AG, Ludwigshafen) och vardera 0,4 g av en föreliggande och av två kända sensibilisatorer. Resultaten är samman- ställda i tabell B 8. 10 15 20 t.) Un “ ~ 7805579-5 Tabell B 8 'Försök Sensibilisator ñLagerstabilitet nr _ gi mörker [dagar] 1 1,2-difcnyl-2,2-di- g 7 . metoxi-etanon-(1) Å 5 I 2 bensoinbutyleter Ä 8 É 1 : 5 1 1-(4'-dodecy1f@ny1)-z- Å 12 É hydroxi-2-metyl-propa- f š non-(1) É Även dessa exempel bevisar de överlägsna egenskaperna hos föreliggande sensibilisator.
EXEMPEL 9 Var gång försattes 50 g av ett handelsmüssigt gjutharts på basis ax delvis polymeriserad metylmetakrylat och allylmetakrylat (PlexitR HU 51 från firma Röhm GmbH, Darmstadt) med vid varje till- fälle 1,25 g 1-(4'-tert.butylfenyl)-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1) resp. bensoinbutyleter såsom sensibilisator och utstrykes på glas- plattor till 250 pm tjocka skikt. Genast efter utstrykningen be- strålas skikten från 11 cm avstånd med en kvicksilverânglampa i 30 sekunders tid. Av båda materialen bildas ett hårt skikt med icke klibbig yta, som vid användningen föreliggande sensibilisator är färglöst klar, vid användning av den kända bensoinetern däremot har en tydlig gulaktig färgning.
EXEMPEL 10 En lösning av 0,2 g 1-(4'-metylfenyl)-2-hydroxi-2-metyl- propanon-(1) i 10 g trimctylolpropantriakrylat utstrykes på en glasplatta till ett 50 pm tjockt skikt och bestrålas såsom i exempel 9. Man erhåller ett hårt, färglöst, glasklart och högglänsande över- drag.
EXEMPEL 11 En lösning av 0,1 g 1-(2§5'-dimetylfenyl)-2-metoxi-2-metyl- propanon-(1) och 0,1 g bensoinbutyleter i 10 g trimetylolpropan- triakrylat påföres med en gummivals cirka 100 pm tjockt på vitt ritpapper. Efter bestrålning som i exempel 9 bildas en färglös, 10 15 20 7805579-5 16 glänsande beskíktning.
EXEMPEL 12 I en lösning av 0,8 g 1-(4'-tert-butylfenyl)-2-hydroxí-2- metylpropanon-(1) och 0,8 g 1-(4'-ísopropylfenyl)-2-hydroxi-2-metyl- propanon-(1) i 16,4 g pentaerytritoltriakrylat dispergeras jämnt 2,0 g blått koppar-ftalocynaninpigment. Med denna dispersion ifärgas en rasterkliché och vitt papper tryckes därmed. Den efter tryck- processen klibbiga tryckytan bestràlas därefter i 20 sekunders tid från 11 cm avstånd med kvicksilveránglampa. Man erhåller ett klibb- fritt, avtorkbart tryck.
EXEMPEL 13 En lösning av 0,2 g 1-fenyl-2-hydroxi-2-metyl-propanon-(1) i10 g trímetylol-propantriakrylat páföres med en 25 pm-spiralrakel pà vitt, bestruket papper och pàstrykningeflfbestràlas såsom i exempel 9. Man erhåller en glänsande, färglös, klibbfrí beskiktning.
EXEMPEL 14 En lösning av 0,75 g 1-(4'-klorofenyl)-2~hydroxi-2-metyl- propanon-(1) 1 en blandning av 20 g trimetylolpropantriakrylat och 10 g butandioldíukrylat pàförcs med en 25 pm-spiralrakel på vitt, bestrukct papper odxbestrålas såsom i exempel 9. Man erhåller en färglös, högglünsande beskiktning.

Claims (2)

1. 7805579-5 i? Patentkrav I. Användning av minst en substiluerad hydroxialkylfonon med den allmänna formeln (I) Rs i 111 o-'c-R (Il l o vari R] betecknar väte, en fenylgrnpp, en dialkylaminogrupp med
2. -4 kolatomer, en alkyl- eller alknxigrnpp med vid varje tillfälle anda till 18 knlatomer, R¿ betecknar väte, klor, brom, en alkyl- eller alkoxigrupp med vid varje tillfälle ända till 4 kolatomer, RS och R4, som kan vara lika eller olika, betecknar vardera en alkylgrnpp med anda till 0, tillsammans 2 till 10 kolatomer, RS betecknar väte, en alkyl- eller alkaneylgrnpp med vid varje tillfälle anda till 4 kolatomer, och Rh betecknar väte eller, när RI betecknar väte och R2 betecknar en 2-metylgrupp, aven en metylgrupp, sasom sensibilísator För fotopolymerisationen av fotopolymeriser- bara nmflttade föreningar eller blandningar. '. Anvandning av en substituerad bydroxialkylfenon enligt n. krav I, såsom UV-hürdare för tryckfürger.
SE7805579A 1977-05-17 1978-05-16 Anvendning av en substituerad hydroxialkylfenon som fotosensibilisator SE443788B (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2722264A DE2722264C2 (de) 1977-05-17 1977-05-17 Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SE7805579L SE7805579L (sv) 1978-11-18
SE443788B true SE443788B (sv) 1986-03-10

Family

ID=6009210

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE7805579A SE443788B (sv) 1977-05-17 1978-05-16 Anvendning av en substituerad hydroxialkylfenon som fotosensibilisator

Country Status (15)

Country Link
US (3) US4347111A (sv)
JP (1) JPS6026403B2 (sv)
AT (1) AT368170B (sv)
BE (1) BE867137A (sv)
BR (1) BR7803068A (sv)
CA (1) CA1233931A (sv)
CH (1) CH644772A5 (sv)
DE (1) DE2722264C2 (sv)
DK (1) DK152737C (sv)
ES (1) ES469892A1 (sv)
FR (1) FR2391183A1 (sv)
GB (2) GB1598593A (sv)
IT (1) IT1102750B (sv)
NL (1) NL187684C (sv)
SE (1) SE443788B (sv)

Families Citing this family (237)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2722264C2 (de) * 1977-05-17 1984-06-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
EP0003002B1 (de) 1977-12-22 1984-06-13 Ciba-Geigy Ag Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone
EP0107198B1 (de) * 1977-12-22 1987-07-08 Ciba-Geigy Ag Verwendung von 2-Hydroxy-2-methyl(p-chlorpropiophenon) als Photoinitiator
US4351708A (en) 1980-02-29 1982-09-28 Ciba-Geigy Corporation Photochemically or thermally polymerizable mixtures
DE3010148A1 (de) 1980-03-15 1981-09-24 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Neue gemische auf basis von aromatisch-aliphatischen ketonen, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche gemische
JPS5810525A (ja) * 1981-06-15 1983-01-21 Sagami Chem Res Center 光学活性な１−芳香族基置換−１−アルカノン類の製造方法
DE3203096A1 (de) * 1982-01-30 1983-08-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von hydroxyalkylphenonen als initiatoren fuer die strahlungshaertung waessriger prepolymerdispersionen
DE3360384D1 (en) * 1982-05-07 1985-08-14 Ciba Geigy Ag Process for the preparation of 1-hydroxyketones
US4498964A (en) * 1982-06-15 1985-02-12 Ciba-Geigy Corporation Process for the photopolymerization of unsaturated compounds
DE3471486D1 (de) * 1983-08-15 1988-06-30 Ciba Geigy Ag Photocurable compositions
US4780486A (en) * 1983-10-26 1988-10-25 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition
US5124212A (en) * 1983-10-26 1992-06-23 Dow Corning Corporation Articles prepared from fast ultraviolet radiation curing silicone composition
US4946874A (en) * 1983-10-26 1990-08-07 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition containing two vinyl polymers
US5169879A (en) * 1983-10-26 1992-12-08 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition
US5162389A (en) * 1983-10-26 1992-11-10 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition having a high refractive index
IT1176018B (it) * 1984-04-12 1987-08-12 Lamberti Flli Spa Chetoni aromatico alifatici polimerici o polimerizzabili adatti all'impiego come fotoiniziatori di polimerizzazione
DE3512179A1 (de) * 1985-04-03 1986-12-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Fotoinitiatoren fuer die fotopolymerisation in waessrigen systemen
US4906675A (en) * 1986-02-12 1990-03-06 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Active energy ray-curable composition
FI863015A (fi) * 1986-07-22 1988-01-23 Petri Porras Akrylat/uretan uv-torkningssystem.
DE3768919D1 (en) * 1986-11-26 1991-05-02 Ciba Geigy Ag Fluessige photoinitiatorgemische.
US4902724A (en) * 1986-12-22 1990-02-20 General Electric Company Photocurable acrylic coating composition
US4902725A (en) * 1986-12-22 1990-02-20 General Electric Company Photocurable acrylic coating composition
MX169697B (es) * 1987-12-28 1993-07-19 Ppg Industries Inc Mejoras a composiciones fraguables por radiacion basadas sobre poliesteres insaturados y compuestos teniendo por lo menos dos grupos de vinil eter
DE3826947A1 (de) * 1988-08-09 1990-02-22 Merck Patent Gmbh Thioxanthonderivate, ihre verwendung als fotoinitiatoren, fotopolymerisierbare bindemittelsysteme sowie verfahren zur herstellung einer strahlungsgehaerteten beschichtung
US5340653A (en) * 1988-08-12 1994-08-23 Stamicarbon B.V. Free-radical curable compositions comprising vinyl ether and urethane malenate compounds
US5334456A (en) * 1988-08-12 1994-08-02 Stamicarbon B.V. Free-radical curable compositions
US5334455A (en) * 1988-08-12 1994-08-02 Stamicarbon B.V. Free-radical curable compositions
WO1990001512A1 (en) * 1988-08-12 1990-02-22 Desoto, Inc. Photo-curable vinyl ether compositions
JPH0281805A (ja) * 1988-09-19 1990-03-22 Nisshin Kogyo Kk 貯溜排出装置の排出口開閉装置
CA2047698A1 (en) * 1989-03-07 1990-09-08 John T. Vandeberg Free-radical curable compositions
CA2047693A1 (en) * 1989-03-07 1990-09-08 Gerry K. Noren Free-radical curable compositions
CA2047669A1 (en) * 1989-03-07 1990-09-08 Gerry K. Noren Free-radical curable compositions
US4943600A (en) * 1989-03-10 1990-07-24 Desoto, Inc. Photocurable polyamine-ene compositions having improved cure speed
US4987159A (en) * 1990-04-11 1991-01-22 Fratelli Lamberti S.P.A. Carbonyl derivatives of 1-phenylindan suitable for use as polymerization photoinitiators, their preparation and use
US5202359A (en) * 1990-05-17 1993-04-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photoinitiators that are soluble in highly fluorinated monomers
DE4022234A1 (de) * 1990-07-12 1992-01-16 Herberts Gmbh Verfahren zur herstellung von schutz-, hilfs- und isoliermaterialien auf faserbasis, fuer elektrische zwecke und optische leiter unter verwendung von durch energiereiche strahlung haertbaren impraegniermassen
US6046250A (en) * 1990-12-13 2000-04-04 3M Innovative Properties Company Hydrosilation reaction utilizing a free radical photoinitiator
US6376569B1 (en) * 1990-12-13 2002-04-23 3M Innovative Properties Company Hydrosilation reaction utilizing a (cyclopentadiene)(sigma-aliphatic) platinum complex and a free radical photoinitiator
US5559163A (en) * 1991-01-28 1996-09-24 The Sherwin-Williams Company UV curable coatings having improved weatherability
US5773487A (en) * 1991-05-15 1998-06-30 Uv Coatings, Inc. Finishing composition which is curable by UV light and method of using same
AU1997392A (en) * 1991-05-15 1992-12-30 Andrew A. Sokol Finishing composition which is curable by uv light and method of using same
CA2089996C (en) * 1992-04-13 2004-04-27 Brent R. Boldt Ultraviolet radiation curable gasket coating
US5667227A (en) * 1992-04-13 1997-09-16 Dana Corporation Ultraviolet radiation cured gasket coating
CA2143607A1 (en) * 1992-09-30 1994-04-14 Peter J. Gorzalski Pigmented compositions and methods for producing radiation curable coatings of very low gloss
DE4302123A1 (de) * 1993-01-27 1994-07-28 Herberts Gmbh Verfahren zum Bedrucken von Glashohlkörpern
US5631049A (en) * 1993-07-27 1997-05-20 Boldt; Brent R. Process of curing a gasket coating
US6017661A (en) 1994-11-09 2000-01-25 Kimberly-Clark Corporation Temporary marking using photoerasable colorants
US5773182A (en) 1993-08-05 1998-06-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of light stabilizing a colorant
US5865471A (en) 1993-08-05 1999-02-02 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photo-erasable data processing forms
US5643356A (en) 1993-08-05 1997-07-01 Kimberly-Clark Corporation Ink for ink jet printers
US5700850A (en) 1993-08-05 1997-12-23 Kimberly-Clark Worldwide Colorant compositions and colorant stabilizers
US5721287A (en) 1993-08-05 1998-02-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of mutating a colorant by irradiation
CA2120838A1 (en) 1993-08-05 1995-02-06 Ronald Sinclair Nohr Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation
US5645964A (en) 1993-08-05 1997-07-08 Kimberly-Clark Corporation Digital information recording media and method of using same
US5733693A (en) 1993-08-05 1998-03-31 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for improving the readability of data processing forms
US5681380A (en) 1995-06-05 1997-10-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Ink for ink jet printers
US6211383B1 (en) 1993-08-05 2001-04-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nohr-McDonald elimination reaction
US6017471A (en) 1993-08-05 2000-01-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants and colorant modifiers
US6071979A (en) 1994-06-30 2000-06-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor
US6242057B1 (en) 1994-06-30 2001-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition and applications therefor
US5739175A (en) 1995-06-05 1998-04-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer
US5685754A (en) 1994-06-30 1997-11-11 Kimberly-Clark Corporation Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor
US6008268A (en) 1994-10-21 1999-12-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor
US5747550A (en) 1995-06-05 1998-05-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material
US5837429A (en) 1995-06-05 1998-11-17 Kimberly-Clark Worldwide Pre-dyes, pre-dye compositions, and methods of developing a color
US5798015A (en) 1995-06-05 1998-08-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition
US5849411A (en) 1995-06-05 1998-12-15 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition
US5811199A (en) 1995-06-05 1998-09-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Adhesive compositions containing a photoreactor composition
US5786132A (en) 1995-06-05 1998-07-28 Kimberly-Clark Corporation Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color
JP2000506550A (ja) 1995-06-28 2000-05-30 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド 新規な着色剤および着色剤用改質剤
AU7374296A (en) * 1995-09-26 1998-01-05 Andrew A. Sokol Finishing composition which is curable by uv light and method of using same
US5782963A (en) 1996-03-29 1998-07-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US6099628A (en) 1996-03-29 2000-08-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
CA2210480A1 (en) 1995-11-28 1997-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Improved colorant stabilizers
US5855655A (en) 1996-03-29 1999-01-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
DE19546899C1 (de) 1995-12-15 1997-01-09 Herberts Gmbh Überzugsmittel und Verwendung des Überzugsmittels
US5891229A (en) 1996-03-29 1999-04-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
SG53043A1 (en) * 1996-08-28 1998-09-28 Ciba Geigy Ag Molecular complex compounds as photoinitiators
DE19635447C1 (de) * 1996-08-31 1997-11-20 Herberts Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Reparaturlackierung
AU720650B2 (en) * 1997-02-19 2000-06-08 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. (Co)polymers by Photopolymerization
US6524379B2 (en) 1997-08-15 2003-02-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
KR100591999B1 (ko) 1998-06-03 2006-06-22 킴벌리-클라크 월드와이드, 인크. 마이크로에멀젼 기술에 의해 제조된 네오나노플라스트 및잉크젯 프린팅용 잉크
BR9906513A (pt) 1998-06-03 2001-10-30 Kimberly Clark Co Fotoiniciadores novos e aplicações para osmesmos
CA2336641A1 (en) 1998-07-20 2000-01-27 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Improved ink jet ink compositions
BR9914123B1 (pt) 1998-09-28 2010-11-30 fotoiniciadores e aplicações para os mesmos.
DE50003989D1 (de) * 1999-01-12 2003-11-13 Clariant Finance Bvi Ltd Benzophenone und ihre verwendung als photoinitiatoren
US6368396B1 (en) 1999-01-19 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US6331056B1 (en) 1999-02-25 2001-12-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Printing apparatus and applications therefor
US6294698B1 (en) 1999-04-16 2001-09-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoinitiators and applications therefor
US6368395B1 (en) 1999-05-24 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same
SE9903748D0 (sv) * 1999-10-19 1999-10-19 Amersham Pharm Biotech Ab Method and kit for the manufacture of separation gels
WO2002000735A1 (en) 2000-06-19 2002-01-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel photoinitiators and applications therefor
US6350792B1 (en) 2000-07-13 2002-02-26 Suncolor Corporation Radiation-curable compositions and cured articles
US7001644B2 (en) 2000-12-13 2006-02-21 Ciba Specialty Chemicals Corp. Surface-active photoinitiators
ITVA20010011A1 (it) * 2001-04-24 2002-10-24 Lamberti Spa Miscele solide di derivati alfa-idrossicarbonilici di oligomeri dell'alfa-metilstirene e loro uso.
TWI312786B (en) * 2001-11-08 2009-08-01 Ciba Sc Holding Ag Novel difunctional photoinitiators
CA2418294A1 (en) * 2002-03-08 2003-09-08 Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft Imaging method for printing forms
DE10248111A1 (de) * 2002-10-15 2004-04-29 Goldschmidt Ag Verwendung von Photoinitiatoren vom Typ Hydroxyalkylphenon in strahlenhärtbaren Organopolysiloxanen für die Herstellung von abhäsiven Beschichtungen
EP1613706A1 (en) * 2003-04-16 2006-01-11 Ciba SC Holding AG Radiation curable ink-jet ink containing an alpha hydroxy ketone as photoinitiator
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
ITVA20030028A1 (it) 2003-08-07 2005-02-08 Lamberti Spa Sistemi fotopolimerizzabili trasparenti per la preparazione di rivestimenti ad elevato spessore.
DE10359764A1 (de) * 2003-12-19 2005-07-14 Goldschmidt Ag Polysiloxane mit über SiOC-Gruppen gebundenen (Meth)acrylsäureestergruppen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung als strahlenhärtbare abhäsive Beschichtung
US20050170101A1 (en) * 2004-02-04 2005-08-04 Ecology Coatings, Inc. Environmentally friendly assemblages, facilities, and processes for applying an opaque,100% solids, actinic radiation curable coating to objects
US7151123B2 (en) * 2004-02-04 2006-12-19 Ecology Coating, Inc. Environmentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions and coated surfaces and coated articles thereof
US20050170100A1 (en) * 2004-02-04 2005-08-04 Weine Ramsey Sally J. Process for applying an opaque, corrosion resistant, 100% solids, UV curable finish to parts for underhood use in motor vehicles
US7425586B2 (en) * 2004-02-04 2008-09-16 Ecology Coatings, Inc. Environmentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions and coated surfaces and coated articles thereof
US7192992B2 (en) * 2004-02-04 2007-03-20 Ecology Coating, Inc. Environmentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions for coating thermally sensitive surfaces and/or rusted surfaces and methods, processes and assemblages for coating thereof
US7498362B2 (en) * 2004-03-08 2009-03-03 Ecology Coatings, Inc. Environmentally friendly coating compositions for coating metal objects, coated objects therefrom and methods, processes and assemblages for coating thereof
WO2005087817A1 (en) * 2004-03-08 2005-09-22 Ecology Coatings, Inc. Environmentally friendly coating compositions for coating metal objects, coated objects therefrom, and methods, processes and assemblages for coating thereof
US7323248B2 (en) * 2004-03-13 2008-01-29 Ecology Coatings, Inc. Environmentally friendly coating compositions for coating composites, coated composites therefrom, and methods, processes and assemblages for coating thereof
US20050203205A1 (en) * 2004-03-13 2005-09-15 Weine Ramsey Sally J. Composition of matter comprising UV curable materials incorporating nanotechnology for the coating of fiberglass
JP4544913B2 (ja) * 2004-03-24 2010-09-15 富士フイルム株式会社 表面グラフト形成方法、導電性膜の形成方法、金属パターン形成方法、多層配線板の形成方法、表面グラフト材料、及び導電性材料
US20050234152A1 (en) * 2004-04-16 2005-10-20 Ecology Coatings, Inc. Enviromentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions for coating surfaces of wooden objects and methods, processes and assemblages for coating thereof
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
JP4967378B2 (ja) * 2005-03-29 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 インク組成物
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006335826A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
US20080132599A1 (en) 2006-11-30 2008-06-05 Seiko Epson Corporation. Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
JP5472670B2 (ja) 2007-01-29 2014-04-16 セイコーエプソン株式会社 インクセット、インクジェット記録方法及び記録物
DE102007005508A1 (de) 2007-02-03 2008-08-07 Evonik Goldschmidt Gmbh Verfahren zur Reduktion des Trennwert-Anstiegs bei der Herstellung von No-Label-Look-Etiketten
EP1955858B1 (en) 2007-02-06 2014-06-18 FUJIFILM Corporation Ink-jet recording method and device
US8240808B2 (en) 2007-02-07 2012-08-14 Fujifilm Corporation Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
US8894197B2 (en) 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
US9199934B2 (en) * 2007-04-04 2015-12-01 Basf Se Alpha-hydroxyketones
EP2028241A1 (en) * 2007-08-09 2009-02-25 Seiko Epson Corporation Photocurable ink composition, ink cartridge, inkjet recording method and recorded matter
JP4816976B2 (ja) * 2007-08-09 2011-11-16 セイコーエプソン株式会社 光硬化型インク組成物
JP4766281B2 (ja) * 2007-09-18 2011-09-07 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP2009269397A (ja) 2008-02-29 2009-11-19 Seiko Epson Corp 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
US8507726B2 (en) 2008-11-03 2013-08-13 Basf Se Photoinitiator mixtures
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5374403B2 (ja) 2009-02-13 2013-12-25 三菱製紙株式会社 感光性平版印刷版材料
JP2010209183A (ja) 2009-03-09 2010-09-24 Fujifilm Corp インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5692490B2 (ja) * 2010-01-28 2015-04-01 セイコーエプソン株式会社 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP2011152747A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Seiko Epson Corp 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP5554114B2 (ja) 2010-03-29 2014-07-23 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法
US8573765B2 (en) 2010-03-31 2013-11-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter
JP2012031388A (ja) 2010-05-19 2012-02-16 Fujifilm Corp 印刷方法、オーバープリントの作製方法、ラミネート加工方法、発光ダイオード硬化性コーティング組成物、及び、発光ダイオード硬化性インク組成物
JP5606817B2 (ja) 2010-07-27 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法
EP2423277A3 (en) 2010-08-27 2012-05-09 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
WO2012117944A1 (ja) 2011-02-28 2012-09-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、画像形成方法及び印画物
JP2012201874A (ja) 2011-03-28 2012-10-22 Fujifilm Corp インク組成物、及び画像形成方法
JP5300904B2 (ja) 2011-03-31 2013-09-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
DE102011106816B9 (de) * 2011-05-30 2018-05-30 Kulzer Gmbh Nach Härtung bruchresistentes Prothesenbasismaterial, erhalten aus autopolymerisierenden oder kaltpolymerisierenden Zusammensetzungen
JP5764416B2 (ja) 2011-07-08 2015-08-19 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
CN103842449B (zh) 2011-09-29 2015-12-23 富士胶片株式会社 喷墨油墨组合物及喷墨记录方法
EP2824149B1 (en) 2012-03-09 2016-07-06 Fujifilm Corporation Radiation-curable ink-jet ink set and ink-jet recording method
EP2644664B1 (en) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
JP5606567B2 (ja) 2012-04-19 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品
CN104603168B (zh) 2012-09-14 2016-07-06 富士胶片株式会社 固化性组合物及图像形成方法
EP2902096A4 (en) 2012-09-28 2016-01-27 Fujifilm Corp FUNCTIONAL POLYMER MEMBRANE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
CN104684634B (zh) 2012-09-28 2017-04-26 富士胶片株式会社 高分子功能性膜及其制造方法
JP6126498B2 (ja) 2013-02-15 2017-05-10 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
EP2965803B1 (en) 2013-03-07 2019-05-15 FUJIFILM Corporation Functional polymer membrane and manufacturing method therefor
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
JP6004971B2 (ja) 2013-03-12 2016-10-12 富士フイルム株式会社 加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェットインク組成物、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェット記録方法、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクセット、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用加飾シート、加飾シート成形物、及び、インモールド成形品の製造方法
WO2014208076A1 (en) * 2013-06-24 2014-12-31 Toyo Gosei Co., Ltd. Reagent for enhancing generation of chemical species
CN104250207A (zh) * 2013-06-30 2014-12-31 江苏英力科技发展有限公司 一种制备2-甲基-1-[4-(叔丁基)苯基]-1-丙酮的方法
US9982150B2 (en) 2013-08-12 2018-05-29 Sun Chemical Corporation Oligomeric aminoketones and their use as photoinitiators
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
CN105593200B (zh) * 2013-09-30 2018-01-02 富士胶片株式会社 α‑卤代苯乙酮化合物的制造方法及α‑溴代苯乙酮化合物
JP6066960B2 (ja) 2014-05-30 2017-01-25 富士フイルム株式会社 成形加工用活性光線硬化型インク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、成形加工用加飾シート、加飾シート成形物及びインモールド成形品の製造方法
CN105152898B (zh) * 2015-06-23 2017-04-26 杭华油墨股份有限公司 苯基丁酮衍生物与其作为光引发剂的应用
EP3342792B1 (en) 2015-08-27 2020-04-15 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin and film
CN108602931B (zh) 2016-02-05 2021-03-09 富士胶片株式会社 水分散物及其制造方法、以及图像形成方法
EP3412730A4 (en) 2016-02-05 2019-02-20 FUJIFILM Corporation AQUEOUS DISPERSION, MANUFACTURING METHOD AND PICTURE PRODUCTION METHOD
JP6537637B2 (ja) 2016-02-05 2019-07-03 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017138434A1 (ja) 2016-02-10 2017-08-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP6755339B2 (ja) 2017-01-30 2020-09-16 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物及びインクジェット記録方法
WO2018155174A1 (ja) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
EP3587513B1 (en) 2017-02-24 2023-12-06 FUJIFILM Corporation Photo-curable ink composition and method for forming image
EP3604458B1 (en) 2017-03-30 2021-05-05 FUJIFILM Corporation Photocurable ink composition and image formation method
WO2018186224A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
EP3608376B1 (en) 2017-04-03 2024-09-11 FUJIFILM Corporation Ink composition, production method therefor, and image formation method
ES2867807T3 (es) 2017-04-24 2021-10-20 Igm Group B V Proceso para la preparación de cetonas a-funcionalizadas
EP3395806B1 (en) 2017-04-24 2020-04-08 IGM Group B.V. Simple oxidative functionalization of alkyl aryl ketones
CN110573582B (zh) 2017-04-26 2022-04-19 富士胶片株式会社 光固化性油墨组合物及图像形成方法
JP6861811B2 (ja) 2017-06-20 2021-04-21 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
CN111032794B (zh) 2017-07-26 2022-09-06 富士胶片株式会社 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法
WO2019044511A1 (ja) 2017-08-29 2019-03-07 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2019064979A1 (ja) 2017-09-27 2019-04-04 富士フイルム株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、遮光膜、及び遮光膜の製造方法
JP6942243B2 (ja) 2018-03-27 2021-09-29 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
EP3778791A4 (en) 2018-03-27 2021-05-19 FUJIFILM Corporation LIGHT CURABLE INK COMPOSITION AND IMAGE GENERATION METHOD
GB201815405D0 (en) 2018-09-21 2018-11-07 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules
GB201815407D0 (en) 2018-09-21 2018-11-07 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions
EP3936579A4 (en) 2019-03-06 2022-04-20 FUJIFILM Corporation INK-JET PRINTING INK COMPOSITION, IMAGE PRINTING METHOD AND OBJECT WITH PRINTED IMAGE
EP3950856B1 (en) 2019-03-29 2024-04-17 FUJIFILM Corporation Photocurable ink composition and image recording method
GB201904581D0 (en) 2019-04-02 2019-05-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes and processes for their preparation
GB201917710D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917711D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
EP4183845A4 (en) 2020-07-15 2023-12-06 FUJIFILM Corporation INK SET FOR RECORDING A SECURITY IMAGE, SECURITY IMAGE RECORDING METHOD AND SECURITY IMAGE RECORDING
GB202013838D0 (en) 2020-09-03 2020-10-21 Fujifilm Mfg Europe Bv Composite membrane
GB202015379D0 (en) 2020-09-29 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202015440D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Compounds, compositions and polymer films
GB202015546D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202015436D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Compositions and polymer films
GB202019478D0 (en) 2020-12-10 2021-01-27 Fujifilm Corp Purifying polar liquids
GB202101153D0 (en) 2021-01-28 2021-03-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Polymer films
GB202104408D0 (en) 2021-03-29 2021-05-12 Fujifilm Mfg Europe Bv Cationically charged membranes
GB202104403D0 (en) 2021-03-29 2021-05-12 Fujifilm Mfg Europe Bv Polymer Film
GB202113996D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Films and their uses
GB202113997D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202113999D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202114000D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202201759D0 (en) 2022-02-11 2022-03-30 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202204631D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202204625D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Bipolar membranes
GB202204633D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Bipolar membranes
GB202207568D0 (en) 2022-05-24 2022-07-06 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
WO2024068598A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068601A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068595A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024132502A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024132498A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2647080A (en) * 1950-06-30 1953-07-28 Du Pont Light-stabilized photopolymerization of acrylic esters
US2892865A (en) * 1957-09-20 1959-06-30 Erba Carlo Spa Process for the preparation of tertiary esters of benzoylcarbinol
DE1769854U (de) 1958-05-03 1958-07-10 Schloemann Ag Blockvorstoss an oefen mit stirnseitiger ausstossoeffnung.
NL125868C (sv) * 1964-01-29
DE1668734A1 (de) * 1967-10-17 1971-10-07 Takeda Chemical Industries Ltd Alkylbenzoylcarbinolester und Verfahren zu ihrer Herstellung
US3660542A (en) * 1969-12-11 1972-05-02 Takeda Chemical Industries Ltd Alkylbenzoylcarbinol phosphate esters
GB1379259A (en) 1970-12-07 1975-01-02 Kansai Paint Co Ltd Photopolymerizable compositions
GB1408265A (en) * 1971-10-18 1975-10-01 Ici Ltd Photopolymerisable composition
FR2156486A1 (en) 1971-10-22 1973-06-01 Roussel Uclaf Oxazolyl oxy or thio acetic acids - analgesics antipyretics and anti-inflammatories
US3715293A (en) 1971-12-17 1973-02-06 Union Carbide Corp Acetophenone-type photosensitizers for radiation curable coatings
US3801329A (en) * 1971-12-17 1974-04-02 Union Carbide Corp Radiation curable coating compositions
US3933682A (en) * 1973-01-31 1976-01-20 Sun Chemical Corporation Photopolymerization co-initiator systems
FR2235907A1 (en) * 1973-07-06 1975-01-31 Union Carbide Corp Aryl diakoxy methyl ketone prepn. - from alkyl nitrite, aryl methyl ketone and alkanol, used as photo-sensitisers in polymer hardening
DE2343362A1 (de) 1973-08-28 1975-03-13 Merck & Co Inc Verfahren zum fotolyitschen abbau von propylketon oder aethylesterverbindungen unter ergaenzung von aethylen zur verwendung als bioregelung oder herbizid
GB1494191A (en) * 1973-12-17 1977-12-07 Lilly Industries Ltd Preparation of alpha-acyloxy aldehydes and ketones
JPS5831433B2 (ja) * 1974-06-27 1983-07-06 東洋紡績株式会社 ポリエステルセンイセイヒンノ ナツセンホウホウ
US4017652A (en) * 1974-10-23 1977-04-12 Ppg Industries, Inc. Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same
US4054719A (en) * 1976-11-23 1977-10-18 American Cyanamid Company Phenacyl ester photosensitizers for radiation-curable coatings
DE2722264C2 (de) * 1977-05-17 1984-06-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
US4142054A (en) * 1977-06-16 1979-02-27 The Upjohn Company Process for preparing arylalkanoic acid derivatives
EP0003002B1 (de) * 1977-12-22 1984-06-13 Ciba-Geigy Ag Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone
EP0007468B1 (de) * 1978-07-13 1982-04-07 Ciba-Geigy Ag Photohärtbare Zusammensetzungen

Also Published As

Publication number Publication date
DE2722264A1 (de) 1978-11-23
US4721734A (en) 1988-01-26
DE2722264C2 (de) 1984-06-28
DK214978A (da) 1978-11-18
US4347111A (en) 1982-08-31
US4477681A (en) 1984-10-16
ES469892A1 (es) 1979-10-01
CA1233931A (en) 1988-03-08
SE7805579L (sv) 1978-11-18
NL187684C (nl) 1991-12-16
DK152737B (da) 1988-05-02
BR7803068A (pt) 1979-01-02
CH644772A5 (de) 1984-08-31
GB1598592A (en) 1981-09-23
NL7805346A (nl) 1978-11-21
AT368170B (de) 1982-09-27
BE867137A (nl) 1978-11-17
JPS53144539A (en) 1978-12-15
IT1102750B (it) 1985-10-07
FR2391183B1 (sv) 1983-11-18
ATA353078A (de) 1982-01-15
FR2391183A1 (fr) 1978-12-15
JPS6026403B2 (ja) 1985-06-24
DK152737C (da) 1988-10-03
IT7849364A0 (it) 1978-05-15
GB1598593A (en) 1981-09-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE443788B (sv) Anvendning av en substituerad hydroxialkylfenon som fotosensibilisator
TW200406426A (en) Novel difunctional photoinitiators
JP3182720B2 (ja) α−アミノアセトフェノン誘導体
JP4461013B2 (ja) 新規な二官能性光開始剤
TWI406847B (zh) 肟酯化合物及使用其之感光性樹脂組成物
JP5647738B2 (ja) 高感光度のカルバゾールオキシムエステル系光開始剤、その製造方法及び使用
US4212970A (en) 2-Halomethyl-5-vinyl-1,3,4-oxadiazole compounds
KR102257105B1 (ko) 액체 비스아실포스핀 옥시드 광개시제
JP4914972B2 (ja) オキシムエステル化合物、オキシムエステル化合物の製造方法、光重合開始剤および感光性組成物
EP2411359B1 (en) Novel oligofunctional photoinitiators
WO2018149370A1 (zh) 芴氨基酮类光引发剂、其制备方法及含芴氨基酮类光引发剂的uv光固化组合物
WO2016034963A1 (en) Polycyclic photoinitiators
KR20190029707A (ko) 플루오렌 광개시제, 그 제조 방법, 이를 갖는 광경화성 조성물, 및 광경화 분야에서 그 용도
WO2012159213A1 (en) Compounds with oxime ester and/or acyl groups
EP2129659B1 (en) Alpha-hydroxyketones
WO2020253284A1 (zh) 一种含有酰基咔唑衍生物和咔唑基肟酯的光引发剂组合物及其在光固化组合物中的应用
DE2808459A1 (de) Hydroxyalkylphenone und ihre verwendung als photosensibilisatoren
JPH0228130A (ja) 置換ナフタセン―５，１２―ジオン類及びその用途
DE2759766C2 (sv)

Legal Events

Date Code Title Description
NAL Patent in force

Ref document number: 7805579-5

Format of ref document f/p: F

NUG Patent has lapsed

Ref document number: 7805579-5

Format of ref document f/p: F